公开(公告)号：CN101297364B

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：CN200480033549.5

申请日：2004-11-12

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 徐勋 ,  金真弘 ,  李承允 ,  金进镛

IPC: G11B7/26 ,  G11B27/36

CPC classification number: G11B7/268 ,  G01N2033/0088 ,  G01N2033/0096 ,  G11B7/00375 ,  G11B7/24056

Abstract: 揭示一种评估光学记录介质表面上的抗污染水平的方法。所述方法包括：通过其上黏附有人工材料的印模与光学记录介质相接触，而在所述光学记录介质表面形成人工指印；并且测量形成有人工指印符号出错率(SER)，以确定指印的敏感度，同时取决于受测SER来确定所述光学记录介质是好质量还是坏质量的。

公开(公告)号：CN101297364A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200480033549.5

申请日：2004-11-12

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 徐勋 ,  金真弘 ,  李承允 ,  金进镛

IPC: G11B7/26 ,  G11B27/36

CPC classification number: G11B7/268 ,  G01N2033/0088 ,  G01N2033/0096 ,  G11B7/00375 ,  G11B7/24056

Abstract: 揭示一种评估光学记录介质表面上的抗污染水平的方法。所述方法包括：通过其上黏附有人工材料的印模与光学记录介质相接触，而在所述光学记录介质表面形成人工指印；并且测量形成有人工指印符号出错率(SER)，以确定指印的敏感度，同时取决于受测SER来确定所述光学记录介质是好质量还是坏质量的。

公开(公告)号：CN101208745A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200680018609.5

申请日：2006-05-29

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 李承允 ,  徐勋

IPC: G11B7/007 ,  G11B7/24

CPC classification number: G11B7/243 ,  G11B7/24038 ,  G11B7/2433 ,  G11B2007/24308 ,  G11B2007/2431 ,  G11B2007/24312 ,  G11B2007/24314 ,  G11B2007/24316

Abstract: 当激光束投射到其上的时候，光记录介质以产生具有不同于信息记录层中其它的材料的反射系数的新材料的机制记录信息。该光记录介质包括基片(60)和放置在基片上以反射进入的激光束并且具有信息记录层(100)的反射层(50)。该信息记录层(100)包括包含从Si、Ge和Sb的组中选择出来的一个或多个元素的第一信息记录层(100)，和包含从Si、Sb、Te和Al的组中选择出来的一个或多个元素的第二信息记录层(120)。数据可以以高密度记录，并且该光记录介质提供高记录稳定性和记录灵敏度。