一种可调节陶瓷窖烧角度的装置

    公开(公告)号:CN111721126B

    公开(公告)日:2021-09-24

    申请号:CN202010545223.1

    申请日:2020-06-15

    IPC分类号: F27D3/02 F27D19/00

    摘要: 本发明提供了一种可调节陶瓷窖烧角度的装置,属于陶瓷生产设备领域,包括固定架、驱动系统、移动架以及调节机构,固定架横跨在输送辊台上,固定架两侧安装相互对应的导向装置,导向装置包括导轨和滑动轮。移动架沿输送辊台的宽度方向横跨在输送辊台上,移动架的两侧固定在滑动轮上,且由驱动系统驱动。调节机构设置两个,两个调节机构均安装在移动架上且可沿输送辊台的输送方向前后移动,每个调节机构均包括中心轴、旋转装置、复位弹簧以及挡板。该装置可以自动调节陶瓷入炉前的窖烧角度,而且调节机构与陶瓷之间为柔性接触,不会破坏陶瓷,提高了生产陶瓷的良品率。

    一种易清洁陶瓷砖及其制备方法

    公开(公告)号:CN113248284A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110648196.5

    申请日:2021-06-10

    IPC分类号: C04B41/89

    摘要: 本发明涉及一种易清洁陶瓷砖及其制备方法,属于陶瓷砖技术领域。一种易清洁陶瓷砖,所述易清洁陶瓷砖包括釉面砖和涂覆于釉面砖表面的功能纳米层;以质量百分含量计,所述功能纳米层的制备原料包括硅酸钠21‑31.5%、硅酸钾13‑22%、硅酸锂1‑10%、磷酸硅0.5‑1.5%、甲基硅酸钠0.5‑2.5%和水余量。本发明提供的易清洁陶瓷砖,通过在釉面砖表面以旋涂的工艺施加功能纳米溶液形成功能纳米层,功能纳米层中的各原料及其组分的合理配合,一是使得该陶瓷砖的表面更加致密,二是表面亲水性,从而使得易清洁陶瓷砖具有优异的抗污易洁性,耐污染性能好,易于清洁,便于日常的维护与打理,有效缓解了现有的陶瓷砖存在的容易藏污,不易清洁的技术问题。

    一种3D釉面的施釉工艺方法

    公开(公告)号:CN110156495B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201910382079.1

    申请日:2019-05-09

    IPC分类号: C04B41/89

    摘要: 本发明研制一种3D釉面的施釉工艺方法,一种眼睛和身体能感知到的三维立体的,并且具有丰富的色彩、光泽、表面、材质等外观质感的3D釉面,本发明所采用的技术方案为:采用全数码喷墨工艺,将喷底釉、喷设计图案、喷剥开釉以及喷干粒相结合,用喷头把剥开釉施在底釉上,剥开釉料在底釉干燥过程中产生张力作用,使底釉层上喷有剥开釉的图案纹理形成下凹槽,并在该凹槽内表面喷珠光干粒,高温烧成后,凹槽里光泽晶莹剔透,与砖面其他部位形成立体及光影的对比,得到具有3D效果的釉面;本发明最大的特点就是釉面效果细腻和逼真,其线条细腻柔顺,凹凸和明暗变化自然,能最大限度的将仿木纹和石材的质感、触感和视觉效果全方位多角度的呈现出来。