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公开(公告)号：CN111978953B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202010973923.0
申请日：2020-09-16
Applicant: 复旦大学
IPC: C09K11/06 , C09K11/02 , C07F5/02 , C08K5/55 , C08K5/46 , C08K5/5465 , C08L75/08 , C08J5/18 , B42D25/387 , A61K49/00
Abstract: 本发明提供了一种基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物及应用，属于长余辉发光材料领域。本发明涉及的长余辉发光组合物包括：吸光剂、缓存剂和氟硼二吡咯发光体，因为本发明基于氟硼二吡咯小分子易于修饰的特点，可以通过化学修饰调整氟硼二吡咯发光体分子结构，改变其发光性质，从而进一步改变复合体系长余辉发光性质使该复合体系具有特定功能，所以基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物还可配制长余辉发光体系，广泛应用于生物和商标防伪等领域。
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公开(公告)号：CN111978953A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010973923.0
申请日：2020-09-16
Applicant: 复旦大学
IPC: C09K11/06 , C09K11/02 , C07F5/02 , C08K5/55 , C08K5/46 , C08K5/5465 , C08L75/08 , C08J5/18 , B42D25/387 , A61K49/00
Abstract: 本发明提供了一种基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物及应用，属于长余辉发光材料领域。本发明涉及的长余辉发光组合物包括：吸光剂、缓存剂和氟硼二吡咯发光体，因为本发明基于氟硼二吡咯小分子易于修饰的特点，可以通过化学修饰调整氟硼二吡咯发光体分子结构，改变其发光性质，从而进一步改变复合体系长余辉发光性质使该复合体系具有特定功能，所以基于氟硼二吡咯发光体的长余辉发光组合物还可配制长余辉发光体系，广泛应用于生物和商标防伪等领域。
