镓砷/铝镓砷甚长波量子阱红外探测器

    公开(公告)号:CN100461465C

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200610148069.4

    申请日:2006-12-27

    IPC分类号: H01L31/111

    摘要: 本发明公开了一种镓砷/铝镓砷甚长波量子阱红外探测器,该探测器与传统甚长波量子阱红外探测器的区别在于它是由低掺杂的电极层和高掺杂的量子阱层构成。在深低温器件工作温度下,量子阱层掺杂的适度提高不会使整个器件的暗电流明显变化,此时量子阱器件电极层的掺杂浓度的降低,使整个器件暗电流和噪声显著下降;高掺杂的量子阱层使整个器件的光吸收系数显著增强;相比传统的镓砷/铝镓砷甚长波量子阱红外探测器,本发明的甚长波量子阱红外探测器的探测率得到显著提升。

    一种生长在蓝宝石衬底上的复合缓冲层及制备方法

    公开(公告)号:CN100407465C

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200610117009.6

    申请日:2006-10-11

    摘要: 本发明公开了一种生长在Al2O3衬底上的复合缓冲层及制备方法,该复合缓冲层包括:依次排列生成的AlN层、GaN层、InN:Mn层及InN过渡层。制备方法采用MBE生长方式,首先采用高温氮化技术在Al2O3表面形成AlN层;再分三步进行GaN层生长;进一步在GaN层上,生长InN:Mn层;再生长InN过渡层。由于Mn的扩散系数较大,在InN薄膜生长时掺入少量的Mn原子可以起到活性剂作用,有利于InN的成核和InN成核岛之间的融合,使得InN:Mn在GaN层上很快由三维变为二维生长。为防止Mn的扩散对于后续InN单晶薄膜的物理性质的影响,在生长好InN:Mn层后,再生长InN过渡层。最后,在AlN-GaN-InN:Mn-InN复合缓冲层的基础上就可生长高质量的InN单晶薄膜。

    GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器

    公开(公告)号:CN101055882A

    公开(公告)日:2007-10-17

    申请号:CN200710040613.8

    申请日:2007-05-14

    IPC分类号: H01L27/144 H01L31/111

    摘要: 本发明公开了一种GaAs/AlGaAs/InGaAs双色量子阱红外焦平面探测器,该器件采用GaAs基材料,交替生长AlGaAs势垒/GaAs量子阱/AlGaAs势垒/InGaAs量子阱/AlGaAs势垒,利用GaAs量子阱中的子带间跃迁形成长波波段的探测,利用InGaAs量子阱中的子带间跃迁形成中波波段的探测。对长波探测的GaAs量子阱,AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层构成GaAs量子阱的势垒;对中波探测的InGaAs量子阱,AlGaAs/GaAs/AlGaAs层又构成了InGaAs量子阱的势垒,并且使AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层的总厚度和AlGaAs/GaAs/AlGaAs层的总厚度为常规量子阱红外探测器中的一个势垒厚度,除掉了由于厚度增加使得器件的光电耦合效率下降的因素。在光电耦合方式中采用优化的二维双周期衍射光栅,在光栅刻蚀工艺中采用难度较小的浅深度刻蚀法。

    窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置和方法

    公开(公告)号:CN108646160B

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN201810314999.5

    申请日:2018-04-10

    IPC分类号: G01R31/26 G01Q60/46

    摘要: 本发明公开了一种窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置和方法,该装置中包括试样表面处理模块,低温扫描电容显微测量模块,微分电容测量控制模块和红外光激发模块。待测材料在试样表面处理腔中经处理后,输送至低温扫描电容显微测量真空腔中的低温试样台上,分别在红外光激发和暗背景条件下进行微分电容显微分布的测量,最后将测得的微分电容信号差值,得到由光激发少数载流子引起的微分电容信号分布。本发明适用于多数窄禁带半导体材料,能够在接近工作状态下实现对材料中少数载流子分布的灵敏测量,空间分辨率足以解析红外光电功能结构中PN结等关键区域,对评估半导体材料特性、预测和优化器件性能有重要的意义。

    基于竖直排列半导体纳米线的光电探测器制备方法

    公开(公告)号:CN103681962B

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:CN201310591009.X

    申请日:2013-11-21

    IPC分类号: H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明公开了一种基于竖直排列半导体纳米线的光电探测器制备方法,该方法的核心工艺包括:竖直排列纳米线的旋涂包裹支撑、低温热处理、电极的配置等。该方法对于半导体纳米线的尺寸、力学强度等没有特殊要求,因而将不仅仅局限于常规的Si、ZnO等耐冲击材料体系的纳米线探测器制备,同时适于研发GaAs、InAs等III-V族以及其他材料体系的纳米线器件。另一方面所采用的低折射率旋涂介质以及低温热处理工艺等将有助于大幅提升纳米线器件的光电探测性能,这也是一直以来器件研发中所忽视的问题。该方法可以直接对外延生长的半导体纳米线进行器件制备,因此尤其适用于高灵敏度、大规模阵列型光电探测器的研发。