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公开(公告)号:CN205263024U
公开(公告)日:2016-05-25
申请号:CN201521035838.0
申请日:2015-12-10
申请人: 山东大学
IPC分类号: G01N27/28
摘要: 一种基于局部电化学扫描探针研究的电解池,包括电解池槽腔和围成所述电解池槽腔的侧壁,所述侧壁的前部设置有观察窗,所述侧壁的左部和右部分别垂直嵌设有与所述电解池槽腔相连通的第一圆孔和第二圆孔;在所述电解池槽腔的底部设置有用于固定待测试样的固定装置。本实用新型所述的一种基于局部电化学扫描探针研究的电解池的底部设置固定装置实现对待测试样进行固定,同时对待测试样进行窗口观察,并通过CCD监控探针和试样表面之间距离的辅助调节,本实用新型系一种兼顾电解池结构、功能及其相关的试样类型,可用于局部电化学扫描探针研究的电解池。
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公开(公告)号:CN202656073U
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201120451938.7
申请日:2011-11-15
摘要: 本实用新型属于机械加工领域,涉及打磨抛光加工技术,特别涉及打磨抛光用磨具设计与加工技术。本实用新型涉及的磨抛一体化构造试样磨抛盘采用具有台阶结构的基体盘,分别安装磨料和抛光料作为打磨盘和抛盘,实现磨抛一体,居中抛盘凸起于外围磨盘,可有效避免抛光过程中试样不慎触碰抛盘,可靠性好;使用过程中,无需更换基体盘即可完成打磨、抛光任务,减少停机待机时间,可有效降低劳动强度,提高加工效率,特别适用于金相试样(材料)的表面微细加工。该磨抛盘结构简单,使用方便,制造成本低。
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公开(公告)号:CN210720109U
公开(公告)日:2020-06-09
申请号:CN201921674464.5
申请日:2019-10-09
申请人: 山东大学
摘要: 本实用新型涉及一种用于L型试样局部电化学研究的电解池,属于电化学电解池技术领域。该电解池包括上部结构和下部结构,上部结构采用矩形框架设计,上部结构的左侧壁和后侧壁分别开设沟槽,下部结构为长方体结构,下部结构设有凹槽,上部结构和下部结构连接,内部形成电解槽。本实用新型上部结构中两侧壁的沟槽能满足弯曲金属试样以90°穿过电解槽,使所述弯曲金属试样的工作面处于电解质溶液中,可以测试残余应力对弯曲金属试样腐蚀的影响。
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公开(公告)号:CN202854171U
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN201220542954.1
申请日:2012-10-22
申请人: 山东大学
IPC分类号: G01Q60/60
摘要: 本实用新型涉及一种用于板状载荷试样腐蚀研究的扫描电化学显微镜电解池,包括围成电解槽腔的上部结构和下部结构:在下部结构的中央设置有凹槽,所述的上部结构包括矩形框架,在矩形框架中的前侧壁为透明材质,在矩形框架中的左侧壁和右侧壁上分别设置有连通外界和电解槽内的沟槽;本实用新型使板状试样横向穿过电解槽的结构,尤其适用处于受力载荷或存在残余应力的金属材料试样的腐蚀实验。即可以通过恒载荷加载或慢应变速率拉伸对板状试样沿纵向力学加载,实时、原位研究协同作用下的金属材料、腐蚀介质以及力学因素对金属材料腐蚀特征及腐蚀速度的影响,深入辨析腐蚀的微观机理。
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