用于电解蚀刻铜的蚀刻设备

    公开(公告)号:CN103975096B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201180075364.0

    申请日:2011-10-08

    IPC分类号: C25F7/02 C23F1/46

    摘要: 本发明涉及用于在蚀刻材料上电解蚀刻铜的蚀刻设备,包括第一混合设备,其被设计成接收包含铜离子的酸性电解质和氧气或臭氧气体,以便形成第一液体?气体混合物,该混合物可从所述第一混合设备的第一出口被引导进入与其耦合的连接线路;容器,其含有容器液体;第二混合设备,其被布置在所述容器内并且被所述容器液体环绕,其中所述第二混合设备具有抽吸孔口以便抽吸存在于所述抽吸孔口的区域中的所述容器液体,其中所述第二混合设备被连接至所述连接线路并被设计成将所述第一液体/气体混合物和所抽吸的所述容器液体引导至所述第二混合设备的收缩区中,使得所抽吸的所述容器液体能够与所述第一液体/气体混合物混合并由此形成第二液体/气体混合物,其中所述第二混合设备具有第二出口,所述第二液体/气体混合物能够通过所述第二出口流出并与存在于所述第二出口的区域中的所述容器液体混合;以及容器出口线路,其被设计成将其中存在的所述容器液体供应至设置在蚀刻模块中的所述蚀刻材料。

    臭氧液生成装置
    66.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104023832A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201280053560.2

    申请日:2012-07-02

    IPC分类号: B01F1/00 B01F5/10 C01B13/11

    摘要: 臭氧液生成装置具备:臭氧产生机构(101),其利用含有氧的气体来产生臭氧气体;气液混合机构(102),其将臭氧气体和液体混合来生成臭氧液;贮液槽(103),其对臭氧液进行气液分离;以及循环路径(A),其使气体在臭氧产生机构(101)、气液混合机构(102)和贮液槽(103)之间循环。臭氧产生机构(101)包括臭氧产生电极(2),在氧产生电极(2)中,包含金属体的圆柱状的轴(21)和包含电介质的中空管(23)在轴(21)的外周和中空管(23)的内周之间隔开间隙地配置成同轴状。在臭氧产生电极(2)中,上述间隙为放电空间(24),含有氧的气体通过上述间隙,从而产生臭氧气体。

    一种臭氧接触池及臭氧接触方法

    公开(公告)号:CN102040276B

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN201010609428.8

    申请日:2010-12-28

    发明人: 李继 董文艺

    IPC分类号: C02F1/78 C02F1/50

    摘要: 本发明涉及水处理中的一种臭氧接触池及臭氧接触方法。本发明提供了一种臭氧接触池,包括按进水顺序布置并依次连通的进水廊道、曝气廊道、配水区、反应区和出水槽,所述进水廊道的顶部为出水端,所述曝气廊道的顶部为入水端,所述进水廊道的顶部与所述曝气廊道的顶部相连通。本发明还提供了一种臭氧接触方法。本发明的有益效果是:曝气廊道与反应区分开设置,避免了曝气造成的水流扰动对水力效率的影响;曝气廊道与配水区通过狭窄通道连接,增加了臭氧浓度在水中的均匀分布;设置了穿孔板和出水堰,使水流在反应区内上升速度均匀分布,获得了接近完全推流式的水力流态。反应区因此消毒效率可得到大幅度提高。