冷却系统及熔窑
    54.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113582510A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110892992.3

    申请日:2021-08-04

    IPC分类号: C03B5/23 C03B5/16

    摘要: 本发明涉及一种冷却系统及熔窑,包括:主风管和连通所述主风管的若干个出风嘴,所述主风管上设有至少三排与池壁砖缝平行的所述出风嘴;所述的出风嘴分别朝向池壁砖缝及位于池壁砖缝两侧的相交形成设定夹角的拐角砖。通过在主风管上设置多排出风嘴,并将出风嘴分别对应池壁砖缝及形成池壁砖缝并相交形成设定角度的拐角砖,在进行冷却时,不仅可以对整条池壁砖缝进行吹风冷却,也可以池壁砖缝两侧的拐角砖进行冷却,实现对处于拐角位置的受到较快液流速度冲刷而被侵蚀的池壁砖缝与拐角砖进行整体冷却的效果。

    硼硅玻璃及其制备方法
    56.
    发明授权

    公开(公告)号:CN117303733B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202311252249.7

    申请日:2023-09-26

    IPC分类号: C03C3/091 C03B5/16

    摘要: 本发明涉及一种硼硅玻璃及其制备方法。硼硅玻璃的制备方法包括以下步骤:根据硼硅玻璃的成分要求,提供含有SiO2源和B2O3源的第一配合料;在所述第一配合料中加入玻璃粉,制备第二配合料,所述玻璃粉在所述第二配合料中的质量分数为4%~40%,所述玻璃粉的粒径≤75μm;将所述第二配合料进行熔制、澄清和退火处理,制备硼硅玻璃。该制备方法在对第二配合料进行熔制处理时,玻璃粉的软化温度低和粒径小,容易快速软化为具有一定粘附性的液相,并形成包裹第一配合料的保护层,使得第一配合料中的易挥发组分能够吸附和熔解于该保护层中,从而达到从根源上减少B2O3挥发率的目的。