一种可调等离子体射流装置和喷涂系统

    公开(公告)号:CN110944441A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201911165899.1

    申请日:2019-11-25

    IPC分类号: H05H1/24 H05H1/26

    摘要: 本发明公开了一种可调等离子体射流装置和喷涂系统,由供气模块和放电模块组成,供气模块包括可控阀门和多个气流通道;放电模块包括多个放电单元,放电单元包括若干个等离子体射流管并呈环状排列;多个放电单元与多个气流通道一一对应相连;多个气流通道的开合由可控阀门调节。通过上述公开的可调等离子体射流装置和喷涂系统,增加等离子体射流管的数量,并通过可控阀门控制等离子体射流管所需的工作气体进行等离子体射流放电,在采用等离子体射流装置对大尺寸材料表面处理时,提高对大尺寸材料表面处理效率。