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公开(公告)号：CN1079808C
公开(公告)日：2002-02-27
申请号：CN95118518.7
申请日：1995-10-27
申请人： 希巴特殊化学控股公司
发明人： F·古古穆斯
IPC分类号： C08K5/3492
CPC分类号： C08G73/0644 , C08G73/0273 , C08K5/34926 , C08K5/353
摘要： 一种含例如式Ⅰ和式Ⅲ化合物的稳定剂混合物，其中n1和n2可为2到20的整数，R1，R3，R6和R8可彼此独立地为氢，C1-C4烷基或式Ⅱ基团(其中R5可为氢或甲基)，R2和R7独立地为C1-C6亚烷基，R4可为C1-C10烷基或环己基，R9和R10可独立为C1-C8烷基或式Ⅱ基团，或R9和R10与相连的氮原子一起形成吗啉代。
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公开(公告)号：CN1075100C
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN96110587.9
申请日：1996-07-18
申请人： 希巴特殊化学控股公司
CPC分类号： C09B62/4403 , C09B62/043 , C09B67/004 , C09B67/0047 , Y10S8/917 , Y10S8/918
摘要： 这里描述一种染料混合物，它包括：至少一种结构式(1)的化合物和至少一种结构式(2)的化合物，其中各种变化形式如权利要求中所定义，它适合于作为将各种各样的纤维材料染色或印染的纤维反应活性染料。
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公开(公告)号：CN1066176C
公开(公告)日：2001-05-23
申请号：CN94115632.X
申请日：1994-08-31
申请人： 希巴特殊化学控股公司
CPC分类号： C09B62/4403 , C09B62/08
摘要： 公开了以下通式的反应性染料，其中各基团如权利要求所示。本发明的染料特别适用于纤维素材料染色，并提供了具有良好的坚牢度特性和高给色量的染色。
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公开(公告)号：CN1065743C
公开(公告)日：2001-05-16
申请号：CN94190428.8
申请日：1994-06-27
申请人： 希巴特殊化学控股公司
发明人： P·莫科里
IPC分类号： A61K7/13
CPC分类号： A61Q5/065 , A61K8/49 , A61K8/492 , A61K8/4926 , A61K8/494 , A61K8/4946 , A61K2800/43 , A61Q5/10
摘要： 用权利要求1所指出的式(1)-(6)的染料将含角蛋白的纤维，尤其是人发染色。这些染料使得借助三色原理染色甚至染成深色调成为可能。
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公开(公告)号：CN1062862C
公开(公告)日：2001-03-07
申请号：CN95101410.2
申请日：1995-01-16
申请人： 希巴特殊化学控股公司
IPC分类号： C07D295/03 , C09D5/08
CPC分类号： C07D295/03 , C07C59/84 , C07C59/88 , C09D5/086
摘要： 本发明涉及式I的晶体配位化合物，其中各符号与权利要求1中定义的相同。该化合物用作保护金属表面用的涂料组合物中的缓蚀剂。
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公开(公告)号：CN1257866A
公开(公告)日：2000-06-28
申请号：CN99118524.2
申请日：1994-07-01
申请人： 希巴特殊化学控股公司
IPC分类号： C07D303/12 , C08G59/02 , C08G59/17 , G03F7/027
CPC分类号： C08G59/1466 , C08G59/066 , Y10S525/922
摘要： 本发明公开了式Ⅱ的新颖环氧环丙烯酸酯,它们的分子量较高,能化学交联,它们可应用于另外使用高聚合度聚合物胶粘剂的光致抗蚀剂配方中。这种光致抗蚀剂配方尤其适用于印刷电路板和印刷板材方面,并适用于含水介质、干燥后的配方几乎无粘性,并特别在导体上具有很好的边缘遮盖力。
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公开(公告)号：CN1052245C
公开(公告)日：2000-05-10
申请号：CN94108126.5
申请日：1994-07-01
申请人： 希巴特殊化学控股公司
IPC分类号： C08G59/17
CPC分类号： C08G59/1466 , C08G59/066 , Y10S525/922
摘要： 本发明公开了式Ⅲ的新颖含羧基环氧丙烯酸酯，它们的分子量较高，能化学交联，它们可应用于另外使用高聚合度聚合物胶粘剂的光致抗蚀剂配方中。这种光致抗蚀剂配方尤其适用于印刷电路板和印刷板材方面，并适用于含水介质、干燥后的配方几乎无粘性，并特别在导体上具有很好的边缘遮盖力。
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公开(公告)号：CN1249898A
公开(公告)日：2000-04-05
申请号：CN98803096.9
申请日：1998-01-15
申请人： 希巴特殊化学控股公司
IPC分类号： H05K13/00
CPC分类号： H05K13/0069
摘要： 在一种传送薄的、板形基片例如印刷电路板的一个传送装置中,该基片被传送到涂覆站等,为了简化操作,设置保持基片(7)的框架(1)和在框架(1)的框架件(2)上相互间隔并相互相对布置的张紧件(4),张紧件(4)与基片的边缘配合并张紧基片,框架(1)设有与传送带或类似物连接的装置(16)。
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公开(公告)号：CN1048482C
公开(公告)日：2000-01-19
申请号：CN95102208.3
申请日：1995-03-10
申请人： 希巴特殊化学控股公司
发明人： C·克莱纳
IPC分类号： C07C69/732 , C07C67/03
CPC分类号： C07C67/08 , C07C69/732
摘要： 本发明为一种羟苯基羧酸酯的制备工艺，由分子式Ⅱ所表示的化合物，式中R为甲基或乙基和分子式R3(OH)n(Ⅲ)所表示的化合物在醋酸镁催化剂存在下进行反应制备分子式Ⅰ所表示的化合物，上式中R1和R2分别为C1-C8烷基或环戊基或环己基中的一种基团；m为0，1，2或3；n为1或2；R3依据n的大小为C4-C20的烷基，C5-C12的环烷基，C2-C4的亚烷基或被氧阻断的C4-C12的亚烷基中的一种基团。
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公开(公告)号：CN1240567A
公开(公告)日：2000-01-05
申请号：CN97180684.5
申请日：1997-12-08
申请人： 希巴特殊化学控股公司
发明人： 汉斯-格奥尔格·比洛 , 黛安娜·尼泽尔
摘要： 一种用于对板(4)涂浇注的材料(L)、尤其用于对印刷电路板涂钎焊抗蚀剂的方法,其中要涂料的板(4)通过一浇注材料帘并在其下传送,浇注材料帘垂直于传送方向下降且浇注的材料以一浇注帘(LV)的形式下降从而落至板(4)之上,下降的浇注帘在落至板(4)之上之前落在一平面的偏致表面(20)上,在偏致表面(20)和浇注帘(LV)的平面之间形成一锐角(α),此偏致表面(20)在其下端有一截止过(21),结果浇注的材料在落至偏致表面(20)上之后沿此偏致表面(20)向下向截止过(21)行进并然后降在板(4)上。
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