磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和它们的制造方法

    公开(公告)号:CN101977860A

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN200980109840.9

    申请日:2009-03-18

    Abstract: 本发明提供能够实现化学耐久性优异、具有极平滑表面的磁记录介质基板的磁记录介质基板用玻璃、由上述玻璃构成的磁记录介质基板、具备上述基板的磁记录介质和它们的制造方法。磁记录介质基板用玻璃为如下玻璃I、玻璃II以及玻璃III。所述玻璃I以质量%表示,含有Si 20~40%、Al 0.1~10%、Li 0.1~5%、Na 0.1~10%、K 0~5%(其中,Li、Na和K的总含量为15%以下)、Sn 0.005~0.6%、Ce 0~1.2%,且Sb含量为0~0.1%、不含有As和F;所述玻璃II以氧化物为基准进行换算,以摩尔%表示,含有SiO2 60~75%、Al2O3 1~15%、Li2O 0.1~20%、Na2O 0.1~15%、K2O 0~5%(其中,Li2O、Na2O和K2O的总含量为25%以下),基于玻璃成分总量,进一步添加有0.01~0.7质量%的Sn氧化物、0~1.4质量%的Ce氧化物,并且Sb氧化物的含量为0~0.1质量%,且不含有As和F;所述玻璃III以氧化物为基准进行换算,以摩尔%表示,含有SiO2 60~75%、Al2O3 1~15%、Li2O 0.1~20%、Na2O 0.1~15%、K2O 0~5%(其中,Li2O、Na2O和K2O的总含量为25%以下),所述玻璃III还含有Sn氧化物和Ce氧化物,基于玻璃成分总量,Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.1~3.5质量%,Sn氧化物的含量相对于Sn氧化物和Ce氧化物的总含量之比(Sn氧化物的含量/(Sn氧化物的含量+Ce氧化物的含量))为0.01~0.99,Sb氧化物的含量为0~0.1%,并且不含有As和F。

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