公开(公告)号：CN117957091A

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：CN202280059887.4

申请日：2022-09-24

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： H·谢弗 ,  T·格拉达 ,  J·克拉尔 ,  B·费舍尔

IPC分类号： B24B13/005 ,  B24B13/00 ,  B24B9/14

摘要： 一种用于机械加工光学工件的方法，在其中，从坯件(RL)形成半成品(HZ)，该半成品(HZ)在前侧(FS)和后侧(RS)上具有预定表面几何形状，以及在前侧(FS)与后侧(RS)之间具有预定边缘厚度(D2)的轮廓边缘(RA)，该方法包括以下主要步骤：i)提供坯件，该坯件至少在后侧和边缘处要加工并且具有坯件厚度(D1)；ii)在后侧上无阻挡地接纳坯件，从而以支承方式保持坯件；iii)在前侧上借助第一工具(WZ1)机械加工坯件，从而形成外围几何形状(NU)，其深度(TI)大于或等于待成型半成品的边缘厚度，其中，在工件上保留周向表面(UF)，该周向表面(UF)限定了待成型半成品的轮廓边缘；iv)在前侧上接纳工件，从而以支承方式保持坯件；以及v)在后侧上借助至少一个第二工具机械加工工件，从而形成在后侧上具有预定表面几何形状的半成品。

公开(公告)号：CN115537754A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202210768008.7

申请日：2022-06-30

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： F·康吉亚 ,  A·克瑞亚 ,  A·克拉奥蒂 ,  G·A·博恩吉奥诺 ,  F·莫瑞尼

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56

摘要： 一种用于在真空涂覆期间保持基材(L)的保持件(10)，其包括具有遮蔽部分(14)的基座主体(12)，该遮蔽部分设有适于接纳基材的开口(16)。该遮蔽部分中的开口成形为对应于或紧密地匹配于待保持的基材的形状，而在其间没有明显的间隙。该遮蔽部分设有从开口的内边缘(18)径向向外延伸的槽(22)。安装到保持件的弹簧装置的窄弹簧臂被接纳在该槽中，并适于弹性地抵靠在基材的外边缘(E)上，以将该基材推向在与所述槽相对的侧部上的开口的内边缘处的支承区域(24)。此外，还提出了一种装载/卸载装置(60)，其用于将基材装载到这种保持件中和从这种保持件卸载基材。

公开(公告)号：CN107000153B

公开(公告)日：2019-02-22

申请号：CN201580068184.8

申请日：2015-10-07

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： A·科米尔 ,  H·谢弗 ,  S·沃伦道夫

IPC分类号： B24B13/005 ,  B05C13/02 ,  B05B13/02

摘要： 一种用于约束工件的装置(10)，包括对准工位(11)、约束工位(13)以及工件支架(16)，对准工位具有工件支承部(12)，用于对准被支承于其上的工件，约束工位包括约束件安装部(14)，在约束工位中，所对准的工件可由约束件上的约束材料来约束，约束件可安装在约束件安装部中，以相对于基本竖直延伸的约束器轴线(V)对中，工件支架承载用于工件的保持头(15)，工件支架被合适地引导并驱动，通过工件支架，被保持在保持头上的工件可从对准工位运输至约束工位、可以限定的方式沿约束器轴线相对于安装在约束件安装部中的约束件定位、以及在约束期间可通过在约束材料与安装部之间留下间隙而被保持在工件与约束件之间相对于约束件的限定位置中。在该情形下，对准工位可从闲置位置运动至作业位置和相反地运动，在闲置位置中，对准工位不阻碍工件支架的运动，在作业位置中，工件支承部相对于约束器轴线对中。

公开(公告)号：CN109153102A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201780029880.7

申请日：2017-04-11

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： S·沃伦道夫 ,  H·谢弗 ,  M·莱茨

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B41/053 ,  B23Q1/70 ,  B23Q5/32

摘要： 本发明涉及一种工件(L)上的光学有效表面(cc、cx)的精加工设备(12)的工具主轴(10)，具有主轴壳体(14)和突出超过壳体的工具保持部段(16)。工具保持部段可经由引导组件(18)沿工具旋转轴线朝向工件轴向前进(前进轴线Z)，并且如果需要能够绕工具旋转轴线上的倾斜点(K)倾斜，引导组件在主轴壳体中能绕工具旋转轴线(A)旋转。为了使工具保持部段轴向前进，引导组件具有：绕工具旋转轴线均匀分布的多个线性安装元件(20)；以及相应的成对的引导杆(22)，其耐拉且耐压地连接到工具保持部段。由此，当加工工件的微观几何形状时，工具保持部段能够以平滑且精细的方式跟随工件的宏观几何形状。

公开(公告)号：CN108456856A

公开(公告)日：2018-08-28

申请号：CN201810154032.5

申请日：2018-02-22

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： G·狄波拉 ,  佛朗哥·莫雷尼 ,  安东尼奥·柯瑞亚 ,  朱塞佩·维斯科米 ,  F·伯来梅

IPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/04

CPC分类号： C23C14/564 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/24 ,  C23C14/52 ,  C23C14/042 ,  C23C14/54

摘要： 用于基材涂布的箱式涂布设备(10)包括含有蒸发源(14)的真空室(12)。基材支架(16)相对于蒸发源面对面设置，使得蒸发的材料可撞击在由所述基材支架保持的基材上。除了蒸发源和基材支架之外，还设置至少一个另外的功能部件(20)、即迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构，防护罩布置(52)被分配至该功能部件，用于防止蒸发的材料撞击在所述部件上。该防护罩布置具有百叶窗部分(56)，百叶窗部分(56)可以从覆盖通过防护罩布置的通道(60)并且用于屏蔽所述部件的关闭的屏蔽位置转移到基本上清空通道以允许气体和蒸气基本上自由通过的打开的泵送位置，并且反之亦然。

公开(公告)号：CN104227772B

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201410257906.1

申请日：2014-06-11

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： P·施米特 ,  S·沃伦道弗

IPC分类号： B26D7/08

CPC分类号： B23Q11/10 ,  B23B25/00 ,  B23B27/10 ,  B23B2250/12 ,  B23Q11/1023 ,  B23Q2230/004 ,  B24B13/046 ,  B24B55/02 ,  Y10T82/2572

摘要： 一种用于向车刀(14)的切削刃(12)供给液体冷却润滑剂的装置(10)，所述车刀通过刀具架(16)与快刀伺服系统(18)可操作地连接，以便能够与所述刀具架一起在推进方向(F)上进行振荡运动，所述装置包括第一连接部(24)和出口(28)，其中所述第一连接部(24)相对于快刀伺服系统的外壳(22)固定并且所述第一连接部为冷却润滑剂源而设置，所述出口(28)与所述第一连接部流体连接，以向车刀输送冷却润滑剂喷射流。所述出口设置在所述刀具架上，并且通过弹性软管部分(30)与所述第一连接部流体连接，使得经由从所述出口输送的冷却润滑剂喷射流总是冲射车刀的切削刃上的预定点，甚至当刀具架发生行程运动时也是如此。

公开(公告)号：CN104169045B

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：CN201380013472.4

申请日：2013-01-29

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： S·沃伦道夫 ,  H·谢弗

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B27/00 ,  B24B47/22 ,  B24B41/00

CPC分类号： B24B47/22 ,  B24B13/00 ,  B24B13/0037 ,  B24B27/0084 ,  B24B41/005

摘要： 本发明涉及特别用于眼镜片(L)的抛光机(14)，包括：至少一个工件主轴(20)，所述工件主轴(20)突入工作空间(18)以绕工件旋转轴线(C1)旋转驱动眼镜片(L)；至少一个进给装置(22)，用于将抛光刀具(W)相对于所述眼镜片(L)降下或升起(Z1)；摆动驱动单元(24)，用于沿摆动方向(X)前后移动进给装置，在抛光过程中，所述摆动方向(X)基本横向于工件旋转轴线进行延伸；以及枢转驱动单元(26)，用于绕枢转调整轴线(B)进行枢转该进给装置，所述枢转调整轴线(B)沿基本垂直于所述工件旋转轴线并基本法向于所述摆动方向的方向延伸。为了提供非常紧凑且符合工效学涉及的抛光机，设置了枢转机构(28)，通过该枢转机构，进给装置、摆动驱动单元和枢转驱动单元相对于工件主轴从相对闭合位置枢转到相对打开位置，使工作空间向上打开，并且反之亦然(枢转运动S)。

公开(公告)号：CN105555133A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480051828.8

申请日：2014-09-23

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： M·卡代

IPC分类号： A01N25/34 ,  A61K8/34 ,  A61K8/86 ,  A61K8/02 ,  A61K9/70 ,  A61K31/045 ,  A61L2/18 ,  A61K31/77 ,  C11D1/00 ,  G02B27/00

CPC分类号： A01N25/30 ,  A01N25/34 ,  A01N31/14 ,  A61L2/18 ,  C09D5/14 ,  C09D171/02 ,  C11D1/008 ,  C11D3/0078 ,  C11D17/049 ,  G02B27/0006 ,  A01N31/02 ,  A01N31/04 ,  A01N31/08 ,  A01N31/16

摘要： 本发明涉及抗微生物且防雾的组合物，其包括：(a)包含亲水单元和疏水单元的至少一种非离子型表面活性剂，所述亲水单元含有对应于[-(R1-O)z-]n的聚(氧化烯)单元，R1表示直链或支链亚烷基基团，例如亚丙基或亚乙基，并且z是等于或大于1的整数，优选地范围从1至40，所述聚(氧化烯)单元的数目n等于或大于3，以及(b)具有等于或小于500g/mol的低分子量的至少一种醇化合物，其中该非离子型表面活性剂/醇化合物的重量比R是使得2.5≤R≤200，并且该至少一种醇化合物按重量计相对于该抗微生物组合物的总重量而言含量范围是从0.01％至5％。本发明还涉及包含上述抗微生物且防雾的组合物的水性溶液，以及浸渍有所述水性溶液的干微纤维组织和无纺湿润组织，以及包括主表面的光学物品，所述主表面涂覆有通过用以上组织中之一擦拭所述主表面获得的暂时性抗微生物膜或涂层。

公开(公告)号：CN103718064B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201280036134.8

申请日：2012-06-28

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： M·卡代 ,  A·克雷捷 ,  C·圣-卢

IPC分类号： G02B1/115 ,  G02B27/00 ,  G02C7/02

CPC分类号： G02B1/18 ,  B05D1/28 ,  B05D1/36 ,  B29D11/00865 ,  C03C17/28 ,  C03C17/30 ,  C03C17/3405 ,  C03C2217/75 ,  C03C2218/10 ,  C03C2218/11 ,  C03C2218/30 ,  C03C2218/31 ,  C08G2290/00 ,  C08K5/06 ,  C08K5/41 ,  C08K5/54 ,  C08K5/5415 ,  C08K5/5419 ,  C09D171/00 ,  C09D171/02 ,  C09D183/00 ,  G02B1/10 ,  G02B1/115 ,  G02B27/0006 ,  G02C7/02 ,  Y10T428/31536 ,  Y10T442/2213

摘要： 本发明涉及一种光学物品，包含一个衬底，该衬底涂覆有一个优选地在其表面上包含硅烷醇基团的涂层，以及直接接触该涂层的一个防雾涂层前体涂层，所述前体涂层优选地具有大于10°并且小于50°的与水的静态接触角并且通过至少一种有机硅烷化合物的接枝获得，该有机硅烷化合物具有一个聚氧亚烷基以及带有至少一个可水解基团的至少一个硅原子，并且进一步涂覆有通过施用包含至少一种式F(CF2)y-(CH2-CH2O)x+1H(VIII)的表面活性剂的一种组合物获得的一个膜，其中x是从1到14范围内的一个整数，y是低于或等于10的一个整数，y=6的式(VIII)化合物相对于该组合物中存在的化合物(VIII)的重量呈现以重量计至少90%，以便形成一个防雾涂层，优选地具有低于或等于10°的与水的静态接触角。

公开(公告)号：CN104924178A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510116289.8

申请日：2015-03-17

申请人： 萨特隆股份公司

发明人： B·贝克 ,  J·迪尔 ,  C·斯特罗 ,  R·祖克

IPC分类号： B24B13/00 ,  B24B13/005

CPC分类号： B24B11/00 ,  B24B13/01 ,  B24B13/06

摘要： 一种用于尤其是精密光学球面透镜表面的研磨和/或抛光的装置(10)包括机器框架(12)、用于工具(WZ)围绕工具旋转轴线(A)的旋转驱动的工具主轴(14)，以及用于工件(L)围绕工件旋转轴线(C)的旋转驱动的工件主轴(16)。工具主轴和工件主轴能够在垂直于彼此延伸的第一和第二方向(x、z)上进行轴向相对调节，且另外可相对于彼此在枢转平面中围绕枢轴线(B)枢转，其中这些移动全部由所述工具主轴(X、Z和B轴)执行。此外，提供用于交叉研磨调节的设备(18)，其包括：调节机构(20)，借助所述调节机构(20)所述工件主轴可在垂直于所述第一和第二方向延伸的第三方向上定位使得工具和工件的旋转轴安置所述枢转平面中；以及夹持机构(22)，所述夹持机构(22)可独立于所述调节机构激活并起到将所述工件主轴(一旦定位)相对于所述机器框架固定的用途。