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公开(公告)号:CN115920974A
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202210999240.1
申请日:2022-08-19
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: B01J31/24 , C07C2/36 , C07F19/00 , C07C11/107 , C07C11/02
Abstract: 本发明涉及一种铬催化剂前体、包含该铬催化剂前体的乙烯低聚催化剂及利用该乙烯低聚催化剂制备乙烯低聚物的方法,更具体地,涉及一种即使未使用甲基铝氧烷(MAO)或改性甲基铝氧烷(MMAO)也可以使乙烯以高活性和高选择性低聚的铬催化剂前体、包含该铬催化剂前体的低聚催化剂及利用该低聚催化剂制备乙烯低聚物的方法。
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公开(公告)号:CN113929907A
公开(公告)日:2022-01-14
申请号:CN202110789728.7
申请日:2021-07-13
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
Abstract: 本发明提供了一种聚酰亚胺前体、聚酰亚胺前体溶液、聚酰亚胺膜及其制备方法和用途。根据本发明的示例性实施方案,可以提供具有优异耐热性并且满足透明度和低线性热膨胀系数的聚酰亚胺膜,因此可以有用地应用于要求高尺寸稳定性等的柔性显示器领域。
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公开(公告)号:CN113929700A
公开(公告)日:2022-01-14
申请号:CN202110789729.1
申请日:2021-07-13
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: C07D493/10 , C07D495/20 , C07D491/20 , C08G73/10 , C08J5/18 , C08L79/08
Abstract: 本发明提供了一种新型四羧酸二酐及其制备方法。根据本发明的示例性实施方案,可以提供一种新型四羧酸二酐及其制备方法,该新型四羧酸二酐适于提供一种聚酰亚胺膜,该聚酰亚胺膜具有高透明度和耐热性并且由于即使在高温下进行热处理基底的应力也不会增加而具有优异的热尺寸稳定性。
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