空穴注入层以及空穴传输层

    公开(公告)号:CN105514272B

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201510426783.4

    申请日:2010-09-30

    Abstract: 本发明涉及空穴注入层或空穴传输层。所述空穴注入层由有机电子用材料形成,所述有机电子用材料为至少含有离子化合物和具有空穴传输性单元的化合物的有机电子用材料,所述具有空穴传输性单元的化合物以下称为空穴传输性化合物,其特征在于,所述离子化合物由抗衡阳离子和抗衡阴离子组成,所述抗衡阳离子为H+、碳阳离子、氮阳离子、氧阳离子和具有过渡金属的阳离子中的任1种或2种以上。

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