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公开(公告)号：CN103933876B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201410146804.2
申请日：2014-04-10
申请人： 中国科学院近代物理研究所
摘要： 本发明涉及一种核孔滤膜的制备方法，特别涉及孔道结构由圆锥形和圆柱形孔道组合而成的核孔滤膜。一种复合型孔道结构的核孔滤膜的制备方法，其主要包括以下步骤：采用高能的重离子辐照聚合物薄膜，形成潜径迹；选择具有两种径迹蚀刻速率不同的蚀刻液，分两次对辐照后的聚合物薄膜同一表面进行蚀刻，形成一种新型的锥/柱复合型孔道结构。这种锥/柱复合型孔道具有明显的结构特点：孔道由上下两部分衔接组成，组成部分包括圆柱和圆锥孔道。圆柱孔道利用高径迹蚀刻速率的液体蚀刻加工完成；圆锥孔道利用低径迹蚀刻速率的液体蚀刻加工完成。这种新的孔道设计不仅可以帮助解决小孔径核孔滤膜过滤通量小的技术问题，还有助于解决单层过滤和反复清洗的技术问题。
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公开(公告)号：CN204731151U
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201520158290.2
申请日：2015-03-20
申请人： 中国科学院近代物理研究所
摘要： 本实用新型涉及一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。本实用新型的优点是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。
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公开(公告)号：CN204731078U
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201520303284.1
申请日：2015-05-12
申请人： 中国科学院近代物理研究所
IPC分类号： G01N1/28
摘要： 本实用新型涉及一种核孔膜小样品蚀刻装置，其主要特点是包括蚀刻杯，在蚀刻杯的上方设有密封的上杯盖，在上杯盖的下方设有与蚀刻杯二次密封的内盖，在内盖的下方设有膜支架，在蚀刻杯内设有热敏探头；蚀刻杯的杯壁为双层夹空，其上、下两侧分别设有进水口和出水口，进水口和出水口分别与恒温循环系统的出水端与进水端相连通；在蚀刻杯的下方设有磁子与磁力搅拌器组成磁传动搅拌。发明优点是磁力搅拌使得蚀刻液体保持均匀；通过蚀刻杯夹层循环水加热，使得蚀刻液温度均匀；内置热敏探头与蚀刻液相连，使得蚀刻液体的温度可以得到精确控制；整个蚀刻杯保持封闭，可以减少溶液的挥发；样品通过样品夹固定，样品保持平整，取样方便，便于清洗晾干。
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公开(公告)号：CN215848614U
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202120519397.0
申请日：2021-03-12
申请人： 中国科学院近代物理研究所
摘要： 本实用新型涉及一种核孔膜蚀刻线生产装置，该装置包括卷膜装置、蚀刻槽、清洗槽、烘干槽、测厚装置和若干传动轴；所述卷膜装置包括卷膜放料装置和卷膜收料装置，所述卷膜放料装置包括放料卷和放料电机，所述卷膜收料装置包括收料卷和收料电机，所述放料卷转轴连接放料电机，所述收料卷转轴连接收料电机；所述放料卷、蚀刻槽、清洗槽、烘干槽、测厚装置以及收料卷顺序依次间隔设置，所述蚀刻槽、清洗槽及烘干槽的底部均设置有传动轴，且相邻两槽之间上方也设置有传动轴；所述放料卷与蚀刻槽之间以及所述烘干槽与测厚装置之间均设置传动轴；所述测厚装置底部平行间隔设置有两个传动轴，所述蚀刻槽内还设置有清洗装置，用于对所述蚀刻槽内的残渣进行清洗。
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