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公开(公告)号：CN202631841U
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201220235091.3
申请日：2012-05-21
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司 , 上海显锐光学仪器有限公司
IPC: G02B21/08 , F21V5/04 , F21V17/10 , F21V29/02 , F21Y101/02
Abstract: 本实用新型涉及光学技术领域，尤其涉及一种显微镜照明装置。LED显微镜照明装置，包括一壳体，壳体的内部设有LED发光光源、LED发光光源配合的光学系统，光学系统包括一用于聚集光源的聚光镜，LED发光光源的出光面朝向聚光镜。聚光镜采用非球面聚光镜，聚光镜的非球面中心与LED发光光源的光轴重合。本实用新型提供了一种制造简单，低成本、使用和更换方便、照明亮度调节范围大、显色好、寿命长、能耗低、即开即亮适合显微镜使用的冷光源。
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公开(公告)号：CN202339898U
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201120425096.8
申请日：2011-10-31
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种CRT。采用层流电子枪的三原混色激光CRT，包括真空管，真空管的一端设有激光面板，真空管的另一端设有电子枪，电子枪采用层流电子枪，层流电子枪的前方设有一聚焦偏转系统，聚焦偏转系统的前方设有激光面板，激光面板包括至少两个激光腔，至少两个激光腔产生的激光为三原色中的一种，激光面板包括至少两排激光腔，一激光腔与其相邻的激光腔发出的激光颜色不同。由于采用上述技术方案，本实用新型电子枪采用了层流电子枪发射电子束，激光面板的电流密度具有比较均匀的分布，平均了激光面板功耗，降低了转化为热的能量。且本实用新型产生的激光光源为三原色光源。
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公开(公告)号：CN202308773U
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201120425125.0
申请日：2011-10-31
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种激光装置。采用环形电子束激发的激光装置，包括一真空管，真空管的一端设有半导体芯片，真空管的另一端设有电子枪，电子枪采用环形电子枪，环形电子枪的前方设有聚焦偏转系统，聚焦偏转系统的前方设有半导体芯片，半导体芯片的反射面朝向环形电子枪。环形电子枪包括阴极，阴极呈环状，阴极的中部为激光透光区域。真空管上设有激光出射口，激光出射口位于激光透光区域的后方。由于采用上述技术方案，本实用新型的电子枪采用了环形电子枪，发射电子束为空心电子束，发出的激光与电子束轰击位置在半导体芯片的同一侧，有利于散热系统的设置，增大热交换面积，降低散热实现的难度。
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公开(公告)号：CN202306112U
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201120326638.6
申请日：2011-09-01
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种投影系统。设有恒定光源的激光CRT投影系统，包括光源、光学棱镜、投影光学系统、光源包括三个用于产生激光的激光CRT，三个激光CRT产生的激光光源颜色分别为三原色中的一种，三个激光CRT产生的激光分别通过光学棱镜形成一束三色合成光。还包括三个光调制器，光调制器设置在沿激光CRT到光学棱镜之间的光路上。由于采用上述技术方案，本实用新型综合了CRT和激光的优点，无需昂贵的调制设备，就能输出恒定的激光光源，具有能消除激光散斑、功率较大、可控性好等优点。
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公开(公告)号：CN202304749U
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201120424522.6
申请日：2011-10-31
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及电子技术领域，具体涉及一种测量装置。一种微米级电子束焦斑尺寸的光学测量装置，包括电子束聚焦系统，该电子束聚焦系统的前方设有一半导体面板。还包括光学放大系统，位于电子束打到半导体面板形成自发辐射的出射光路上。光学放大系统的后方设有光学测量器件，光学测量器件连接测量驱动板，所述测量驱动板连接计算机。本实用新型的光学测量装置实现方便、操作简单，具有测量速度快、溅射因素影响小、测量数据直观的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN203176744U
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201220712215.2
申请日：2012-12-20
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
IPC: F21K99/00
Abstract: 本实用新型涉及光源领域，具体涉及电致发光领域。电子枪激发电致紫外发光系统，电子枪激发电致紫外发光系统包括一电致发光半导体机构，还包括一激励源，激励源采用一电子枪系统；电致发光半导体机构设置在电子枪系统的靶向方向上，电致发光半导体机构连接一电极；电子枪激发电致紫外发光系统还设有一用于透射出紫外线的光出射口。电子枪激发电致紫外发光系统，减小了设备体积、降低功耗并且提高了特定波段紫外光的纯度。电子枪激发电致紫外发光系统通过电子束为电致发光半导体机构提供电流，并通过电极形成电流回路。
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公开(公告)号：CN203056369U
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201220712123.4
申请日：2012-12-20
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及表面处理领域，具体涉及紫外表面处理领域。电子束泵浦式紫外线金属表面处理系统包括一反应室、一清洗执行系统，清洗执行系统连接一紫外光源，以及一控制系统，紫外光源采用一电子束激发紫外光源，电子束激发紫外光源包括一电致发光半导体机构，还包括一激励源，激励源采用一电子枪系统；电致发光半导体机构设置在电子枪系统的靶向方向上，电致发光半导体机构连接一电极；电子束激发紫外光源还设有一用于透射出紫外线的出光口。通过将传统的紫外线金属表面处理系统中的紫外光源替换为新型的电子束激发紫外光源，减小设备体积、降低功耗并且提高了特定波段紫外光的纯度。
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公开(公告)号：CN202632003U
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201220235075.4
申请日：2012-05-21
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
IPC: G05B19/04
Abstract: 本安型隔离防误操作控制电路，具体涉及一种电路。包括位于电子设备内部的第一电气连接端子、第二电气连接端子，相对应的位于电子设备外部执行电气操作的第一操作端子、第二操作端子；第一操作端子、第二操作端子的内部分别设有信号产生器，第一电气连接端子、第二电气连接端子的内部分别设置与信号产生器相对应的信号耦合器。还包括控制电路，控制电路包括微处理器类电路、与微处理器类电路信号连接的电子开关；信号耦合器的信号输出端连接微处理器类电路，微处理器类电路上设有一控制信号输出端，控制信号输出端连接电子开关。本实用新型采用主动式应对措施，实现对设备实质意义上的保护。
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公开(公告)号：CN203288562U
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201320138693.1
申请日：2013-03-25
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及光源。一种场发射阵列激发的平板紫外辐射光源，包括一阳极板，所述阳极板上设有一紫外荧光粉层，所述光源还包括一场发射阴极阵列，所述场发射阴极阵列朝向所述阳极板。使用场发射阴极阵列可以产生电子束，激发紫外荧光粉层上的紫外荧光粉发出紫外光。本实用新型较之传统紫外光源，具有以下优点：无汞、节能、长寿命，发光质量好；较之传统热发射电子枪激发的紫外光源，具有外形轻薄，易于应于不同用途，同时场发射结构设计易于大规模生产的特点。
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公开(公告)号：CN203282707U
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201320138692.7
申请日：2013-03-25
Applicant: 上海显恒光电科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及3D打印领域，采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的3D打印系统包括一紫外固化光源、一打印平台，以及一打印执行机构，紫外固化光源采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源，场发射阵列激发的平板紫外辐射光源包括一阳极板，阳极板上设有一紫外荧光粉层；场发射阵列激发的平板紫外辐射光源还包括一场发射阴极阵列，场发射阴极阵列朝向阳极板。因场发射阵列激发的平板紫外辐射光源采用的是场发射阴极阵列，故光源整体呈板状，可以直接设在打印平台上，或者作为打印平台上的物料承接箱，而且板状光源射出的光更加均匀，更重要的是场发射阴极为阵列状，方便对局部进行光强调整，实现对局部的固化。
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