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公开(公告)号：CN113960891B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
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公开(公告)号：CN113253572B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202110529681.0
申请日：2021-05-14
IPC: G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶及光刻加工方法，其特征在于智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶组份中包含一种可逆光敏引发剂，其具有可逆光敏性，在350‑550nm波长光源的刺激下，可逆光敏引发剂可以发生结构构象转变，失去对700‑1000nm飞秒激光的非线性吸收能力，变成失活状态，从而控制光刻胶的光化学反应，以获得更高的光刻精度，智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶，按质量百分比计，包括0.1‑6wt%可逆光敏引发剂A和94‑99.9wt%树脂B。
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公开(公告)号：CN116105891B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202310153853.8
申请日：2023-02-10
Applicant: 之江实验室
IPC: G01K11/324 , G01K15/00
Abstract: 本申请实施例提供一种高温传感装置及高温传感装置的标定方法，高温传感装置包括激光发射模块、单晶光纤模块、光学探测模块和数据处理模块；单晶光纤模块包括单晶光纤，单晶光纤用于激光的传输和激发背向散射信号；光学探测模块包括Stokes模块和反Stokes模块。本申请的高温传感装置的标定方法包括：获取单晶光纤在多个温度下的Stokes数据和反Stokes数据；对多个温度下的Stokes数据和反Stokes数据进行降噪处理；计算在多个温度下的反Stokes降噪数据与Stokes降噪数据的AS/S比值，确定温度和AS/S比值关系曲线。本申请的高温传感装置准确性高。
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公开(公告)号：CN113515017B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN113568279B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202110802368.X
申请日：2021-07-15
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统，采用两个空间光调制器分别对两束不同波长的入射光进行预调制，使两束光通过同一根多模光纤出射后，在距离光纤出射端面一定远处的平面上聚焦。从多模光纤出射的圆形激发光斑和环形抑制光斑同心且环形光斑覆盖住圆形光斑的大部分外围区域。本发明配合特制的负性光刻胶使用，通过激发光和抑制光同时作用于光刻胶，即可使实际被固化的光刻胶体素尺寸小于衍射极限的限制。通过改变空间光调制器所加载的相位图，无需机械位移装置即实现在某一平面小区域内的逐点扫描式光刻。通过多路复用上述结构，实现平面大区域的逐点扫描；再结合z方向位移台，实现三维立体结构的光刻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117270327A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311100405.8
申请日：2023-08-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法，所述装置包括按光路依次设置的飞秒激光光源、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦置样品处进行扫描刻写。与现有技术相比，本发明具有兼具高效率、任意复杂结构及灰度结构灵活刻写的优点。
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公开(公告)号：CN112326672B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202011232223.2
申请日：2020-11-06
IPC: G01N21/88 , G01N21/958 , G01N21/01
Abstract: 本发明公开了一种基于多色并行移频照明的快速成像系统，包括光源、显微物镜、管镜、多色图像探测器阵列、控制模块和数据处理模块，光源包括垂直照明光源和两组以上倾斜照明光源；同一组倾斜照明光源的照明波长相同，不同组倾斜照明光源的照明波长不同；垂直照明光源的照明波长与任一组倾斜照明光源的照明波长不同，或与其中一组倾斜照明光源的照明波长相同。本发明利用照明光场的波长差异性，通过控制模块并行施加多色倾斜照明光场，利用多色图像探测器阵列快速并行采集各照明波长下被观测样品的远场像；借助数据处理模块，结合移频重构算法获取被观测样品宽频段空间频谱信息，重构恢复被观测样品的像，快速提升整个显微系统的成像速度。
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公开(公告)号：CN115755527B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202211447300.5
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种无光引发剂的光刻胶及其制备方法、图案化方法，该光刻胶按质量百分比计，由4‑84wt％的含硅氢键化合物A、1‑86wt％含羟基化合物B和0‑91wt％溶剂C组成。本发明的光刻胶无需额外添加光引发剂，通过激光诱导硅氢键和羟基进行反应，形成交联网络，从而显影后得到图案，操作简单，环境友好；同时，含硅氧烷结构的光刻胶体系具有耐腐蚀、耐氧化稳定性、电绝缘和耐高温等特性。
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公开(公告)号：CN114019765B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN116699950A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310700241.6
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明公开了一种提高飞秒激光光刻胶力学性能的方法及甲基九氟丁醚作为飞秒激光光刻胶显影剂的应用。所述提高飞秒激光光刻胶力学性能的方法包括以下步骤：步骤一：利用飞秒激光直写设备在基板上完成飞秒激光光刻胶图案的刻写；步骤二：将获得的光刻胶图案在一级显影剂中显影；步骤三：再将获得的光刻胶图案置于含有紫外光引发剂的二级显影剂中，并用紫外灯照射来进一步固化；步骤四：然后将获得的样品置于三级显影剂甲基九氟丁醚中显影，最后冲洗样品，自然晾干，得到光刻结构。本发明提供了甲基九氟丁醚作为飞秒激光光刻胶显影剂的应用。本发明应用范围广、操作简单、成本低，能显著提高光刻胶的固化程度，有效提高光刻结构的力学性能。
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