公开(公告)号：CN102746810B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201210118703.5

申请日：2012-04-20

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介

IPC: C09J133/00 ,  C09J133/08 ,  C09J7/02

Abstract: 本发明提供一种粘合剂组合物和表面保护膜，所述粘合剂组合物和表面保护膜在关于(1)取得低速剥离领域和高速剥离领域中的粘合力的平衡；(2)防止粘合剂残留的发生；和(3)具有返工性上，能够同时满足全部的要求性能。本发明提供一种粘合剂组合物，所述粘合剂组合物由含有(A)烷基碳原子数为C4～C10的(甲基)丙烯酸酯单体、和(B)含有羟基的可共聚单体、和(C)含有羧基的可共聚单体的共聚物构成，所述粘合剂组合物进一步含有(D)3官能以上的异氰酸酯化合物、(E)交联抑制剂、(F)交联催化剂、(G)聚醚改性的硅氧烷化合物。

公开(公告)号：CN104073194A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201310729400.1

申请日：2013-12-26

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J133/00 ,  C09J7/02 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明提供一种能够防止光学部件用粘结剂的氧化和变色并且即使添加量大也能够控制成本、耐析出性也优良的光学部件用粘结剂组合物、光学部件用粘结膜以及表面保护膜。同时，使粘结剂层的表面电阻率降低，从而容易将表面保护膜从被粘附体剥离。本发明的光学部件用粘结剂组合物含有以（甲基）丙烯酸烷基酯作为主要成分的丙烯酸类共聚物、交联剂和抗氧化剂，并且，作为所述抗氧化剂含有生育酚类化合物。进而，还含有离子化合物。

公开(公告)号：CN103865445A

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN201310610818.0

申请日：2013-11-26

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J133/08 ,  C09J7/02 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种虽然是厚度1μm～20μm薄膜，但具有高粘结力、高附着性的粘结剂层及使用所述粘结剂层的粘结膜。所述粘结剂层是使包含丙烯酸类聚合物的粘结剂组合物交联而成，其中，所述粘结剂组合物作为主要成分的（甲基）丙烯酸酯单体含有烷基的碳原子数为C1～C14的（甲基）丙烯酸烷基酯单体中的至少一种以上，并作为其它共聚合性单体含有含氮的乙烯基单体中的至少一种以上、含羧基的共聚合性乙烯基单体和/或含羟基的共聚合性乙烯基单体中的至少一种以上，而且，所述粘结剂层的厚度为1μm～20μm，厚度5μm时的粘结力为4.0（N/25mm）以上。

公开(公告)号：CN103834328A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201310556610.5

申请日：2013-11-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09J7/02

Abstract: 本发明提供具有优良的抗静电性能、在低速区域和高速区域的剥离速度下的粘结力的平衡性优良、并且耐久性能和再加工性能也优良的粘结剂组合物、粘结膜和表面保护膜。一种含有抗静电剂的粘结剂组合物，包含以具有碳原子数4～10的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯作为主要成分的丙烯酸类聚合物，相对于100重量份的丙烯酸类聚合物含有85～98.5重量份的主要成分即（甲基）丙烯酸烷基酯、0.1～15重量份的含有羟基的共聚合性单体、0.1～2重量份的含有羧基的共聚合性单体以及0.1～5重量份的交联剂，丙烯酸类聚合物的酸值是0.01～8.0，抗静电剂是熔点为30～50℃的离子化合物，且该粘结剂组合物含有聚醚改性硅氧烷化合物。

公开(公告)号：CN103820059A

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201310556382.1

申请日：2013-11-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09J7/02

Abstract: 本发明提供一种具有优良的抗静电性能、在低速区域和高速区域的剥离速度下的粘结力的平衡性优良、并且耐久性能和再加工性能也优良的粘结剂组合物、粘结膜和表面保护膜。一种含有抗静电剂的粘结剂组合物，包含以具有碳原子数4～10的烷基的（甲基）丙烯酸烷基酯作为主要成分的丙烯酸类聚合物，相对于100重量份的前述丙烯酸类聚合物含有85～99.5重量份的前述主要成分即（甲基）丙烯酸烷基酯、0.5～15重量份的含有羟基的共聚合性单体以及0.1～5重量份的交联剂，前述抗静电剂是熔点为30～50℃的离子化合物。

公开(公告)号：CN102965057A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201210313374.X

申请日：2012-08-29

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介

IPC: C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J11/06 ,  C09J7/02 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供不损害粘合性能、抗静电性能优异、对玻璃板的粘附性优异、且对被粘物返工性也优异的含有抗静电剂的粘合剂组合物和使用其的粘合膜。含有抗静电剂的粘合剂组合物，其以(甲基)丙烯酸类聚合物作为主要成分，作为上述抗静电剂，其含有式1所示的离子化合物，该离子化合物具有有机阳离子，所述有机阳离子包含含有可水解的硅的基团。[化学式1]Z+X-(式1)（只是，在式1中，Z+表示阳离子，X-表示阴离子。)

公开(公告)号：CN108300365B

公开(公告)日：2020-12-22

申请号：CN201710881073.X

申请日：2013-11-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J9/02 ,  C09J11/06

Abstract: 一种表面保护膜，是在树脂膜的单面或双面形成粘结剂层而成，该粘结剂层是使含有丙烯酸类聚合物、交联剂和抗静电剂的粘结剂组合物交联而成，所述丙烯酸类聚合物以具有碳原子数为4～10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯为主要成分，由相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物为85～99.5重量份的所述主要成分即(甲基)丙烯酸烷基酯以及5～15重量份的含有羟基的共聚合性单体进行共聚而得的共聚物构成，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘结剂组合物含有0.1～5重量份的所述交联剂，所述交联剂是三官能以上的异氰酸酯化合物，所述抗静电剂是熔点为30～50℃且在温度为30℃时为固体的离子化合物。

公开(公告)号：CN108300365A

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201710881073.X

申请日：2013-11-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J9/02 ,  C09J11/06

Abstract: 一种表面保护膜，是在树脂膜的单面或双面形成粘结剂层而成，该粘结剂层是使含有丙烯酸类聚合物、交联剂和抗静电剂的粘结剂组合物交联而成，所述丙烯酸类聚合物以具有碳原子数为4～10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯为主要成分，由相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物为85～99.5重量份的所述主要成分即(甲基)丙烯酸烷基酯以及5～15重量份的含有羟基的共聚合性单体进行共聚而得的共聚物构成，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘结剂组合物含有0.1～5重量份的所述交联剂，所述交联剂是三官能以上的异氰酸酯化合物，所述抗静电剂是熔点为30～50℃且在温度为30℃时为固体的离子化合物。

公开(公告)号：CN104592905B

公开(公告)日：2017-07-18

申请号：CN201410546694.9

申请日：2014-10-16

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良 ,  铃木淳史 ,  吉田弘幸 ,  菱沼昌世

IPC: C09J7/00 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09J11/04 ,  C09J11/08 ,  C09J7/02 ,  B32B7/10

Abstract: 本发明提供的光扩散粘结剂层是可替代以往的光扩散板加以使用的光学部件，具有光扩散片的功能，且可实现显示器厚度的薄型化。本发明还提供使用了该光扩散粘结剂层的光扩散粘结膜。所述光扩散粘结剂层是具有光扩散功能的光扩散粘结剂层，所述光扩散粘结剂层由含有共聚物和交联剂和硅类粒子的粘结剂组合物形成，所述共聚物包含：烷基的碳原子数为C1～C14的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种以上；以及作为含有可共聚的官能团的单体选自于含羟基的共聚合性单体、含羧基的共聚合性单体、含氮乙烯基单体以及含芳香族的单体中的至少一种以上，所述光扩散粘结剂层的透过率为90％以上、雾度值为40％以上、折射率为1.47以上。

公开(公告)号：CN104419339B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201410337713.7

申请日：2014-07-16

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明提供一种不仅防止蚀刻液的浸入且在被粘附体上不发生残胶的粘结膜以及使用该粘结膜的化学研磨用表面保护膜。一种在树脂膜基材的单面上具有粘结剂层的化学研磨用表面保护膜，其特征在于，所述树脂膜基材的厚度为75μm以上，所述粘结剂层是通过使用含有硅烷偶联剂和交联剂的丙烯酸类粘结剂组合物来形成，将所述化学研磨用表面保护膜，在以所述粘结剂层为介贴合于玻璃基板上的状态下，浸渍于温度为27℃、浓度为15％的氢氟酸水溶液后，在用作被粘附体的所述玻璃基板的被粘附面的、所述化学研磨用表面保护膜的贴合面的端部出发距离80μm以上的部分，经过至少150秒以上未发生氢氟酸的渗透。