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公开(公告)号：CN100537847C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200610009536.5
申请日：2006-02-24
Applicant: 关东化学株式会社
Inventor： 清水寿和
IPC: C23F1/16 , C23F1/20 , C23F1/26
Abstract: 本发明提供一种蚀刻液组合物，其可以将在玻璃等绝缘膜基板、硅基板和化合物半导体基板上通过溅射法所形成的含有由钛或以钛为主成分的合金所构成的层和由铝或以铝为主成分的合金所构成的层的金属层叠膜一起进行蚀刻，且不对底层的基板等造成损伤，并将锥角控制在30～90度。其中，氟化物(除氢氟酸之外)的浓度为0.01～5质量%，特定的氧化剂的浓度为0.1～50质量%。
