一种掩膜版的缺陷修复方法

    公开(公告)号:CN111474821B

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202010343558.5

    申请日:2020-04-27

    Abstract: 本发明涉及一种掩膜版的缺陷修复方法,提供掩膜版;于显微镜下寻找所述掩膜版上的缺陷,再在缺陷周围形成非水溶性涂料圈;向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加水系去胶液,去除非水溶性涂料圈所围区域的光刻胶,然后去除非水溶性涂料圈内的水系去胶液;向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加铬腐蚀液,修复缺陷;将修复缺陷后的掩膜版置于去胶液中去除版面的光刻胶;去除版面的非水溶性涂料圈;对掩膜版进行清洗,获得修复后的掩膜版。本发明的修复方法,无需二次匀胶光刻去除缺陷,在检验缺陷的同时用非水溶性涂料圈出缺陷,将所有缺陷标识出,同时去胶后去残铬,该方法简单易操作,降低掩膜版的制造成本,提高良率及利用率,提高经济效益。

    一种一体化分划板及其制作方法

    公开(公告)号:CN109459866A

    公开(公告)日:2019-03-12

    申请号:CN201811549308.6

    申请日:2018-12-18

    Inventor: 李弋舟 邓辉 陈曦

    Abstract: 本发明涉及一种一体化分划板及其制作方法,该分划板包括基体层,所述基体层具有第一表面和与第一表面相对设置的第二表面;所述第二表面包括第一区域和围绕于第一区域外且与第一区域邻接的第二区域,所述第二区域为曲面状,第一区域表面设有第一遮光层;第一区域所对应的第一表面区域设有第二遮光层,第二区域所对应的第一表面区域设有分划层。本发明的一体化分划板在用于制作光学镜头、瞄准镜等光学器件时,可节约空间,同时也可使得光学镜头、瞄准镜等光学器件的制作过程简化、方便;另外,与传统平面分划板和透镜的组合方式相比,该平面和透镜一体的分划板,省去了平面分划板与透镜之间的空隙,在使用过程中光没的损失减少,可提升成像质量。

    一种陶瓷标定板基板的制造方法

    公开(公告)号:CN111145273B

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202010050048.9

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 李珍 陈曦 李弋舟

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷标定板基板的制造方法,包括如下步骤:提供陶瓷基板,抛光,洗净,备用;在陶瓷基板的至少1个表面镀一层金属薄膜,在所述金属薄膜的表面制作光刻胶层;对陶瓷基板依次进行曝光、显影、蚀刻、去胶处理后,将陶瓷基板置于20‑45℃的强碱溶液中浸泡1‑15min,清洗,干燥后,获得陶瓷标定板基板。本发明的陶瓷标定板基板的图案精度高,标定图案和陶瓷基板的颜色对比度高。

    一种光学玻璃零件的制作方法

    公开(公告)号:CN111302612A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010242422.5

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明涉及一种光学玻璃零件的制作方法,包括如下步骤:提供光学玻璃;对光学玻璃进行清洗;在光学玻璃的表面涂覆保护层,静置,硬化;对光学玻璃进行激光切割,获得光学玻璃零件粗坯;对光学玻璃零件粗坯进行边棱打磨加工后,去除保护层,获得光学玻璃零件。本发明中,通过保护层的液态可流动性,可使得涂覆保护层的光学玻璃在激光切割过程中保护层可延着切割轨迹同玻璃零件尺寸外形保持一致,在完成切割加工后的光学玻璃零件在进行边棱打磨加工时,可随玻璃边棱磨削时同轨迹去除,在边棱打磨时不脱膜不溶于水,实现光学玻璃大版转换成光学玻璃小零件的全制程保护,有利于获得质量更高的光学玻璃零件;另外,保护层易去除,不残留,可操作性强。

    一种分划板及其制作方法

    公开(公告)号:CN108152987A

    公开(公告)日:2018-06-12

    申请号:CN201711438510.7

    申请日:2017-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种分划板,包括:承载体,所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面;增透层,所述增透层设于所述第一表面和/或第二表面;分划线,所述分划线位于所述承载体的第一表面一侧,且所述分划线由金属构成;保护结构,所述保护结构包覆所述分划线;其中,所述分划线反射率不小于95%,设有增透层的所述承载体整体透过率不小于95%。一种分划板采用磁控溅射技术形成银,得到的双面银膜,在保证膜层达到了双面高反射率的同时,增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力,在承载体表面设有增透层,这样使的透过率大于等于95%,而分划线使用的材料银的反射率大于等于95%,高的对比度,这样使的分划线更加清晰。

    一种玻璃基板的检测方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN113899760B

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202111159442.7

    申请日:2021-09-30

    Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的检测方法及系统,方法包括:获取待检测玻璃基板的第一光图以及第二光图;将所述第一光图与所述第二光图进行融合,得到融合光图;通过预先训练好的缺陷检测网络对所述融合光图进行缺陷检测,输出得到所述待检测玻璃基板的检测结果。能够在待检测玻璃基板的第一光图以及第二光图的基础上进行融合,得到待检测玻璃基板的融合光图,再通过图像检测技术对融合光图进行检测,得到待检测玻璃基板的检测结果,可以提高玻璃基板的检测准确率。

    一种光栅制作方法及光栅

    公开(公告)号:CN115166882B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202210751803.5

    申请日:2022-06-29

    Inventor: 邓辉 段聪 李珍

    Abstract: 本发明公开了一种光栅制作方法及光栅,光栅制作方法包括:在平面基板上制作微纳高精图形,微纳高精图形具有异构图形加工定位标志;在微纳高精图形上设置保护层;基于异构图形加工定位标志对平面基板的下表面进行加工,以在平面基板的下表面形成凹陷状的异形结构;对形成异形结构的平面基板的下表面进行抛光;去除保护层,并对平面基板进行清洗。微纳高精图形中预置了异构图形加工定位标志,从而便于后续利用寻迹设备来检测异构图形加工定位标志的位置,使得后续加工设备可以根据寻迹的结果完成对平面基板的异形结构的加工;同时,在微纳图形上会覆盖一层保护层,有效的保护微纳高精图形加工中不会受到污染。

    一种漫反射型标定板及其制备方法

    公开(公告)号:CN113560960B

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202010347388.8

    申请日:2020-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种漫反射型标定板的制备方法,包括以下步骤:使用20%‑60%DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液,对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10‑40min,得到第一研磨面,抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面或平面;在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形,依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀,制得金属铬层;进行精密切割,尺寸精度为±0.05mm,本发明还公开了利用该方法制得的标定板,本发明采用研磨工艺制作磨砂效果,满足高平面度要求,砂粒精细并可控,反射率小于0.1%。

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