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公开(公告)号：CN109477613A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780044746.4
申请日：2017-07-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: F17C9/00 , C23C16/448
Abstract: 本发明提供一种气体供给装置，用于将由液体化合物气化而成的气体化合物供给到目标场所，具有存储容器、气体化合物供给配管和温度控制装置，所述存储容器能够容纳所述液体化合物，所述气体化合物供给配管的一端与所述存储容器连接，另一端能够配置在所述目标场所，所述温度控制装置用于将所述存储容器内的所述气体化合物或液体化合物的温度控制在所述气体化合物供给配管的周围环境的温度以下。
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