一种狭小空间内部打磨处理装置

    公开(公告)号:CN211728754U

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201921964567.5

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 本实用新型属于基体表面处理技术领域,具体涉及一种狭小空间内部打磨处理装置。该装置包括主体、延伸杆、振动打磨头和振动电机;振动打磨头安装在主体的头部,振动电机安装在主体中;所述振动打磨头为多瓣式结构,为圆柱形振动打磨头或扁形振动打磨头,由硬质合金粉末烧结而成;主体和/或延伸杆由一整根40Cr棒材切削加工而成。有益效果:能够将振动电机的高频微幅振动高效的转化为振动打磨头对需要处理面的敲击碰撞,从而实现打磨的效果,清理掉基体上残留的涂层及锈迹;且本装置的打磨头由多个振动片组成,使其能够深入到狭小空间的内部,延伸杆的设计使其能够触及到传统打磨工具难以触及到的地方。

    一种新型参比电极固定装置

    公开(公告)号:CN209816287U

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201822224737.8

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本实用新型属于核电厂海水管道防腐技术领域,具体涉及一种新型参比电极固定装置。本实用新型的参比电极和法兰采用T型结构连接,通过参比电极和法兰挤压垫圈使参比电极和法兰细孔处,近似于隔绝状态,可以有效的防止海水的外漏。法兰上部采用细孔结构,与导线紧密相连,使固定装置的密封性更好。法兰与密封盖通过螺纹连接有密封圈,可以有效的防止外部腐蚀介质进入法兰,腐蚀法兰螺纹。密封盖与导线相连处有导线密封圈,可以有效的防止外部腐蚀介质的进入。本实用新型的新型参比电极固定装置具有结构简单,安装拆卸方便,成本低等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种牺牲阳极铁脚校正装置

    公开(公告)号:CN209669355U

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201821759487.1

    申请日:2018-10-29

    Abstract: 本专利属于材料防护领域,主要涉及一种牺牲阳极块的铁脚校正装置。为了快速的使变形了的牺牲阳极块的铁脚校正,发明一种阳极块铁脚的校正装置,在不损害阳极块的情况下,快速安全的校正变形的铁脚。本装置包括:工作平台、牺牲阳极块、冲压头、冲压头连接螺栓、操作杆、支撑,操作杆一端开有U型孔,U型孔中间穿插有连接杆,操作杆中部下方有带螺孔的金属销片;冲压头上部开有孔洞,冲压头连接螺栓金属销片螺孔和冲压头上部孔洞中穿过,冲压头和操作杆通过冲压头连接螺栓连接;支撑上部开有孔洞,操作杆的连接杆从支撑上部孔洞中穿过。本装置能够在不损害阳极块的情况下,快速安全的校正变形的铁脚,且操作简单,操作效率较高。

    一种火花直读光谱仪用防沾污装置

    公开(公告)号:CN209400425U

    公开(公告)日:2019-09-17

    申请号:CN201821891300.3

    申请日:2018-11-16

    Abstract: 本实用新型属于核电维修技术领域,具体涉及一种火花直读光谱仪用防沾污装置。该装置包括外罩、内衬和卡套组成的闭合腔体以及一个穿过卡套连接内衬的进气管;利用氩气作为保护气体保持火花台外侧微正压气氛,外罩2能够避免放射性气溶胶在火花台外侧吸附。该防沾污装置的微正压能够保证放射性气溶胶污染物不能够通过扩散附着到火花台表面,同时微正压保证不扰乱外部整体气体环境,避免外界放射性物质在扰动气流作用下加速扩散。防沾污装置与火花台之间形成保护气体气氛,避免试样元素分析结果误差。同时,防沾污装置滤网能够阻止放射性气溶胶污染物向火花台方向扩散,同时也便于对收集到的污染物进行后续处理。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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