公开(公告)号：CN104185559B

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201380014947.1

申请日：2013-03-06

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 高藤胜启 ,  矶崎孝德 ,  练苧乔士 ,  秦秀行 ,  笹井弘治

IPC: C08J5/18 ,  B44C1/175 ,  B26D1/02 ,  B26D1/24

Abstract: 本发明的课题在于，提供一种从卷中抽出时难以断裂的液压转印用基膜及其制造方法。其解决方法在于：液压转印用基膜1，沿厚度方向测定裁切剖面3的表面粗糙度时，在最大峰高度（Rp）为5μm以上的情况下，赋予该最大峰高度（Rp）的位置5位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置，在最大峰高度（Rp）不足5μm的情况下，算术平均高度（Ra）为2μm以下；一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剪切刀片来裁切膜的工序，上刀片的刀尖角度为30~90°，上刀片与下刀片的重叠量为0.1~0.8mm，夹角为2~100°，上刀片没有驱动；以及，一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剃刀刀片进行裁切的工序，剃刀刀片的刀尖的最大高度（Rz）不足1μm。

公开(公告)号：CN103847412B

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：CN201310634762.2

申请日：2013-12-03

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 高藤胜启 ,  矶崎孝德 ,  练苧乔士

IPC: B44C1/175

Abstract: 本发明涉及液压转印用基膜。提供一种能形成能充分防止漂浮在液面上时的卷曲、转印效率优异的液压转印用膜的液压转印用基膜及其制造方法。本发明是含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的液压转印用基膜以及液压转印用基膜的制造方法，该方法包括使用含有聚乙烯醇和含仲烷基的表面活性剂的制膜原液进行制膜的工序。液压转印用基膜中，相对于100质量份的聚乙烯醇，优选含有0.05～4质量份的含仲烷基的表面活性剂，此外，至少一个面的算数平均粗糙度(Ra)优选为400nm以下。

公开(公告)号：CN107001671A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580067580.9

申请日：2015-12-09

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 伊藤厚志 ,  矶崎孝德

IPC: C08J5/18 ,  B29C41/26 ,  B29C41/46 ,  G02B5/30 ,  B29K29/00 ,  B29L7/00 ,  B29L11/00

CPC classification number: B29C41/26 ,  B29C41/46 ,  C08J5/18 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明为PVA膜，其中，通过从垂直于膜面的方向朝向膜的宽度方向倾斜的方向的入射光来测定该PVA膜的各面的折射率A和B时（其中，A≥B），A为1.524以上且1.530以下；以及，PVA膜的制造方法，其使用具备旋转轴彼此平行的干燥辊和热处理辊的制膜装置，在第1干燥辊上将包含PVA的制膜原液喷出成膜状并进行部分干燥后，利用第2干燥辊及之后的干燥辊进一步进行干燥，其后利用多个热处理辊进行热处理来制造PVA膜，此处，将该热处理辊之中的位于最下游侧的热处理辊（Y）的圆周速度（SY）相对于位于最上游侧的热处理辊（X）的圆周速度（SX）之比（SY/SX）设为0.993以上且0.997以下。

公开(公告)号：CN105874364A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201480072554.0

申请日：2014-12-17

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 高藤胜启 ,  矶崎孝德

IPC: G02B5/30 ,  B32B7/02 ,  B32B27/30 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明提供光学膜制造用初始膜以及使用该初始膜的光学膜的制造方法，所述光学膜制造用初始膜即使不进行在硼酸水溶液中浸渍、空中高温拉伸之类的不溶化处理也可以在与水接触的步骤中抑制聚乙烯醇的溶出，可以使用通用的光学膜制造设备简便地制造光学性能优异的光学膜。光学膜制造用初始膜，其具有热塑性树脂膜层和含有硼化合物的聚乙烯醇层；以及制造方法，其是使用该光学膜制造用初始膜的光学膜的制造方法，其具有拉伸步骤。

公开(公告)号：CN105431751A

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：CN201480042973.X

申请日：2014-08-05

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 高藤胜启 ,  矶崎孝德

IPC: G02B5/30 ,  C08F16/04 ,  C08J5/18

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08F216/06 ,  C08F218/08 ,  C08J2329/04 ,  G02B5/3033 ,  C08F216/04 ,  C08F218/04

Abstract: [课题]提供可容易地制造光学特性、色相和耐久性均优异的光学膜的PVA膜，以及使用了该PVA膜的光学膜的制造方法。[解决方案]PVA膜，由自旋-自旋弛豫时间T2求出结晶成分量（a1）、约束非晶成分量（a2）和非晶成分量（a3）时，结晶成分量（a1）和约束非晶成分量（a2）的合计在结晶成分量（a1）、约束非晶成分量（a2）和非晶成分量（a3）的合计中所占的比例为10~32%，自旋-自旋弛豫时间T2是通过在60℃下处理1小时后进行脉冲NMR测定（观测核：1H）而得到的；以及，使用该PVA膜的光学膜的制造方法，该制造方法具备进行单轴拉伸的工序。