一种真空工艺控制方法、装置、终端设备及存储介质

    公开(公告)号:CN114167822B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202111304849.4

    申请日:2021-11-05

    IPC分类号: G05B19/418

    摘要: 本发明公开了一种真空工艺控制方法、装置、终端设备及存储介质,方法包括:根据真空箱内部的几何尺寸和电容器单元的几何尺寸建立有限元仿真模型;根据真空箱内每一注油口布置的气压传感器位置、真空箱出风口布置的气压传感器和风速传感器位置,设置关于有限元仿真模型的条件边界;获取所有气压传感器和风速传感器采集到的传感器数据;根据传感器数据对每个条件边界的参数进行设置;根据有限元仿真模型和条件边界进行仿真计算,得到仿真结果;仿真结果包括每个电容器单元内部的气压和水含量;根据仿真结果对每个电容器单元内部的真空度进行评估,根据评估结果判断抽真空是否达标。本方法能实现电容器单元真空度的评估,提高真空处理一致性。