检测及建立应用于噪声的MOS管模型的方法

    公开(公告)号:CN101329695B

    公开(公告)日:2010-04-21

    申请号:CN200710042459.8

    申请日:2007-06-22

    Inventor: 黄俊诚 赵芳芳

    CPC classification number: G06F17/5036

    Abstract: 本发明公开了一种建立应用于噪声的MOS管模型的方法,包括,测量不同晶粒上的MOS管的噪声;根据所得到的MOS管的噪声值,建立噪声分布图;至少添加一个原有噪声模型文件中的噪声参数的变化量到MOS管库文件中来对MOS管进行噪声仿真;如果仿真结果不能够覆盖噪声分布图中的数据,则继续改变噪声参数的变化量的值进行仿真直到仿真结果能够覆盖噪声分布图中的噪声数据;如果仿真结果能够覆盖噪声分布图中的数据,则将相应的噪声参数的变化量的值代入到MOS管库文件中作为应用于噪声的MOS管模型。通过本发明方法得到的应用于噪声的模型能够较精确地模拟真实情况。

    半导体器件漏电流检测方法

    公开(公告)号:CN101105518A

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200610028787.8

    申请日:2006-07-10

    Abstract: 一种半导体器件漏电流检测方法,包括:获得漏极电流与栅极电压关系曲线;将所述漏极电流与栅极电压关系曲线分段,对各分段区间求跨导,获得具有第一峰值和第二峰值的跨导与栅极电压关系曲线;计算跨导与栅极电压关系曲线内跨导第二峰值与两峰值之间跨导最小值的比值;将所述比值与预设判别标准比较,若所述比值符合预设判别标准,则判定漏电流对器件性能的影响满足产品要求;若所述比值超出预设判别标准,则判定漏电流对器件性能的影响已超出产品要求。

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