公开(公告)号：CN114078378A

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202110918163.8

申请日：2021-08-11

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 权承旭 ,  金在植 ,  成宇镛 ,  李抒娟 ,  李雄洙 ,  李姿旼 ,  李定锡 ,  丁世勳 ,  蔡昇根 ,  蔡胜渊

IPC分类号： G09F9/30

摘要： 公开了一种显示装置。所述显示装置包括：基体层，包括第一部分和第二部分以及在第一部分与第二部分之间的第三部分并且被构造为被弯曲、折叠或卷曲；发光元件层，在第一部分处在基体层的一个表面上并且包括发光元件；电路板，在第三部分处在基体层的一个表面上并且电连接到发光元件；保护图案，在基体层的另一表面上彼此间隔开，包括树脂，并且还包括在第一部分处在基体层的另一表面上彼此间隔开的第一保护图案以及在第二部分处在基体层的另一表面上的至少一个第二保护图案；以及在保护图案下方的散热层和缓冲层中的至少一个。

公开(公告)号：CN113196516A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980083789.2

申请日：2019-05-23

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 丁世勳 ,  奇圣勳 ,  金在植 ,  金载益 ,  李娟和 ,  李濬九 ,  张喆旼 ,  郑檭

IPC分类号： H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 本发明的一个实施例提供了一种用于制造有机发光显示设备的方法，该方法包括以下步骤：在基底上形成像素电极和覆盖像素电极的端部的像素限定层；在像素电极和像素限定层上方连续地形成剥离层和光致抗蚀剂；通过使剥离层和光致抗蚀剂图案化来形成用于暴露像素限定层的一部分和像素电极的上表面的开口；在开口和光致抗蚀剂上方连续地形成包括发光层的中间层和对电极；形成钝化层以完全地覆盖对电极的端部和上表面；以及去除在开口的外部剩余的剥离层和光致抗蚀剂。

公开(公告)号：CN111490077A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN202010078477.7

申请日：2020-02-03

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 李妍和 ,  金在植 ,  金载益 ,  李濬九 ,  丁世勋 ,  郑知泳

IPC分类号： H01L27/32 ,  H01L51/52

摘要： 本发明涉及一种显示设备和用于制造显示设备的方法。该显示设备包括：包括晶体管的电路元件层；显示元件层，包括连接到晶体管的第一电极、面对第一电极的第二电极、在第一电极与第二电极之间的有机图案、具有暴露第一电极的开口的像素限定层、与开口间隔开以覆盖像素限定层的一部分并连接到第二电极的辅助电极、覆盖第二电极的第一保护图案、以及覆盖第一保护图案的第二保护图案；以及覆盖显示元件层的封装层，其中第一保护图案和第二保护图案在彼此不同的方向上具有应力。

公开(公告)号：CN105529408B

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201510670931.7

申请日：2015-10-15

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金在植 ,  成宇镛 ,  李德重

IPC分类号： H01L51/56

摘要： 提供了一种掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法。掩模组件包括：掩模，该掩模包括具有图案的开口；以及自组装单层膜(SAM)，涂敷在掩模的至少一部分上。

公开(公告)号：CN104934370A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510030677.4

申请日：2015-01-21

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 房贤圣 ,  金在植 ,  李娟和 ,  李濬九 ,  郑知泳 ,  崔镇白 ,  黄圭焕 ,  宋英宇

IPC分类号： H01L21/77 ,  H01L51/56 ,  G03F1/24

CPC分类号： H01L51/0011 ,  G03F1/52 ,  G03F7/20 ,  H01L51/0013 ,  H01L51/56

摘要： 本发明公开了一种掩模、形成有机层图案的方法和制造显示器的方法。一种用于形成有机层图案的掩模包括具有第一基板和在第一基板上的反射层的光掩模以及在光掩模上并与光掩模分隔开的供体基板，供体基板包括第二基板和在第二基板上的吸收部，其中，光掩模包括被构造为将入射到光掩模的光反射的反射部和被构造为将光会聚并传输到供体基板的光会聚部。

公开(公告)号：CN113725372A

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN202110495021.5

申请日：2021-05-07

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金在植 ,  金载益 ,  朴正善 ,  宋升勇 ,  李德重 ,  李娟和 ,  李浚九 ,  黄圭焕

IPC分类号： H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

摘要： 实施例涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。所述显示装置可以包括：第一电极、第二电极、发射层、中间层以及第一封装层。所述第二电极可以与所述第一电极重叠。所述发射层可以设置在所述第一电极和所述第二电极之间，可以与所述第一电极重叠，并且可以包括发光材料。所述中间层可以直接接触所述第二电极，可以与所述第一电极和所述发射层中的每一个间隔开，并且可以包括氟化合物。所述第一封装层的第一部分可以与所述发射层重叠。所述中间层可以位于所述第二电极和所述第一封装层的第二部分之间。

公开(公告)号：CN112768492A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN202011072307.4

申请日：2020-10-09

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金在植 ,  郑知泳 ,  金载益 ,  李娟和 ,  李濬九

IPC分类号： H01L27/32

摘要： 提供了一种显示装置。所述显示装置包括：薄膜晶体管，设置在基体基底上；绝缘层，覆盖薄膜晶体管；有机发光二极管，设置在绝缘层上；总线电极；以及有机氟化物图案。有机发光二极管包括：第一电极，电连接到薄膜晶体管；有机发光层，设置在第一电极上；以及第二电极，设置在有机发光层上。总线电极设置在第二电极上。有机氟化物图案设置为与总线电极相邻。

公开(公告)号：CN112750867A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202010994630.0

申请日：2020-09-21

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 成宇镛 ,  金在植 ,  金载益 ,  李娟和 ,  李濬九

IPC分类号： H01L27/32

摘要： 提供了具有减少的非显示区域的显示装置和制造该显示装置的方法，该显示装置包括：基底，包括显示区域，显示区域包括第一区域和第二区域；第一像素电极和第二像素电极，第一像素电极位于第一区域中，第二像素电极位于第二区域中；像素限定层，位于基底上并且包括第一开口和第二开口，第一开口暴露第一像素电极的至少一部分，并且第二开口暴露第二像素电极的至少一部分；第一中间层和第二中间层，第一中间层位于第一像素电极的至少一部分上，第二中间层位于第二像素电极的至少一部分上；第一对电极，位于第一中间层上；以及第二对电极，位于第一对电极和第二中间层上。

公开(公告)号：CN112151580A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN202010587602.7

申请日：2020-06-24

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金载益 ,  金在植 ,  李娟和 ,  李濬九 ,  郑知泳

IPC分类号： H01L27/32

摘要： 本文公开了显示设备及其制造方法。该显示设备包括：第一基板；和显示单元，其中显示单元包括显示区域和透射区域，显示单元包括设置为对应于透射区域的辅助层，和设置为仅对应于显示区域的第二电极，辅助层包括第一材料和第三材料，第二电极包括第二材料，第一材料和第二材料满足下面公式1，辅助层包括第一区域以及在第一区域与第一基板之间的第二区域，并且第一材料在第一区域中的浓度不同于第一材料在第二区域中的浓度： ST2‑ST1>0mJ/m2其中在公式1中，ST1为所述第一材料在25℃下的表面能，并且ST2为第二材料在25℃下的表面能。根据本公开的实施方式，由于公共电极基本上不形成在透射区域中，因此可提供具有相对高的透射率的显示设备。

公开(公告)号：CN111863879A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN202010325829.4

申请日：2020-04-23

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金在植 ,  李濬九 ,  金载益 ,  李娟和 ,  文灿昊 ,  丁世勳 ,  郑知泳

IPC分类号： H01L27/32

摘要： 本申请涉及显示设备以及制造所述显示设备的方法，其中所述显示设备可以包括：第一衬底和显示单元，其中所述显示单元包括显示区和透射区，所述显示单元进一步包括：与所述透射区对应地设置的辅助层；以及与所述显示区、和所述透射区的至少一部分对应地设置的第二电极，或者仅与所述显示区对应地设置的第二电极，所述辅助层包含第一材料，所述第二电极包含第二材料，并且所述第一材料和所述第二材料各自满足以下不等式1： ST2-ST1>0mJ/m2其中，在不等式1中，ST1是所述第一材料在25℃下的表面能，以及ST2是所述第二材料在25℃下的表面能。