一种功率芯片的划片方法及半导体器件

    公开(公告)号:CN109449084A

    公开(公告)日:2019-03-08

    申请号:CN201811136919.8

    申请日:2018-09-27

    IPC分类号: H01L21/304 H01L21/78

    摘要: 本发明公开了一种功率芯片的划片方法及半导体器件,其中,该划片方法包括如下步骤:在晶圆正面的划片道位置上形成划片槽,划片槽露出晶圆背面的金属层;在划片槽内填充塑封材料;采用刀片切割方式对晶圆进行切割,得到若干个独立的芯片。该功率芯片的划片方法,先在晶圆的正面制备划片槽,划片槽延伸至晶圆背面的金属层,这样可以大大降低后续采用金刚石砂轮划片进行机械切割的切割强度;之后,在划片槽内填充塑封材料,塑封材料对芯片的侧壁进行了保护,提高了芯片的耐压等级;最后,采用刀片切割晶圆得到若干个独立的功率芯片;解决了现有技术中功率芯片采用机械切割方式进行划片导致在划片后的芯片正反两面边缘处产生崩边的问题。

    芯片子模组与凸台的匹配方法及压接型IGBT器件的封装方法

    公开(公告)号:CN109256339A

    公开(公告)日:2019-01-22

    申请号:CN201811014024.7

    申请日:2018-08-31

    IPC分类号: H01L21/56 H01L23/31 H01L21/66

    摘要: 本发明公开了一种芯片子模组与凸台的匹配方法及压接型IGBT器件的封装方法,其中芯片子模组与凸台的匹配方法,通过将芯片子模组的高度偏差进行分组,然后将分组后的芯片子模组的高度偏差分别与随机生成的待匹配凸台的高度偏差进行叠加,计算待匹配凸台的整体数量匹配偏差值,然后与第二预设阈值进行比较,并对待匹配凸台的差值进行补偿直到整体数量匹配偏差小于第二预设阈值,进而实现芯片子模组与待匹配凸台一一对应的目的。本发明可以实现对批量的芯片子模组与待匹配凸台的快速匹配,即提高了匹配效率,且可以使得整体匹配误差较小,通过该匹配方式有利于压接型IGBT器件的封装,进而保证了压接型IGBT器件具有良好的电气特性。

    一种SiC Mosfet电性能的测试装置

    公开(公告)号:CN108562813A

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201810283089.5

    申请日:2018-04-02

    IPC分类号: G01R31/00 G01R19/00

    摘要: 本发明公开了一种SiC Mosfet电性能的测试装置,它包括机械压力设备、温控箱、电压检测器、电流检测器和控制器,所述控制器包括存储器、处理器以及存储在存储器上可在处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述程序时实现以下步骤:步骤1、执行机械压力条件下的测试,确认是否退出测试;步骤2、执行温度条件下的测试;确认是否退出测试;步骤3、执行机械压力和温度两个条件下的电压和电流测试,确认是否退出测试;重复上述各步骤,手动控制程序结束。本发明的技术效果是:能测试SiC Mosfet器件在机械压力和温度条件下的电压和电流,构建SiC Mosfet器件上电压、电流与机械压力和温度的变化关系。

    一种碳化硅器件的封装结构

    公开(公告)号:CN111540718B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202010384365.4

    申请日:2020-05-07

    摘要: 本发明公开了一种碳化硅器件的封装结构,包括:驱动基板;碳化硅芯片,其烧结连接于驱动基板的正面,碳化硅芯片的栅极烧结引出有栅极弹性金属探针,源极烧结引出有源极金属柱;DBC基板组件,具有与栅极弹性金属探针位置对应的第一覆铜层和与源极金属柱位置对应的第二覆铜层;弹性组件,位于DBC基板组件背向驱动基板的一侧,在封装过程中,其弹性力驱使DBC基板组件靠近驱动基板以使第一覆铜层与栅极弹性金属探针、及第二覆铜层与源极金属柱压接相连。这种碳化硅器件的弹性压接封装结构,通过烧结引出的栅极弹性金属探针和DBC基板组件的第一覆铜层实现低电感互联,降低了封装寄生电感,提高了碳化硅器件封装结构的可靠性。

    一种芯片封装电极及其制备方法和芯片封装结构

    公开(公告)号:CN111524862B

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN202010366300.7

    申请日:2020-04-30

    摘要: 本发明提供一种芯片封装电极及其制备方法和芯片封装结构。该芯片封装电极,包括:电极板以及在所述电极板上层叠设置的第一钼铜合金层、弹性层和第二钼铜合金层,其中,所述第一钼铜合金层和第二钼铜合金层中钼的质量百分比沿背离所述电极板的方向上均逐渐增大,所述弹性层由铜和弹性体形成的复合材料制成。第一钼铜合金层和第二钼铜合金层中,铜保证该电极具有优良的导电性能,由于钼的热膨胀系数与芯片更匹配,从而降低了热膨胀系数不匹配对电极或芯片所造成的损害;弹性层中,铜保证了电极的导电性能,弹性体的添加增加了电极的弹性,进一步降低了对芯片的机械损伤风险。上述封装电极结构紧凑,电极与芯片距离适宜,保证了芯片的良好散热。