光学玻璃
    61.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101932533A

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN200980103652.5

    申请日:2009-01-22

    CPC classification number: C03C3/068 C03B17/062 C03B40/02 C03B40/04

    Abstract: 本发明涉及一种光学玻璃,其包含,以摩尔%计,0.1至40%的SiO2,10至50%的B2O3,总计0至10%的Li2O、Na2O和K2O,总计0至10%的MgO、CaO、SrO和BaO,0.5至22%的ZnO,5至50%的La2O3,0.1至25%的Gd2O3,0.1至20%的Y2O3,0至20%的Yb2O3,0至25%的ZrO2,0至25%的TiO2,0至20%的Nb2O5,0至10%的Ta2O5,大于0.1%但不大于20%的WO3,0至小于3%的GeO2,0至10%的Bi2O3,和0至10%的Al2O3,SiO2的含量与B2O3的含量的质量比,SiO2/B2O3,为1或更小,所述光学玻璃具有1.86至1.95的折射率nd并且具有(2.36-nd)/0.014或更高但小于38的阿贝数vd。

    光学玻璃、加压成形用玻璃原材料、光学元件毛坯及光学元件

    公开(公告)号:CN115925249A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202310061648.9

    申请日:2019-10-10

    Inventor: 根岸智明

    Abstract: 本发明提供一种在玻璃组成中高价的玻璃成分所占的比例低、折射率高、且具有低色散性的光学玻璃。在所述光学玻璃的以阳离子%表示的玻璃组成中,Ta5+含量为0~5阳离子%,阳离子比(Ti4+/(Ti4++Nb5++W6++Bi3+))为0.60~1.00,阳离子比((Si4++B3+)/(La3++Gd3++Y3+))为0.30~2.40,阳离子比((Si4++B3+)/(Ti4++Nb5++W6++Bi3+))为0.30~34.00,阳离子比((La3++Gd3++Y3+)/(Ti4++Nb5++W6++Bi3+))为0.30~33.00,阳离子比((Mg2++Ca2++Sr2++Ba2++Zn2+)/(La3++Y3+))为0.00~1.50,阳离子比((Mg2++Ca2++Sr2++Ba2++Zn2+)/(Si4++B3+))为0.00~1.00,阳离子比((Gd3++Nb5++W6+)/(Si4++B3++Zn2++La3++Y3++Zr4++Ti4+))为0.000~0.100,该光学玻璃的折射率nd为1.9000~2.1500、且阿贝数νd为20.0~35.0。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN111233318A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010110966.6

    申请日:2015-11-06

    Inventor: 根岸智明

    Abstract: 本发明涉及玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件。一种氧化物玻璃,以阳离子%表示,B3+和Si4+的合计含量为43~65%,La 3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量为25~50%,Nb5+、Ti4+、Ta5+及W6+的合计含量为3~12%,Zr4+含量为2~8%,阳离子比{(B3++Si4+)/(La3++Y3++Gd3++Yb3+)}等各比例为特定范围,阿贝数νd的范围为39.5~41.5,且折射率nd相对于阿贝数νd满足下述(1)式:nd≥2.0927-0.0058×νd…(1)。根据本发明,能够提供具有在光学系统中有用的光学特性、且能够有助于光学元件的轻量化的玻璃。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN106255672B

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201580009854.9

    申请日:2015-11-06

    Inventor: 根岸智明

    Abstract: 本发明的一个方式涉及一种玻璃,所述玻璃为氧化物玻璃,其中,以阳离子%表示,B3+和Si4+的合计含量为43~65%,La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量为25~50%,Nb5+、Ti4+、Ta5+及W6+的合计含量为3~12%,Zr4+的含量为2~8%,B3+和Si4+的合计含量相对于La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.70~1.75,B3+和Si4+的合计含量相对于Nb5+、Ti4+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比为9.00以下,Zn2+的含量相对于La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量的阳离子比不足0.2,La3+的含量含量相对于La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.50~0.95,Y3+的含量相对于La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.10~0.50,Gd3+的含量相对于La3+、Y3+、Gd3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.10以下,Nb5+的含量相对于Nb5+、Ti4+及W6+的合计含量的阳离子比为0.80以上,Ta5+的含量相对于Nb5+、Ti4+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比为0.2以下,阿贝数νd的范围为39.5~41.5,且折射率nd相对于阿贝数νd满足nd≥2.0927‑0.0058×νd的关系。

    光学玻璃及其应用
    67.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110128004A

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201910407268.X

    申请日:2014-08-22

    Inventor: 根岸智明

    Abstract: 本发明涉及光学玻璃及其应用。上述光学玻璃为氧化物玻璃,其中,将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+及Zr4+作为必要成分,以阳离子%表示,包含:合计为5~55%的Si4+和B3+;10~50%的La3+(La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+的合计为70%以下);以及合计为22~55%的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+,Ti4+的含量为22%以下,[Si4+/(Si4++B3+)]为0.40以下,La3+、Gd3+、Y3+、Yb3+、Zr4+、Ti4+、Nb5+、Ta5+、W6+及Bi3+的合计含量为65%以上,[Y3+/(La3++Gd3++Y3++Yb3+)]为0.12以下,[Ba2+/(La3++Gd3++Y3++Yb3+)]为0.40以下,[(Zr4++Ti4++Nb5++Ta5++W6+)/Zr4+]为2以上,(Ti4+/B3+)为0.85以上,阿贝数νd的范围为23~35,且折射率nd满足nd≥2.205-(0.0062×νd)。本发明的光学玻璃是一种高折射率低色散玻璃,同时具有优秀的玻璃稳定性。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN108529871A

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201810432255.3

    申请日:2015-09-11

    Inventor: 根岸智明

    Abstract: 本发明提供玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件。该玻璃热稳定性优秀且具有适合于制作胶合透镜的吸收特性,以质量%表示,SiO2和B2O3的合计含量为20~35%,La2O3、Gd2O3、Y2O3及Yb2O3的合计含量为50~70%,La2O3、Gd2O3、Y2O3、Yb2O3、ZrO2含量分别为37~69%、0~3%、3%~30%、0%以上且不足2%、2~15%,TiO2、Nb2O5及Ta2O5的合计含量为1~6%,ZnO、WO3含量分别为0~4%、0~2%,质量比ZnO/Nb2O5为0~1.0,作为必要成分包含Nb2O5,折射率nd为1.790~1.830,阿贝数νd为45~48。

    玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件

    公开(公告)号:CN107207320A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201680005396.6

    申请日:2016-01-13

    Inventor: 根岸智明

    CPC classification number: C03C3/068 G02B1/00

    Abstract: 本发明涉及一种玻璃,为氧化物玻璃,以质量%表示,B2O3和SiO2的合计含量为15~35质量%,La2O3、Y2O3、Gd2O3和Yb2O3的合计含量为45~65质量%,其中,Yb2O3含量为3质量%以下,ZrO2含量为3~11质量%,Ta2O5含量为5质量%以下,B2O3含量相对于B2O3和SiO2的合计含量的质量比为0.4~0.900,B2O3和SiO2的合计含量相对于La2O3、Y2O3、Gd2O3和Yb2O3的合计含量的质量比为0.42~0.53,Y2O3含量相对于La2O3、Y2O3、Gd2O3和Yb2O3的合计含量的质量比为0.05~0.45,Gd2O3含量相对于La2O3、Y2O3、Gd2O3和Yb2O3的合计含量的质量比为0~0.05,Nb2O5含量相对于Nb2O5、TiO2、Ta2O5和WO3的合计含量的质量比为0.5~1,折射率nd的范围为1.800~1.850,且阿贝数νd的范围为41.5~44。

Patent Agency Ranking