有机器件、掩模组以及掩模

    公开(公告)号:CN216528953U

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202123323049.5

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备:基板;位于基板上的第1电极;位于第1电极上的有机层;以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下,有机器件可以具备:第1显示区域,其包含具有第1占有率的第2电极;和第2显示区域,其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是,在第2显示区域中,有机层在第1方向上排列,且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中,第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含:具有第1形状的第1电极段;和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。

    有机器件、掩模组以及掩模

    公开(公告)号:CN216563200U

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202123323954.0

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备:基板;位于基板上的第1电极;位于第1电极上的有机层;以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下,有机器件可以具备:第1显示区域,其包含具有第1占有率的第2电极;和第2显示区域,其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含:第2电极;和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含:第1透射区域;和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是,第1透射区域具有第1形状,第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。

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