一种用于等离子美容仪的全包覆式雾化罩

    公开(公告)号:CN116421892A

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN202310368127.8

    申请日:2023-04-08

    摘要: 本发明公开了一种用于等离子美容仪的全包覆式雾化罩,属于等离子美容技术领域。本发明用于解决现有技术等离子美容仪用雾化罩的电磁屏蔽效果与抗静电效果差和使用过程中需要频繁清洁,使用不方便的技术问题,包括一种用于等离子美容仪的全包覆式雾化罩,包括等离子美容仪主体和防护罩,所述等离子美容仪主体的输出端安装有雾化罩,所述防护罩套设在雾化罩的外部,所述雾化罩远离等离子美容仪主体的一端安装有洁面巾。本发明的雾化罩不仅能够对雾化液进行全包覆,提高雾化液与离子转换器的接触时间,并提高了防护罩的屏蔽效能与表面电阻率,从而提高了等离子体的百分含量,还能够促进雾化液均匀分布,避免对其进行频繁清洗,使用方便。

    用草酸聚醚预交联的氨基官能化有机聚硅氧烷的水性分散体

    公开(公告)号:CN116390990A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202080106180.5

    申请日:2020-10-13

    IPC分类号: C08L83/12

    摘要: 公开了水性分散体,其包含(1)预交联的有机聚硅氧烷,该预交联的有机聚硅氧烷包含式R2SiO2/2(I)的单元,以及平均至少一个式SiR1O2/2‑Y‑SiR1O2/2(III)的结构单元,其中Y表示式‑R2‑[NR3‑R4‑]nNR3‑C(O)‑C(O)‑NR3‑Z‑NR3‑C(O)‑C(O)‑NR3‑[R4‑NR3‑]nR2‑的二价基团,Z表示含有聚氧化烯基团的二价有机基团,优选表示式–(R5O)m‑R6‑的基团,R表示单价的、任选取代的C1‑C18烃基,R1表示基团R或基团‑O‑R7,R2表示SiC键合的二价线性或支化C3‑C18烃基,R3表示氢原子、C1‑C10烷基或酰基,R4表示二价C1‑C6烃基,R5是相同或不同的并且表示C3‑C18亚烷基,R6表示C1‑C10亚烷基,R7表示氢或一价C3‑C18烃基,该烃基可以间杂有一个或多个独立氧原子,n为0、1、2、3或4,并且m平均为1至80,(2)乳化剂,以及(3)水。

    一种耐低温抗静电聚氨酯记忆棉制备工艺

    公开(公告)号:CN116041944A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202211606278.4

    申请日:2022-12-12

    摘要: 本发明公开了一种耐低温抗静电聚氨酯记忆棉制备工艺,包括以下步骤:步骤一:将氧化石墨烯及无水N,N‑二甲基甲酰胺加入超声清洗机中超声清洗制得氧化石墨烯分散液;步骤二:将十八烷基二甲基羟乙基季铵硝酸盐加入步骤一所得氧化石墨烯分散液内,在氮气气氛下搅拌,之后真空冻干得到初步导电剂。本发明中导电剂制成后为还原氧化石墨烯,且还原石墨烯表面插层了苯胺甲基三乙氧基硅烷改性氧化乙炔炭黑,在加入了聚醚改性硅油发泡后,导电剂上的苯胺甲基三乙氧基硅烷在棉内形成苯聚胺团,苯聚胺与聚醚改性硅油接枝后形成导电网络,由此增强了记忆棉体的抗静电性能,并且不会对记忆棉本身的回弹性能造成影响,在低温环境下仍具有良好的回弹性能。

    一种母料组合物、有机硅高分子材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115368737B

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202211028766.1

    申请日:2022-08-24

    摘要: 本发明公开了一种母料组合物、有机硅高分子材料及其制备方法与应用,涉及有机硅高分子材料技术领域。本发明公开了一种母料组合物,包括以下重量份的组分:杀菌剂X 0.1‑2份、杀菌剂Y 2‑10份、杀菌剂Z 2‑10份、硅烷偶联剂0.1‑2份、催化剂0.1‑5份、含羟基聚二甲基硅氧烷20份、非离子表面活性剂0.5‑5份、聚醚硅油0.1‑5份、功能化助剂0‑5份。本发明提供了一种母料组合物,包含杀菌剂X、杀菌剂Y及杀菌剂Z,将不同的杀菌剂进行协同,并且通过偶联剂、表面活性剂、硅油等成分,对复合杀菌成分进行处理,表现出更好的分散性和稳定性,能够更加持久、稳定地使制品表现出抗菌、抗病毒作用。