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    再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物和粘合片
    61.
    发明公开
    再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物和粘合片 有权

    公开(公告)号：CN102676094A

    公开(公告)日：2012-09-19

    申请号：CN201210044649.4

    申请日：2012-02-24

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 三井数马 ,  天野立巳 ,  高岛杏子 ,  森本有 ,  米崎幸介

    IPC: C09J133/04 ,  C09J133/02 ,  C09J7/00

    CPC classification number: C08L33/10 ,  C08L33/02 ,  C08L33/08 ,  C08L2312/00 ,  Y10T428/2891

    Abstract: 本发明提供再剥离用水分散型丙烯酸系粘合剂组合物和粘合片，该粘合剂组合物可形成具有优异的防止粘合力升高的性能、外观特性和对被粘物的低污染性的可再剥离的粘合剂层。所述粘合剂组合物的特征在于，含有丙烯酸乳液系聚合物(A)、非水溶性交联剂(B)和含羧酸丙烯酸系聚合物(C)，所述丙烯酸乳液系聚合物(A)以(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基不饱和单体为必须的原料单体来构成，原料单体总量中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量为70～99.5重量％，含羧基不饱和单体的含量为0.5～10重量％，所述含羧酸丙烯酸系聚合物(C)是以(甲基)丙烯酸为必须的原料单体来构成的，原料单体总量中的丙烯酸和甲基丙烯酸的总量为11重量％以上。

    粘合片的制造方法及带粘合片的光学膜的制造方法
    62.
    发明公开
    粘合片的制造方法及带粘合片的光学膜的制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN119768480A

    公开(公告)日：2025-04-04

    申请号：CN202380055543.0

    申请日：2023-07-21

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  久保田阳

    IPC: C09J7/40 ,  C09J7/38 ,  C09J133/04 ,  G02B5/30

    Abstract: 本发明提供适于在低环境负担下制造粘合片的技术。所提供的粘合片的制造方法包括：使用剥离衬，对依次包含基材片、含有光固化性组合物的涂布层及剥离衬的层叠体照射光，由涂布层形成粘合片的工序A；和将剥离衬从粘合片剥离的工序B。在上述制造方法中，使用在工序B中被剥离后的剥离衬而重复实施工序A及工序B。剥离衬使用从未使用的状态开始计数在从粘合片剥离了3次后测得的与粘合片的剥离力PS3小于1.0N/50mm的片。

    具有隔膜的带粘合剂层的偏振膜
    64.
    发明公开
    具有隔膜的带粘合剂层的偏振膜 审中-公开

    公开(公告)号：CN117693695A

    公开(公告)日：2024-03-12

    申请号：CN202280051760.8

    申请日：2022-08-05

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  元冈咲菜 ,  半田至

    IPC: G02B5/30

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有导电性能、并且兼顾了隔膜的轻剥离性和粘合剂层的再操作性的具有隔膜的带粘合剂层的偏振膜。本发明的具有隔膜的带粘合剂层的偏振膜在偏振膜的一面或两面设置有在隔膜上具有粘合剂层的带隔膜的粘合剂层，上述隔膜在基材膜上具有脱模层，上述脱模层含有具有反应性官能团的反应性有机硅树脂、及重均分子量为40万以上的非反应性有机硅树脂，在上述反应性有机硅树脂与上述非反应性有机硅树脂的合计含量100质量％中，上述反应性有机硅树脂的含量为50～70质量％、上述非反应性有机硅树脂的含量为30～50质量％，上述脱模层的弹性模量小于1.5MPa，上述粘合剂层设置于上述脱模层上，上述粘合剂层含有导电剂，上述粘合剂层含有基础聚合物，该基础聚合物含有小于0.5质量％的含羧基单体作为单体单元。

    带粘合剂层的薄膜
    66.
    发明公开
    带粘合剂层的薄膜 无效

    公开(公告)号：CN115210329A

    公开(公告)日：2022-10-18

    申请号：CN202180017426.6

    申请日：2021-01-20

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  中田美惠 ,  花冈英纪 ,  江原卓 ,  徐民守

    IPC: C09J7/29 ,  B32B27/00 ,  C09J7/38 ,  C09J7/40 ,  C09J133/00

    Abstract: 提供一种无隔离膜的带粘合剂层的薄膜，其为不使用聚乙烯系薄膜作为基材层的带粘合剂层的薄膜，能够进行无隔离膜方式下的卷取和退卷，能够抑制被粘物的表面的污染。本发明的实施方式的带粘合剂层的薄膜依次具有脱模层、基材层和粘合剂层，在该粘合剂层的与该基材层相反一侧不具有隔离膜，该脱模层是由脱模层形成材料形成的层，前述脱模层形成材料含有含长链烷基的异氰酸酯和聚乙烯醇系树脂，该基材层包含聚酯系树脂，该粘合剂层的厚度为0.5μm～5.0μm。

    光学层叠体及图像显示装置
    67.
    发明授权
    光学层叠体及图像显示装置 有权

    公开(公告)号：CN108363133B

    公开(公告)日：2022-07-05

    申请号：CN201810014433.0

    申请日：2018-01-08

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  外山雄祐 ,  池岛健太郎

    IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14

    Abstract: 本发明涉及光学层叠体及图像显示装置。本发明的目的在于提供固定于吸附台时在偏振片上残留的痕迹得到抑制的光学层叠体。所述光学层叠体按顺序具有表面保护膜、第1粘合剂层、偏振片、第2粘合剂层和剥离膜，当将表面保护膜的拉伸弹性模量与厚度之积记为A、将偏振片的拉伸弹性模量与厚度之积记为B、将剥离膜的拉伸弹性模量与厚度之积记为C时，满足A＞B+C。

    光学层叠体的制造方法及图像显示装置的制造方法
    68.
    发明授权
    光学层叠体的制造方法及图像显示装置的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN108363134B

    公开(公告)日：2021-11-09

    申请号：CN201810014447.2

    申请日：2018-01-08

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  外山雄祐

    IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14

    Abstract: 本发明涉及光学层叠体的制造方法及图像显示装置的制造方法。本发明的目的在于提供在将剥离膜剥离时、偏振片从表面保护膜上的剥离得到抑制的光学层叠体的制造方法。其为按顺序具有表面保护膜、第1粘合剂层、偏振片、第2粘合剂层和剥离膜的光学层叠体的制造方法，其包含将剥离膜从第2粘合剂层上剥离的剥离工序，和将已经剥离的剥离膜再次贴合在第2粘合剂层上的再贴合工序；当将表面保护膜的初始剥离力记为X(N/50mm)、将剥离工序前的剥离膜的初始剥离力记为Y1(N/50mm)、将再贴合工序后的剥离膜的初始剥离力记为Y2(N/50mm)时，满足Y2＜X≤Y1。

    带粘合剂层的偏振膜
    69.
    发明公开
    带粘合剂层的偏振膜 有权

    公开(公告)号：CN113167964A

    公开(公告)日：2021-07-23

    申请号：CN201980081837.4

    申请日：2019-12-11

    Applicant: 日东电工株式会社

    Inventor： 森本有 ,  外山雄祐 ,  仲野武史 ,  铃木立也 ,  家田博基

    IPC: G02B5/30 ,  C09J7/38

    Abstract: 本发明提供一种具备高耐久性和再操作性的带粘合剂层的偏振膜。本发明提供的带粘合剂层的偏振膜具备：偏振膜、和粘合剂层，其中，上述粘合剂层包含基础聚合物和有机硅低聚物，上述基础聚合物为(甲基)丙烯酸类聚合物，并且相对于上述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，以0.1～20重量份包含上述有机硅低聚物，上述有机硅低聚物的Tg为‑50℃以上且100℃以下、侧链的有机硅官能团当量为1000～20000g/mol、重均分子量为10000以上且300000以下。

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