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    用于过程管线中流动的介质的测量系统
    41.
    发明授权
    用于过程管线中流动的介质的测量系统 有权

    公开(公告)号：CN101553715B

    公开(公告)日：2013-06-19

    申请号：CN200780032591.9

    申请日：2007-07-19

    申请人： 恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司

    发明人： 赖纳·赫克尔

    IPC分类号： G01F1/00 ,  G01F1/32

    CPC分类号： G01F15/18 ,  G01F1/3209

    摘要： 测量系统插入管道中并用于检测在过程管线中流动的介质的至少一个测量变量。测量系统为此包括测量变换器，其具有用于引导被测介质的测量管以及传感器装置，该传感器装置具有至少一个主要对于待检测的测量变量作出反应的传感器元件并且利用至少一个传感器元件提供至少一个由测量变量影响的测量信号。另外，测量系统包括与测量变换器通信的测量电子装置，该测量电子装置通过使用至少一个测量信号而至少间歇地产生至少一个瞬时代表测量变量的测量值。在本发明的测量系统的情况中，测量管比在入口侧连接至测量系统的过程管线供应段的流动横截面要小。为此，测量系统还包括流动调整器，其设置在测量管的入口侧并且位于测量管和过程管线供应段之间。流动调整器的内腔向着测量管逐渐变细并且在操作中由介质流过。流动调整器包括至少一个内部棱，该内部棱设置在出口端的上游并且突入流动调整器的内腔中。在操作期间，流动调整器中引导的介质对着内部棱流动。

    用于过程管线中流动的介质的测量系统
    42.
    发明授权
    用于过程管线中流动的介质的测量系统 有权

    公开(公告)号：CN101553714B

    公开(公告)日：2013-06-19

    申请号：CN200780032581.5

    申请日：2007-07-19

    申请人： 恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司

    发明人： 赖纳·霍克

    IPC分类号： G01F1/00 ,  G01F1/32

    CPC分类号： G01F15/18 ,  G01F1/3209

    摘要： 测量系统插入管道中并用于检测在过程管线中流动的介质的至少一个测量变量。测量系统为此包括测量变换器，其具有用于引导被测介质的测量管以及传感器装置，该传感器装置具有至少一个主要对于待检测的测量变量作出反应的传感器元件并且利用至少一个传感器元件提供至少一个由测量变量影响的测量信号。另外，测量系统包括与测量变换器通信的测量电子装置，该测量电子装置通过使用至少一个测量信号而至少间歇地产生至少一个瞬时代表测量变量的测量值。在本发明的测量系统的情况中，测量管比在入口侧连接至测量系统的过程管线供应段的流动横截面要小。为此，测量系统还包括流动调整器，其设置在测量管的入口侧并且位于测量管和过程管线供应段之间。流动调整器的内腔向着测量管逐渐变细并且在操作中由介质流过。流动调整器包括至少一个内部棱，该内部棱设置在出口端的上游并且突入流动调整器的内腔中。在操作期间，流动调整器中引导的介质对着内部棱流动。

    压力计一体型多功能涡式流量计
    44.
    发明授权
    压力计一体型多功能涡式流量计 有权

    公开(公告)号：CN101467008B

    公开(公告)日：2012-12-12

    申请号：CN200780021889.X

    申请日：2007-04-23

    申请人： 株式会社奥巴尔

    发明人： 小田慎嗣 ,  高井贤一 ,  高桥孝治

    IPC分类号： G01F1/32 ,  G01F1/68 ,  G01F7/00

    CPC分类号： G01F7/00 ,  G01F1/3209 ,  G01F1/684 ,  G01F1/86 ,  G01F5/00

    摘要： 多功能涡式流量计(1)，具备涡旋检测机构(7)，其具有被设置在流路(13)中而使被测定流体通过的测定管(4)、以与被测定流体的流动相对的方式设置在上述测定管(4)中的涡旋发生体(5)、检测基于由该涡旋发生体(5)发生的卡曼涡旋的变化的涡旋检测器(6)。并且具备具有伸出至流路(13)的感温传感器(8)以及加热感温传感器(9)的热式检测机构(10)。进而具备流量变换器(11)，在上述流量变换器(11)上一体地设置有压力计(3)，该压力计与上述涡旋检测器(6)及上述热式检测机构(10)一同布线并用于测定配管内的压力。

    三重冗余涡流流量计系统
    49.
    发明公开
    三重冗余涡流流量计系统 无效

    公开(公告)号：CN101836090A

    公开(公告)日：2010-09-15

    申请号：CN200880112725.2

    申请日：2008-08-22

    申请人： 因万西斯系统股份有限公司

    发明人： 韦德·马塔 ,  哈里·W·德斯罗齐尔斯

    IPC分类号： G01F1/32

    CPC分类号： G01F1/3218 ,  G01F1/3209 ,  G01F1/3254 ,  G01F7/00 ,  G01F7/005

    摘要： 本发明涉及一种系统。该系统包括第一喷射器，该第一喷射器至少部分地设置在流体管道中并且产生涡流，响应于由第一喷射器产生的涡流的第一流体传感器系统以及响应于由第一喷射器产生的涡流的第二流体传感器系统。该系统还包括第二喷射器，所述第二喷射器至少部分地设置在流体管道中并且在流体管道中产生涡流，并且以一距离与第一喷射器分离开。第三流体传感器系统响应于由第二喷射器产生的涡流。