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公开(公告)号：CN112045303A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010863052.7
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
IPC: B23K26/073 , B23K26/06
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤的高通量超分辨焦斑生成装置，该装置首先生成抑制光光束阵列，将每路激光耦合至涡旋光纤，既可形成携带涡旋相位的光束，又可以减少器件成本和系统空间，再通过多通道声调制器进行特异性强度调制产生高通量暗斑；同时激发光光束阵列耦合进入激发路光纤阵列，再通过多通道声光调制器进行特异性强度调制产生实心光斑的；最后两种光束阵列进行合束，通过物镜聚焦形成两种相互叠加的光斑阵列，通过暗斑对实心光斑作用范围的抑制作用形成超分辨焦斑阵列。本发明可实现对暗斑的独立调控，用以实现高通量的激光直写加工和并行超分辨显微成像，有效提升加工速度和成像速度的提升；不需要额外的调制器件，系统结构紧凑。
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公开(公告)号：CN112034628A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010863941.3
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置，该装置首先生成用于产生高通量暗斑的激光，然后入射到加载衍射相位的空间调制器上，将光束分束为多路激光阵列，再将其入射到微透镜阵列上并聚焦，同时将光束阵列在微透镜阵列的傅里叶面上进行滤波，之后将光束阵列入射到高通量暗斑生成器件上进行相位调制，最后将光束阵列聚焦产生高通量的暗斑。本发明设计紧凑，集成度高；可以在生成大通量超衍射极限焦斑的同时实现对暗斑的高速特异性调控；可用于实现并行受激发射损耗显微成像和高通量双光束激光直写光刻，可实现并行系统的亚50nm分辨率，提升系统速度，保证激光直写加工速度和成像分辨率的同步稳定提升。
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公开(公告)号：CN112034626A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202010863942.8
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种高通量3D暗斑生成装置，并行光束阵列通过横向高通量暗斑阵列的器件后，每束光被调制为涡旋相位光，聚焦后形成横向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成横向暗斑阵列；并行光束阵列通过纵向高通量暗斑阵列的器件后，每束光都被调制为0-π相位分布，每束光聚焦后形成纵向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成纵向暗斑阵列；将两种光束进行合束，聚焦后两种光斑进行非相干叠加，形成高通量3D暗斑阵列。本发明可提供稳定的高质量高通量3D暗斑阵列；且器件成本低，体积小，可以实现系统的高度集成；可用于实现并行双光束激光直写和并行受激发射损耗显微成像，极大的提升加工和成像速度。
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公开(公告)号：CN110568731B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910853722.4
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制，从而在样品面产生实心焦斑阵列；使淬灭光束或去交联光束经过相位调制，从而在样品面产生空心焦斑阵列，并使这两个焦斑阵列对准，最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列，所以生成的焦斑数量可以为任意多个，从而实现高通量的超分辨成像与激光直写，与已有的方法相比，本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
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公开(公告)号：CN110568731A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201910853722.4
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制，从而在样品面产生实心焦斑阵列；使淬灭光束或去交联光束经过相位调制，从而在样品面产生空心焦斑阵列，并使这两个焦斑阵列对准，最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列，所以生成的焦斑数量可以为任意多个，从而实现高通量的超分辨成像与激光直写，与已有的方法相比，本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113189847B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202110428488.8
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。所述的激发光束和其对应的环形抑制光束均由同一光纤选模耦合器产生，两光束从选模耦合器出射时具有天然的同轴传输特性。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
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公开(公告)号：CN114019766B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202111266973.6
申请日：2021-10-28
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。
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公开(公告)号：CN117631149A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202210957817.2
申请日：2022-08-10
Abstract: 本发明提供了光纤通信技术领域一种聚合物光波导器件及其制备方法，包括聚合物包层和纤芯，所述纤芯设置在所述聚合物包层内，所述纤芯包括多根，多根所述纤芯互不接触设置，所述纤芯包括波导输入端、纤芯中间段以及波导输出端，所述波导输入端和所述波导输出端分别设置在所述纤芯中间段的两端，纤芯中间段采用三维结构波导过渡。本发明采用直写法工艺制备，流程简单，制备灵活，便于加工空间三维的波导结构，光波导器件实现了不同规格的多芯光纤之间的耦合对接，可对多芯光纤进行模场调控以及间距转换，加工效率高，器件体积小，便于灵活适配多种多芯光纤连接应用场景。
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公开(公告)号：CN113189848B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110428517.0
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，以及引入抑制光束阻止激发光焦斑边缘位置的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制；并通过光纤阵列和普通空间光学器件实现多通道并行直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。本发明使用普通市售的光纤及空间光学器件构建系统，可行性高、实现成本低。
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公开(公告)号：CN111999981B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202010909760.X
申请日：2020-09-02
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种智能飞秒激光光刻胶组合物及图案化方法，该智能飞秒激光光刻胶由智能活性单体、活性稀释剂、双光子引发剂及溶剂组成；其中，智能活性单体为特殊可光聚合的N‑取代丙烯酰胺类化合物；活性稀释剂为可光聚合的(甲基)丙烯酸酯类化合物；双光子引发剂为对飞秒激光具有非线性双光子吸收和引发能力的化合物。本发明智能飞秒激光光刻胶组合物可以被飞秒激光引发聚合，并对温度产生智能响应；当升高温度时，智能飞秒激光光刻胶发生均匀、稳定、可控的体积收缩，从而获得更高的分辨率和更小的特征尺寸，可以提高光刻胶的分辨率；通过控制智能活性单体的添加量可以控制光刻胶的收缩率，具有稳定可控的图案化制造能力。
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