一种确定KDP晶体表面缺陷全塑性域微铣削修复工艺参数的方法

    公开(公告)号:CN116408482A

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN202310616295.4

    申请日:2023-05-29

    Abstract: 本发明一种确定KDP晶体表面缺陷全塑性域微铣削修复工艺参数的方法,涉及光学元件加工领域,为解决现有方法未建立多种铣削方式下的最大未变形切削厚度模型,且并未考虑表面缺陷对未变形切削厚度的影响的问题。包括如下步骤:步骤一、测量KDP晶体表面缺陷的深度;步骤二、选择球头微铣削修复工艺参数;步骤三、分别构建正铣、负铣,顺铣和逆铣四种铣削模式下的最大未变形切削厚度模型并计算;步骤四、调整修复工艺参数,至各个铣削方式的最大未变形铣削厚度均小于脆塑转变临界切削深度;步骤五、确定表面缺陷全塑性域修复工艺参数。本发明以最大未变形切削厚度模型分析结果为基础对KDP晶体全塑性域微铣削修复工艺参数进行确定,可提高修复表面质量。

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