光纤光栅加工装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117148489A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202310982846.9

    申请日:2023-08-04

    Abstract: 本申请提供一种光纤光栅加工装置,包括激光器、透镜组件、转向组件、聚焦组件、限位组件及光纤驱动组件,转向组件与透镜组件、激光器在水平方向上同轴设置,且与聚焦组件、限位组件及光纤驱动组件在竖直方向上同轴设置;激光器发出的激光,经过透镜组件后形成环形激光,该环形激光经过转向组件后,从水平方向被偏折至竖直方向,传输至聚焦组件,该环形激光经过聚焦组件后被聚焦并形成环形的刻写环;光纤被限位组件限位至竖直方向,且自上向下依次穿过聚焦组件及转向组件,使光纤位于刻写环,光纤驱动组件夹紧光纤,并驱动光纤在竖直方向上运动,使光纤经过刻写环被环形激光进行刻写。刻写速度快、效率高,其运动控制结构简单且成本低。

    光学系统、光纤制备装置以及光纤制备方法

    公开(公告)号:CN119143379B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411628435.0

    申请日:2024-11-14

    Abstract: 本申请涉及一种光学系统、光纤制备装置以及光纤制备方法,其中,光学系统包括:第一加热系统和第二加热系统。第一加热系统包括第一激光器和第一光路组件。第一激光器用于发射第一激光束,第一光路组件用于将第一激光束聚焦于光纤制备装置的原料棒。第二加热系统包括第二激光器和第二光路组件。第二激光器用于发射第二激光束,第二光路组件用于将第二激光束聚焦于原料棒的已被第一加热系统加热后的位置处。本申请所提供的光学系统能够在光纤的制备过程中,有效地降低结晶区域的温度梯度,从而更好地为光纤进行保温,降低了制备过程中所产生的热应力,进而减少了所生成的晶体的缺陷、提高了单晶光纤的质量,同时也提高了结晶过程的稳定性。

Patent Agency Ranking