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公开(公告)号：CN104570201A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201410527822.5
申请日：2014-10-09
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/122
CPC classification number: G02B6/1228 , G02B6/125 , G02B6/126 , G02B6/14 , G02B6/2726
Abstract: 基板型光波导元件和DP-QPSK调制器。基板型光波导元件具有两个输入部，它们是相互具有相同的宽度、相互平行、剖面为矩形形状的波导；宽幅部，是直线波导且与上述两个输入部的后段连接；锥形部与上述宽幅部的后段连接且是宽度逐渐变狭的锥状的至少TE1传播的多模波导；输出部，是与上述锥形部的后段连接的剖面为矩形形状的至少TE1传播的多模波导，基板型光波导元件具备能够将输入到上述两个输入部的TE0从上述输出部作为TE1输出的高阶模转换多路复用元件，将上述两个输入部的宽度方向的间隔定义为gap，上述两个输入部的宽度定义为Wa，上述宽幅部的波导宽度定义为Wb时，满足Wb＞Wa×2+gap，上述两个输入部的宽度方向的中心与上述宽幅部的宽度方向的中心一致。
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公开(公告)号：CN101952753B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN200980106207.4
申请日：2009-02-27
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/29394 , G02F1/225 , G02F2001/213 , G02F2201/02 , G02F2201/307
Abstract: 该光波导元件具备光波导的芯和设置在该芯中的布拉格光栅图样，所述布拉格光栅图样的局部周期取3个以上规定离散值中的任一值，取各离散值的局部周期在所述光波导全长上分别存在于多个部位，当设全部离散值中分布频度最高的值为M、比该M大的值中离所述M最近的值为A、比所述M小的值中离所述M最近的值为B时，由A-M表示的差等于由M-B表示的差。
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公开(公告)号：CN102483490A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200980161034.6
申请日：2009-08-25
IPC: G02B6/13
CPC classification number: G02B6/1223 , B82Y20/00 , G02B6/124 , G02B6/136 , G02B2006/12107
Abstract: 一种制造平面光波导装置的方法，所述平面光波导装置包括芯线，其顶表面设置有沿芯线的纵向的槽部，所述槽部填充有由折射率低于所述芯线的折射率的低折射率材料制成的槽部填充体，所述方法包括：形成构成所述芯线的下部的由高折射率材料制成的高折射率材料层的第一高折射率材料层形成步骤；在所述高折射率材料层上形成由低折射率材料制成的低折射率材料层的低折射率材料层形成步骤；通过利用光刻和蚀刻来修剪所述低折射率材料层的两个侧面部分以形成所述槽部填充体的槽部填充体形成步骤；和形成构成所述芯线的上部的由高折射率材料制成的高折射率材料层以填充所述槽部填充体的侧面部分的两侧的第二高折射率材料层形成步骤。
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公开(公告)号：CN101952755A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200980106226.7
申请日：2009-02-27
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02B6/12007 , G02B6/02085 , G02B6/122 , G02B6/124 , G02B6/29394 , G02B2006/02166 , G02F2001/0151 , G02F2201/063 , G02F2201/307
Abstract: 设定一种基板型光波导元件，其中，光波导的芯具备：内侧芯，具有形成肋结构的凸部；和外侧芯，设置于该内侧芯之上并覆盖上述凸部的周面，外侧芯的折射率低于内侧芯的平均折射率。对于该基板型光波导元件的构造，芯也可以使用硅(Si)和氮化硅(SixNy)等的具有比硅玻璃系材料高的折射率的材料。
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公开(公告)号：CN101918871A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200880122069.4
申请日：2008-12-22
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/122
CPC classification number: B05D5/061 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/29394
Abstract: 本发明提供光波导型波长色散补偿器件和其制造方法，该光波导型波长色散补偿器件通过改变埋入在包层中的芯的物理尺寸，作为反射型的光波色散补偿单元，具有该芯的等效折射率在光传送方向上不均匀变化的光波导，上述芯通过下述方式设计：(a)最初忽略上述光波导的传送损失，设定期望的第一反射光谱，设计能够对被补偿光纤的波长色散进行补偿的光波导，(b)接着，根据在上述(a)中设计出的上述光波导的有效长度，导出该光波导的传送损失量的波长依存特性，(c)接着，将上述波长依存特性的反依存特性加于上述第一反射光谱，修正为第二反射光谱，使用上述第二反射光谱，对在上述(a)中设计的光波导的等效折射率分布进行再设计。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103907049B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201280052325.3
申请日：2012-10-26
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02F1/2257 , G02B6/122 , G02B6/2935 , G02B2006/12061 , G02B2006/12097 , G02B2006/12142 , G02B2006/12159 , G02F1/025 , G02F2001/0151 , G02F2001/212 , G02F2201/063
Abstract: 提供光学元件以及马赫－曾德型光波导元件。光学元件具备具有由肋部及夹着上述肋部位于其两侧且比上述肋部的厚度薄的第一及第二平板部形成的芯线的光波导，上述芯线的上述肋部和上述第一及第二平板部由半导体单晶一体地形成，上述第一平板部具有掺杂成P型的P型区域，上述第二平板部具有掺杂成N型的N型区域，上述肋部具有与设于上述第一平板部的P型区域接触的P型区域及与设置于上述第二平板部的N型区域接触的N型区域，上述肋部的P型区域和N型区域接触而构成PN结部，上述肋部具有在与上述光波导的长度方向垂直的截面中位于比上述第一及第二平板部靠上方的位置的上端部，上述肋部的上端部具有由本征区域、及以邻接的上述P型区域或N型区域的掺杂浓度的1/10以下的掺杂浓度掺杂的低浓度掺杂区域中的一方形成的未掺杂区域。
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公开(公告)号：CN102483490B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN200980161034.6
申请日：2009-08-25
IPC: G02B6/13
CPC classification number: G02B6/1223 , B82Y20/00 , G02B6/124 , G02B6/136 , G02B2006/12107
Abstract: 一种制造平面光波导装置的方法，所述平面光波导装置包括芯线，其顶表面设置有沿芯线的纵向的槽部，所述槽部填充有由折射率低于所述芯线的折射率的低折射率材料制成的槽部填充体，所述方法包括：形成构成所述芯线的下部的由高折射率材料制成的高折射率材料层的第一高折射率材料层形成步骤；在所述高折射率材料层上形成由低折射率材料制成的低折射率材料层的低折射率材料层形成步骤；通过利用光刻和蚀刻来修剪所述低折射率材料层的两个侧面部分以形成所述槽部填充体的槽部填充体形成步骤；和形成构成所述芯线的上部的由高折射率材料制成的高折射率材料层以填充所述槽部填充体的侧面部分的两侧的第二高折射率材料层形成步骤。
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公开(公告)号：CN102483491B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN200980161036.5
申请日：2009-08-25
IPC: G02B6/13
CPC classification number: G02B6/136 , B82Y20/00 , G02B6/1223 , G02B6/124 , G02B2006/12107
Abstract: 一种用于制造平面光波导装置的方法，该平面光波导装置的芯线包括多个交替布置的凸部和凹部以形成光栅结构，在该光栅结构中，凹部的芯线宽度沿纵向方向变化，该方法包括：高折射率材料层形成步骤，形成高折射率材料层；光刻胶层形成步骤，在高折射率材料层上形成光刻胶层；第一曝光步骤，使用相移光掩模在光刻胶层上形成遮蔽部分；第二曝光步骤，使用二元光掩模在光刻胶层上形成遮蔽部分；显影步骤，对光刻胶层进行显影；以及蚀刻步骤，使用从显影步骤得到的光刻胶图案对高折射率材料层进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN101960346B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200980106431.3
申请日：2009-02-27
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: G02B6/10 , G02B6/124 , G02B6/29325 , G02B6/29394
Abstract: 本发明提供一种基板型光波导元件，该光波导具有芯；和在该芯的宽度方向的中央沿着光的波导方向配置，并且折射率比上述芯低的间隙部；上述芯具有被上述间隙部分离的两个区域，构成了跨越这两个区域传播单一模式的单模光波导。
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公开(公告)号：CN101918871B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200880122069.4
申请日：2008-12-22
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/122
CPC classification number: B05D5/061 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/29394
Abstract: 本发明提供光波导型波长色散补偿器件和其制造方法，该光波导型波长色散补偿器件通过改变埋入在包层中的芯的物理尺寸，作为反射型的光波色散补偿单元，具有该芯的等效折射率在光传送方向上不均匀变化的光波导，上述芯通过下述方式设计：(a)最初忽略上述光波导的传送损失，设定期望的第一反射光谱，设计能够对被补偿光纤的波长色散进行补偿的光波导；(b)接着，根据在上述(a)中设计出的上述光波导的有效长度，导出该光波导的传送损失量的波长依存特性；(c)接着，将上述波长依存特性的反依存特性加于上述第一反射光谱，修正为第二反射光谱，使用上述第二反射光谱，对在上述(a)中设计的光波导的等效折射率分布进行再设计。
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