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公开(公告)号:CN1860587A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200480028497.2
申请日:2004-09-07
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
发明人: 山崎英亮 , 松田司 , 五味淳 , 波多野达夫 , 立花光博 , 松泽兴明 , 河野有美子 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非利 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC分类号: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: C23C16/45523 , C23C16/045 , C23C16/16 , C23C16/4408 , H01L21/28556 , H01L21/76843 , H01L21/76876 , H01L21/76877
摘要: 本发明提供了一种利用间歇前驱气流工艺在衬底上形成金属层的方法。该方法包括使衬底暴露于还原气中,同时使衬底暴露于金属-羰基前驱气脉冲中。该工艺进行到在衬底上形成期望厚度的金属层。该金属层可以形成在衬底上,或者该金属层可以形成在金属成核层上。
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公开(公告)号:CN100483637C
公开(公告)日:2009-04-29
申请号:CN200480028497.2
申请日:2004-09-07
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
发明人: 山崎英亮 , 松田司 , 五味淳 , 波多野达夫 , 立花光博 , 松泽兴明 , 河野有美子 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非利 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC分类号: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: C23C16/45523 , C23C16/045 , C23C16/16 , C23C16/4408 , H01L21/28556 , H01L21/76843 , H01L21/76876 , H01L21/76877
摘要: 本发明提供了一种利用间歇前驱气流工艺在衬底上形成金属层的方法。该方法包括使衬底暴露于还原气中,同时使衬底暴露于金属-羰基前驱气脉冲中。该工艺进行到在衬底上形成期望厚度的金属层。该金属层可以形成在衬底上,或者该金属层可以形成在金属成核层上。
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公开(公告)号:CN101124352A
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200580040103.X
申请日:2005-10-03
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
发明人: 铃木健二 , 以马利·盖德帝 , 格利特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非 , 桑德拉·G·马尔霍特拉
IPC分类号: C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: H01L21/76843 , C23C16/16 , H01L21/28556 , H01L21/76846 , H01L21/76873
摘要: 本发明描述了一种用于通过将羰基金属前驱体(52、152)的蒸汽与CO气体混合来增大以羰基金属前驱体(52、152)形成的金属层的沉积速率的方法(300)。该方法(300)包括在沉积系统(1、100)的处理室(10、110)中提供衬底(25、125),形成包含羰基金属前驱体蒸汽和CO气体的处理气体,以及将衬底(25、125、400、402)暴露于处理气体以通过热化学气相沉积工艺在衬底(25、125、400、402)上沉积金属层(440、460)。
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公开(公告)号:CN100572591C
公开(公告)日:2009-12-23
申请号:CN200580040103.X
申请日:2005-10-03
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
发明人: 铃木健二 , 以马利·盖德帝 , 格利特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非 , 桑德拉·G·马尔霍特拉
IPC分类号: C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: H01L21/76843 , C23C16/16 , H01L21/28556 , H01L21/76846 , H01L21/76873
摘要: 本发明描述了一种用于通过将羰基金属前驱体(52、152)的蒸汽与CO气体混合来增大以羰基金属前驱体(52、152)形成的金属层的沉积速率的方法(300)。该方法(300)包括在沉积系统(1、100)的处理室(10、110)中提供衬底(25、125),形成包含羰基金属前驱体蒸汽和CO气体的处理气体,以及将衬底(25、125、400、402)暴露于处理气体以通过热化学气相沉积工艺在衬底(25、125、400、402)上沉积金属层(440、460)。
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公开(公告)号:CN100557075C
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN200580010029.7
申请日:2005-02-15
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
IPC分类号: C23C16/16 , C23C16/458
CPC分类号: C23C16/4581 , C23C16/16
摘要: 本发明涉及在处理室(10)中的陶瓷衬底加热器(20,600,700)上处理衬底(25,620,720)的方法。所述方法包括:在所述处理室(10)中的所述陶瓷衬底加热器(20,600,700)上形成保护涂层(730,790),并在所述经涂敷的衬底加热器上处理衬底(25,620,720)。所述方法可以包括将待处理的衬底(25,620,720)提供到所述经涂敷的陶瓷衬底加热器上,通过将所述衬底(25,620,720)暴露于处理气体中对所述衬底(25,620,720)进行处理,并将所述经处理的衬底从所述处理室(10)中取出。
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公开(公告)号:CN100472724C
公开(公告)日:2009-03-25
申请号:CN200480028499.1
申请日:2004-09-07
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
IPC分类号: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: C23C16/4408 , C23C16/16 , C23C16/45523 , H01L21/28562
摘要: 本发明提供了一种利用连续流沉积工艺来沉积具有良好表面形貌的金属层的方法,该方法包括使处理室中的衬底交替暴露于金属-羰基前驱气和还原气中。在暴露于金属-羰基前驱气过程中,通过热分解在衬底上沉积薄金属层,随后使该金属层暴露于还原气中以利于从该金属层中除去反应副产物。可以重复金属-羰基前驱气和还原气暴露步骤直到形成期望厚度的金属层。金属羰基前驱体例如可以选自W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6和Ru3(CO)12。
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公开(公告)号:CN1938450A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200580010029.7
申请日:2005-02-15
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
IPC分类号: C23C16/16 , C23C16/458
CPC分类号: C23C16/4581 , C23C16/16
摘要: 本发明涉及在处理室(10)中的陶瓷衬底加热器(20,600,700)上处理衬底(25,620,720)的方法。所述方法包括:在所述处理室(10)中的所述陶瓷衬底加热器(20,600,700)上形成保护涂层(730,790),并在所述经涂敷的衬底加热器上处理衬底(25,620,720)。所述方法可以包括将待处理的衬底(25,620,720)提供到所述经涂敷的陶瓷衬底加热器上,通过将所述衬底(25,620,720)暴露于处理气体中对所述衬底(25,620,720)进行处理,并将所述经处理的衬底从所述处理室(10)中取出。
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公开(公告)号:CN1906325A
公开(公告)日:2007-01-31
申请号:CN200580001875.2
申请日:2005-02-08
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
CPC分类号: C23C16/5096 , C23C16/02 , C23C16/16
摘要: 本发明提供了一种用于在衬底上形成具有改进的形态的金属层的方法和处理设备。该方法包括:通过将衬底暴露至等离子体中的受激态物质来预处理衬底;将预处理的衬底暴露至包含羰络金属前体的处理气体;并且通过化学气相沉积处理在预处理的衬底表面上形成金属层。所述羰络金属前体包括W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6或Ru3(CO)12或其任意组合,并且金属层可以分别包含W、Ni、Mo、Co、Rh、Re、Cr或Ru或其任意组合。
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公开(公告)号:CN1860588A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200480028499.1
申请日:2004-09-07
申请人: 东京毅力科创株式会社 , 美国商业机器公司
IPC分类号: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC分类号: C23C16/4408 , C23C16/16 , C23C16/45523 , H01L21/28562
摘要: 本发明提供了一种利用连续流沉积工艺来沉积具有良好表面形貌的金属层的方法,该方法包括使处理室中的衬底交替暴露于金属-羰基前驱气和还原气中。在暴露于金属-羰基前驱气过程中,通过热分解在衬底上沉积薄金属层,随后使该金属层暴露于还原气中以利于从该金属层中除去反应副产物。可以重复金属-羰基前驱气和还原气暴露步骤直到形成期望厚度的金属层。金属羰基前驱体例如可以选自W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6和Ru3(CO)12。
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公开(公告)号:CN100336219C
公开(公告)日:2007-09-05
申请号:CN200310119731.X
申请日:2003-12-03
申请人: 国际商业机器公司
发明人: 帕纳约蒂斯·安德里察考斯 , 史蒂文·H·贝彻 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 米兰·保诺维奇 , 克雷格·兰塞姆
IPC分类号: H01L23/532 , H01L21/768 , H01L21/3205
CPC分类号: C25D3/562 , C25D7/12 , H01L21/2885 , H01L21/76846
摘要: 互连线结构包含具有介电层的衬底,介电层中有通道开孔;其中的开孔中有钴和/或镍底层、钴和/或镍合金阻挡层;并提供钨。
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