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公开(公告)号：CN116500711A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310400575.1
申请日：2023-04-14
申请人： 同济大学
摘要： 本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法，该方法具体为：掩膜版基板的设计和加工，掩膜版基板上开有四个窗口(3)，四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布；掩膜版的制造，采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上沉积原子光刻光栅；光刻胶光栅的制备，采用软X射线干涉光刻技术，曝光和显影光刻胶得到光刻胶图形；二维光栅标准物质的获取，经过刻蚀将光刻胶图形转移到第二衬底上。与现有技术相比，本发明制备的在亚200nm尺度内的二维自溯源光栅标准物质，不仅同时具备自溯源的长度标准与角度标准，而且可以向硅材料转移，具有准确性高、一致性好和兼容性强等优点。
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公开(公告)号：CN116298397A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310294579.6
申请日：2023-03-23
申请人： 同济大学
摘要： 本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法，方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置，方法包括以下步骤：S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上；S2、采用信号采集与传输设备，对自溯源光栅干涉仪输出的干涉信号和待校准振动传感器的输出电压信号进行采样，并基于干涉信号提取干涉相位；S3、确定干涉相位信号和振动位移信号之间的函数关系；S4、基于函数关系和采样的待校准振动传感器的输出电压信号，对待校准振动传感器进行校准。与现有技术相比，本发明具有校准精度高、测量基准不依赖波长、抗环境干扰等优点，解决了振动校准现场溯源难题。
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公开(公告)号：CN118938605A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410993763.4
申请日：2024-07-24
申请人： 同济大学
摘要： 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。
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公开(公告)号：CN115753021A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211443973.3
申请日：2022-11-18
申请人： 同济大学
摘要： 本发明涉及一种基于自溯源光栅零差干涉法的光栅周期标定系统，用于标定待定值光栅的光栅周期，包括相干光源、自溯源光栅干涉信号光电探测模块、待定值光栅干涉信号光电探测模块、已知周期值的自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅和待定值光栅以光栅矢量同向的方式设置于一维位移运动平台上。与现有技术相比，本发明利用同时测量两块光栅沿光栅矢量方向平移时非零级衍射光的相位差计算待定值光栅的周期，其定值结果以自溯源光栅周期为基准，不再依赖严格溯源于碘原子跃迁频率的高性能稳频激光器，具有测量面积大、测量精度高、可溯源的特点，同时具备操作条件极易复现、光路对准容易的优势。
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公开(公告)号：CN114690298A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210284007.5
申请日：2022-03-21
申请人： 同济大学
摘要： 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前的原子光刻光栅样板作为整体沿激光驻波场方向平移一段距离并固定，调整主透镜使返回的会聚光形成驻波场并与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在当前的原子光刻光栅样板上进行一次原子光刻；通过相邻次原子光刻光栅的无缝拼接，获得大面积自溯源光栅。与现有技术相比，本发明有效地解决了自溯源光栅驻波场方向扩展的技术问题，并具备光栅无缝衔接，扩展空间大的优点。
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