显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀剂及其腐蚀方法

    公开(公告)号:CN106404502A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610768856.2

    申请日:2016-08-30

    IPC分类号: G01N1/32

    CPC分类号: G01N1/32

    摘要: 本发明涉及一种显示高阻尼锰基铜合金晶粒边界的腐蚀方法,对Mn>70%和Cu>20%的高阻尼锰基铜合金进行金相腐蚀,按常规方法制得试样;将饱和苦味酸溶液与5%~15%硝酸酒精溶液按体积分数比1:0.8~1.1.2充分混合,常温放置至少10min;将试样的抛光面朝上并置入腐蚀剂中,经过至少4min腐蚀后,取出腐蚀后的高阻尼锰基铜合金试样用流水冲洗并用酒精清洗吹干,浸蚀完成晶界显示;在显微镜下以100倍观察并得到晶粒显示照片,并采用对比法或网格法或截点法进行晶粒判断。本发明腐蚀剂能腐蚀出清晰的晶粒度,避免腐蚀基体组织,解决了晶界与孪晶同时出现的问题,操作简单,判断准确性、精确性更高,使用安全。

    一种用于显示回火马氏体原始奥氏体晶粒边界的腐蚀剂及腐蚀方法

    公开(公告)号:CN105628480A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201510973402.4

    申请日:2015-12-21

    IPC分类号: G01N1/32

    CPC分类号: G01N1/32

    摘要: 本发明揭示了显示回火马氏体原始奥氏体晶粒边界的腐蚀剂及腐蚀方法,包括:回火马氏体腐蚀试样制备步骤:按照常规方法加工得到回火马氏体腐蚀试样;腐蚀剂制备步骤:将1g苦味酸置入100ml的蒸馏水中,完全溶解后,加入bml的洗涤剂并充分搅拌,常温放置后得到腐蚀剂;腐蚀步骤:将回火马氏体腐蚀试样置入腐蚀剂中,腐蚀T时间,取出流水冲洗并用酒精清洗吹干;晶粒判断:在显微镜下以500倍观察并得到晶粒显示照片,并进行晶粒判断。本发明在常温下腐蚀,不需要加热,经济实惠;并且腐蚀后的回火马氏体晶界明显完全不受组织影响,能够清晰观察各个晶粒,可根据实际情况采用对比法、网格法、截点法等进行晶粒评判,准确性、精确性更高。