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公开(公告)号:CN118580080A
公开(公告)日:2024-09-03
申请号:CN202410851801.2
申请日:2024-06-27
申请人: 天津理工大学
IPC分类号: C04B35/563 , C04B35/622 , C04B35/64
摘要: 本发明涉及了一种低温制备高致密度氮化硼陶瓷材料的方法。以微米片状六方氮化硼粉体为原料,添加少量硼酸水溶液,通过室温压制成型和低温无压烧结,促进片状氮化硼粉末的晶粒结构重排和低温烧结致密化,获得高致密度氮化硼陶瓷(密度≥1.90g/cm3)。本发明的方法具有工艺简单、成本低等特点,可用于大尺寸高致密度氮化硼陶瓷的制备,所制备的氮化硼陶瓷具有纯度高、致密度高的特点。