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公开(公告)号:CN101665352A
公开(公告)日:2010-03-10
申请号:CN200910168386.6
申请日:2009-08-31
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: C04B35/10 , C04B35/645
Abstract: 本发明提供一种氧化铝烧结体。该氧化铝烧结体可以调整到库仑型和约翰逊拉别克型之间的体积电阻率而且耐腐蚀性优异。本发明的氧化铝烧结体是在作为主成分的氧化铝粒子彼此之间层状地存在含有稀土元素和氟元素的相的烧结体,或者是沿着作为主成分的氧化铝粒子彼此的棱层状地存在含有稀土元素和氟元素的相的烧结体。对于该氧化铝烧结体,观察SEM图像时,含有稀土元素和氟元素的相在氧化铝粒子彼此之间不是局部地形成点存在,而是以形成线段的方式存在。另外,本发明的氧化铝烧结体可以容易地将由在室温施加2kV/mm电压经1分钟后的电流值算出的体积电阻率调整到1×10 13 ~1×10 16 Ω·cm的范围。
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公开(公告)号:CN101508567A
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200910007179.2
申请日:2009-02-13
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: C04B35/505 , C04B35/622 , H01L21/687
CPC classification number: C04B35/505 , C04B35/6261 , C04B35/645 , C04B2235/3206 , C04B2235/3208 , C04B2235/3217 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3826 , C04B2235/3873 , C04B2235/445 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , H01L21/6831
Abstract: 本发明提供一种氧化钇材料及其制造方法,能够进一步提高氧化钇材料的机械性强度。作为半导体制造装置用部件的静电卡盘(20)的基体(22)是由氧化钇材料构成,该氧化钇材料至少包括:氧化钇(Y2O3)、碳化硅(SiC)、以及含有RE(稀土类元素)、Si、O和N的化合物。该氧化钇材料含有以RE为La、Y等的RE8Si4N4O14作为含RE(稀土类元素)、Si、O和N的化合物。该RE8Si4N4O14是由作为原料的主成分的Y2O3和作为原料添加的Si3N4等在烧结过程中生成的化合物。通过氧化钇中含有的SiC及该化合物来提高机械性强度和体积电阻率。
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