公开(公告)号：CN103107133A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201310002104.1

申请日：2013-01-04

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

发明人： 陈华斌 ,  王琳琳 ,  高英强 ,  袁剑峰

IPC分类号： H01L21/77 ,  G02F1/136 ,  G03F7/00

摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和显示装置，涉及通过4次Mask制作阵列基板的工艺方法。阵列基板制造方法，包括公共电极层、栅金属层、半导体层层、源漏电极层、钝化层及像素电极层的制作过程；其中，所述钝化层和所述像素电极层通过一次构图工艺制作。本发明提供的阵列基板制造方法，省略了一次掩膜版的使用，降低了生产成本。本发明适用于ADS模式阵列基板的制造。

公开(公告)号：CN214410572U

公开(公告)日：2021-10-15

申请号：CN202022635840.9

申请日：2020-11-13

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

发明人： 付帮然 ,  陈华斌 ,  高英强 ,  李力强 ,  宋勇志

IPC分类号： G09F9/30 ,  G02F1/1362

摘要： 本申请公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以避免栅绝缘层静电击穿造成栅线与公共电极引线短路。本申请实施例提供的阵列基板包括：栅线和数据线，以及像素单元，栅线和数据线设置在至少部分相邻像素单元之间；还包括：公共电极引线，以及公共电极层；公共电极引线与数据线同层设置且沿相同的方向延伸并位于至少部分相邻像素单元之间；公共电极层与公共电极引线通过绝缘层相绝缘，并通过绝缘层上的过孔相连接；过孔位于栅线和公共电极引线相交叉的区域；栅线包括远离过孔的沿第一方向延伸的直线部分；栅线还包括靠近过孔的沿过孔边缘曲线环绕的曲线部分，该曲线部分为避让过孔的避让部。

公开(公告)号：CN205282054U

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201620010179.3

申请日：2016-01-05

申请人： 北京京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 陈华斌 ,  王瑞瑞 ,  高英强 ,  崔晓鹏

IPC分类号： G09G3/20

CPC分类号： G09G3/3266 ,  G09G3/20 ,  G09G3/3674 ,  G09G2310/0286 ,  G09G2310/061

摘要： 本实用新型公开了一种移位寄存器单元、栅极驱动电路及显示面板，包括：输入模块、复位模块、节点控制模块、第一输出模块以及第二输出模块；通过这五个模块的相互配合，使每个移位寄存器单元可以输出具有一定相位差的两个扫描信号，以对应显示面板中的两行栅线，而现有的移位寄存器仅能输出一个扫描信号，因此与现有的移位寄存器相比，可以使栅极驱动电路中移位寄存器的数量减半，从而降低栅极驱动电路的占用空间，进而实现超窄边框设计。