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公开(公告)号：CN105164316A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201480024102.5
申请日：2014-07-04
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: H01G9/2027 , C23C24/04 , H01G9/0029 , H01G9/2031 , Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 本发明是一种半导体膜的制造方法，其特征在于，通过将含有半导体粒子的原料粒子吹附于基材而在所述基材上制成半导体膜，该半导体粒子是使抑制半导体粒子彼此凝聚的凝聚抑制物质附着于表面而成的半导体粒子。
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