一种滚筒的二级传动机构
    21.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207178581U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135323.7

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种滚筒的二级传动机构,在法兰的背面设置一电机;将电机穿过法兰,在法兰的前面设置一小齿轮;其特征在于,小齿轮与大齿轮啮合;在大齿轮中间设置一同心圆孔;在同心圆孔内设置若干个固定导轮;固定导轮设置在大齿轮第一同心圆上,大齿轮的同心圆孔边缘嵌入到固定导轮的凹槽中;在大齿轮同心圆孔的外侧开设若干个小圆孔;在小圆孔之间间隔设置若干个活动导轮;活动导轮设置在大齿轮的第二同心圆上;活动导轮上设置凹槽,在活动导轮的凹槽内嵌入一工字型连接法兰;解决了在滚筒上料、取料过程中,由于齿轮机构依然与滚筒等部件相连接,转动滚筒非常费力,使得在滚筒的手动状态下无法实现转动的技术问题。

    一种全拆卸式旋转靶用挡板

    公开(公告)号:CN207176063U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721134500.X

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种全拆卸式旋转靶用挡板,其特征在于,包括外挡板、内挡板、内挡板的驱动部件;外挡板固定在真空腔室上;内挡板设置在外挡板的内部;内挡板的下方设置一内挡板的驱动部件;所述内挡板的驱动部件带动内挡板呈正、反向开关;利用内挡板的驱动部件带动内挡板呈正、反向开关,实现了内挡板在0-180°的位置进行调整,从而达到了控制靶向装置的靶向的方向、强度,同时避免了在调节和拆卸都需要停机的状况。

    一种磁场高度可调节的矩形大弧源

    公开(公告)号:CN207176060U

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201721135321.8

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本实用新型公开了一种磁场高度可调节的矩形大弧源,包括法兰式框架、靶材、磁路组件、水冷靶座;在法兰式框架的内部设置水冷靶座、在水冷靶座的上方设置靶材;其特征在于,在水冷靶座的内部、在靶材的下方设置第一空腔;在第一空腔内设置一磁路组件,磁路组件的下方设置一调节装置;磁路组件在第一空腔内上、下调节;解决了现有的多弧离子镀膜一般都采用多排小弧源并列的安装模式或线圈激励的单个矩形弧源的方式,满足了镀膜产品对于磁路结构的要求。

    一种可供镀膜设备使用的滚筒

    公开(公告)号:CN205556761U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620261204.5

    申请日:2016-03-31

    Abstract: 本实用新型公开了一种可供镀膜设备使用的滚筒,包括上半体和下半体,其中,上半体包括第一侧面、第二侧面、第三侧面、第四侧面、第五侧面和第六侧面,下半体包括第七侧面、第八侧面、第九侧面、第十侧面、第十一侧面和第十二侧面,其中上半体的前述六个侧面与下半体的六个侧面交错相邻设置。通过上半体的六个侧面与下半体的六个侧面通过无缝焊接交错设置。使用本滚筒镀膜时,样品在滚筒内部分布均匀,处于“S”型曲线运动状态;样品可以沿滚筒拼接处翻滚,消除了叶片式滚筒的样品掉落时的碰撞,保证膜层质量。

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