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公开(公告)号：CN113748231A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202080031583.8
申请日：2020-05-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12 , C25D21/12 , H01L21/288
Abstract: 本发明涉及镀覆方法、镀覆装置、存储程序的非易失性存储介质。一种方法，是用于进行镀覆的方法，包括：准备第一面以及第二面具有不同的图案的基板的工序；镀覆工序，对上述基板的上述第一面以及上述第二面分别供给第一镀覆电流密度的电流以及第二镀覆电流密度的电流，以分别在上述第一面以及上述第二面形成镀覆膜；以及在上述第一面以及上述第二面的任意的面的镀覆先完成后，对上述镀覆先完成的面供给比在镀覆中供给到上述镀覆先完成的面的上述第一镀覆电流密度或上述第二镀覆电流密度小的电流密度的保护电流。
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公开(公告)号：CN116411330A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310461440.6
申请日：2023-04-26
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
Abstract: 本发明涉及基板保持器、镀覆装置以及镀覆方法，上述基板保持器用于保持基板，并使基板与镀覆液接触而进行镀覆，具备：接头，用于与在上述基板的表面形成的种子层接触并供电；保护电极，是不溶解性的电极且相对于上述接头向高电位侧偏置；以及保持器主体，具有内部空间，该内部空间在由上述基板保持器保持上述基板的状态下，以从上述基板保持器的外部密封的状态将上述基板的外周部、上述接头以及上述保护电极收纳，并且对至少将上述保护电极的一部分、以及、上述种子层与上述接头接触的接触部位覆盖的液体进行保持。
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公开(公告)号：CN117545879B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202280045148.X
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明提高镀覆于多边形基板的膜的面内均匀性。镀覆装置具备：镀覆槽；基板支架，构成为保持多边形基板；阳极，配置于上述镀覆槽内，以便与上述基板支架所保持的基板对置；以及阳极遮罩，划定与上述多边形基板的外形对应的开口。阳极遮罩具有：第一遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第一边对应的第一开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第一凸部；及第二遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第二边对应的第二开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第二凸部，上述阳极遮罩构成为能够调整上述第一遮罩部件与上述第二遮罩部件的相互的距离。
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公开(公告)号：CN117545879A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280045148.X
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明提高镀覆于多边形基板的膜的面内均匀性。镀覆装置具备：镀覆槽；基板支架，构成为保持多边形基板；阳极，配置于上述镀覆槽内，以便与上述基板支架所保持的基板对置；以及阳极遮罩，划定与上述多边形基板的外形对应的开口。阳极遮罩具有：第一遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第一边对应的第一开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第一凸部；及第二遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第二边对应的第二开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第二凸部，上述阳极遮罩构成为能够调整上述第一遮罩部件与上述第二遮罩部件的相互的距离。
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