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公开(公告)号：CN1934464A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580009527.X
申请日：2005-03-23
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/111 , G02B5/3016
Abstract: 本发明的目的是提供具有优异的抗划伤性，同时具有足够高的抗反射性能的抗反射薄膜的制备方法，通过该制备方法获得的抗反射薄膜以及各自包括这种抗反射薄膜的偏振片和图像显示装置。用于制备包括透明基底、在该透明基底上包括至少一层的抗反射层的抗反射薄膜的方法，该制备方法包括用含有以下步骤(1)和(2)的层形成方法在所述透明基底上形成至少一层：(1)在透明基底上施涂涂层的步骤，和(2)在氧浓度低于空气中的氧浓度的气氛中通过照射电离辐射来固化所述涂层的步骤。
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公开(公告)号：CN109952115A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201780070342.2
申请日：2017-11-15
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: A61L9/01 , A61L9/14 , B82Y30/00 , C01G3/02 , C01G5/00 , C01G9/02 , C08K3/08 , C08K3/22 , C08K9/12 , C08L23/00 , C08L25/04 , C08L33/06 , D06M11/83
Abstract: 本发明的课题在于提供一种具有优异的除臭性且适用于分散液时不易沉降的粒子。并且，本发明的另一课题在于提供一种使用了上述粒子的分散液及膜、包含上述粒子、上述分散液或上述膜的除臭材料、包含上述分散液的湿型擦拭布以及喷雾器。本发明的复合粒子具有：聚合物粒子；及载持于上述聚合物粒子的表面上的、选自包括金属及金属氧化物的组中的至少一种无机粒子，上述无机粒子的平均粒径小于100nm。
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公开(公告)号：CN105310850A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510455813.4
申请日：2015-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: A61G11/00
Abstract: 本发明涉及保育箱用罩、具备该罩的保育箱、保育箱用亲水加工片和保育箱用亲水加工抗菌膜。本发明通过如下的保育箱用罩和具备该罩的保育箱、以及用于在保育箱用罩上设置亲水加工部的亲水加工片和亲水加工抗菌膜来提供能够防止内表面起雾且能够抑制细菌繁殖的防雾性和抗菌性优良的保育箱用罩、保育箱、亲水加工片和亲水加工抗菌膜，所述保育箱用罩为在内表面的至少一部分设置有亲水加工部的保育箱用罩，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物和抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。
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公开(公告)号：CN101346646A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200680049109.8
申请日：2006-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种滤色器的制造方法、及利用该制造方法制造的滤色器及使用该滤色器的液晶显示装置，该滤色器的制造方法的特征在于，包括：使用排列为二维状的空间光调制设备，基于图像数据，调制光的同时，对感光性树脂组合物的层进行相对扫描，由此，通过进行形成二维图像的曝光，从而形成深色隔离壁的工序，所述感光性树脂组合物含有：树脂及其前体的至少一种，以及由金属或合金构成的粒子和由金属与合金或者合金与合金构成的复合粒子中的至少一种。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101010603A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580029833.X
申请日：2005-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05D1/38 , B05D3/0486 , B05D3/067 , B05D7/536 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B5/3033 , Y10T428/31
Abstract: 一种包含在透明基底上的至少两层电离辐射－固化层的光学薄膜的生产方法，该方法包括：通过一定波长的电离辐射对层A进行照射的步骤1，所述层A包括在一定灵敏度的波长范围内的较长的波长侧具有不同吸收端的两种或更多种聚合引发剂，所述聚合引发剂对于所述波长范围是敏感的，对于所述电离辐射的波长，至少一种聚合引发剂(a)基本上不敏感，至少一种聚合引发剂(b)是敏感的；和在步骤A之后，将层B用的涂布液涂布在层A上然后通过具有一定波长的电离辐射对层B用的涂布液进行照射的步骤2，所述层B包含至少一种聚合引发剂(c)，对于步骤2中的电离辐射的波长，聚合引发剂(a)和(c)是敏感的。
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公开(公告)号：CN109982727B
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN201780069833.5
申请日：2017-11-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 根据本发明，提供一种免疫隔离膜、移植用室及移植用器件，所述免疫隔离膜包含含有聚合物的多孔膜，上述多孔膜在膜内具有孔径最小的层状的致密部位，孔径在厚度方向上从上述致密部位朝向上述多孔膜的至少一个表面连续增加，所述移植用室为用于内含生物学结构物的移植用室，并且在形成内部和外部的面的至少一部分具有上述免疫隔离膜，以及所述移植用器件在上述移植用室内含有上述生物学结构物。本发明的免疫隔离膜不易发生物质透过性的降低，并且能够以低成本制造。
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公开(公告)号：CN109982727A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780069833.5
申请日：2017-11-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 根据本发明，提供一种免疫隔离膜、移植用室及移植用器件，所述免疫隔离膜包含含有聚合物的多孔膜，上述多孔膜在膜内具有孔径最小的层状的致密部位，孔径在厚度方向上从上述致密部位朝向上述多孔膜的至少一个表面连续增加，所述移植用室为用于内含生物学结构物的移植用室，并且在形成内部和外部的面的至少一部分具有上述免疫隔离膜，以及所述移植用器件在上述移植用室内含有上述生物学结构物。本发明的免疫隔离膜不易发生物质透过性的降低，并且能够以低成本制造。
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公开(公告)号：CN109922839A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201780069371.7
申请日：2017-11-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 根据本发明，提供一种免疫隔离膜、移植用室及移植用器件，所述免疫隔离膜包含含有聚合物的多孔膜，并且在上述多孔膜的至少一个表面满足式(I)及式(II)，B/A≤0.7(I)、A≥0.015(II)。式中，A表示膜的表面中的N元素相对于C元素的比率，B表示距离上述膜的上述表面30nm的深度中的N元素相对于C元素的比率。所述移植用室为用于内含生物学结构物的移植用室，并且在形成内部和外部的面的至少一部分具有上述免疫隔离膜，所述移植用器件在上述移植用室内含上述生物学结构物。本发明的免疫隔离膜的生物相容性高。
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公开(公告)号：CN105310850B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201510455813.4
申请日：2015-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: A61G11/00
Abstract: 本发明涉及保育箱用罩、具备该罩的保育箱、保育箱用亲水加工片和保育箱用亲水加工抗菌膜。本发明通过如下的保育箱用罩和具备该罩的保育箱、以及用于在保育箱用罩上设置亲水加工部的亲水加工片和亲水加工抗菌膜来提供能够防止内表面起雾且能够抑制细菌繁殖的防雾性和抗菌性优良的保育箱用罩、保育箱、亲水加工片和亲水加工抗菌膜，所述保育箱用罩为在内表面的至少一部分设置有亲水加工部的保育箱用罩，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物和抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。
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