公开(公告)号：CN103424990A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310159649.3

申请日：2013-05-03

Applicant: 奇美实业股份有限公司

Inventor： 吴明儒 ,  施俊安

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/008 ,  G03F7/027 ,  G03F7/09

CPC classification number: C08K5/42 ,  C08K5/101

Abstract: 本发明涉及光硬化性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种光硬化性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷组分(A)、醌二叠氮系化合物(B)、芴衍生物组分(C)及溶剂(D)。该聚硅氧烷组分(A)包括至少一具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子。该芴衍生物组分(C)包括至少一具有至少一个含双键基团的芴衍生物。由该光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜具有较佳的耐化学性及耐显影性。

公开(公告)号：CN102540727B

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201110361741.9

申请日：2011-11-15

Applicant: 奇美实业股份有限公司

Inventor： 吴明儒 ,  施俊安

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明是有关一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，其中，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于400～100,000的讯号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量介于10,000～80,000者占25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占光硬化性聚硅氧烷组成物的0～10wt％。本发明还提供一种具有该保护膜的元件。该光硬化性聚硅氧烷组成物可具有较佳显影性及适当软化点，其后续所形成的保护膜在经过后烤后，能形成不易塌陷的图案。

公开(公告)号：CN103135355A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210460893.9

申请日：2012-11-15

Applicant: 奇美实业股份有限公司

Inventor： 吴明儒 ,  施俊安

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08L83/06 ,  C08K5/0025 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06

Abstract: 一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其包含聚硅氧烷高分子(A)、醌二叠氮磺酸酯(B)、含亚甲基烷氧基芳香族化合物(C)及溶剂(D)；该含亚甲基烷氧基芳香族化合物(C)选自于具有式(I)的化合物、具有式(II)的化合物，或它们的组合；在式(I)及(II)中，该R1～R7、m及n如说明书与权利要求书中所定义。该光硬化性聚硅氧烷组成物具有高感光度及较佳的硬化速率。本发明也提供一种由该光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜及具有该保护膜的元件。

公开(公告)号：CN102443265B

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201010505031.4

申请日：2010-10-09

Applicant: 奇美实业股份有限公司

Inventor： 吴明儒 ,  施俊安

IPC: G02F1/1333 ,  H01L27/32 ,  C08L83/047 ,  C08K5/42

Abstract: 本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于500～50000的信号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量大于8000者占30％以下，分子量介于500～2000者占35～60％。本发明也提供一种通过将该光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的保护膜，及一具有保护膜的元件。本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物具有显影性佳及膜厚均一等特性。

公开(公告)号：CN102443265A

公开(公告)日：2012-05-09

申请号：CN201010505031.4

申请日：2010-10-09

Applicant: 奇美实业股份有限公司

Inventor： 吴明儒 ,  施俊安

IPC: C08L83/04 ,  C08K5/42 ,  G02F1/1333 ,  H01L27/32

Abstract: 本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于500～50000的信号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量大于8000者占30％以下，分子量介于500～2000者占35～60％。本发明也提供一种通过将该光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的保护膜，及一具有保护膜的元件。本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物具有显影性佳及膜厚均一等特性。