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公开(公告)号：CN103460388A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280016150.0
申请日：2012-09-04
IPC: H01L29/12 , H01L21/336 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/66666 , H01L21/3065 , H01L29/1608 , H01L29/34 , H01L29/4236 , H01L29/66068 , H01L29/7813
Abstract: 一种碳化硅半导体器件的制造方法，包括：在碳化硅衬底(1)上形成漂移层(2)；在所述漂移层(2)的表面部分上或表面部分中形成基极层(3)；在所述基极层(3)的表面部分中形成源极区(4)；形成沟槽(6)，以穿透所述基极层(3)并且到达所述漂移层(2)；在所述沟槽(6)中的所述栅极绝缘膜(7)上形成栅极电极(8)；形成电连接至所述源极区(4)和所述基极层(3)的源极电极(9)；以及在所述衬底(1)的背侧表面上形成漏极电极(11)。形成所述沟槽(6)包括：对衬底表面进行平坦化，并且在平坦化之后蚀刻以形成所述沟槽(6)。
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公开(公告)号：CN103348478A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280008329.1
申请日：2012-02-06
IPC: H01L29/10 , H01L29/78 , H01L29/739 , H01L29/16 , H01L21/336 , H01L29/66
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/0634 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/66348 , H01L29/7397
Abstract: 一种SiC半导体器件，包括：半导体开关元件，其具有：按照以下顺序叠置的衬底（1）、漂移层（2）以及基底区域（3）；在基底区域（3）中的源极区域（4）和接触区域（5）；从源极区域（4）的表面延伸以穿透基底区域（3）的沟槽（6）；沟槽（6）中的栅极绝缘膜（8）上的栅电极（9）；与源极区域（4）和基底区域（3）电耦合的源电极（11）；衬底（1）的背面上的漏电极（13）；以及多个深层（10），所述深层位于漂移层（2）的上方部分中、比沟槽（6）深、并且在与沟槽的纵向方向交叉的方向上延伸。每个深层（10）具有上方部分和下方部分（10b，10a）。上方部分（10b）的宽度小于下方部分（10a）的宽度。
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公开(公告)号：CN103890954B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201280051533.1
申请日：2012-10-17
CPC classification number: H01L29/4236 , H01L21/047 , H01L21/28008 , H01L21/823487 , H01L29/0619 , H01L29/0623 , H01L29/1608 , H01L29/41741 , H01L29/42368 , H01L29/66068 , H01L29/66666 , H01L29/7806 , H01L29/7813 , H01L29/7827
Abstract: 一种半导体装置，其具有半导体衬底，所述半导体衬底包括：体区域；漂移区；沟槽，其从所述半导体衬底的表面延伸穿过所述体区域进入所述漂移区；以及源极区域，所述源极区域被定位为在暴露于所述半导体衬底的所述表面的范围内与所述沟槽邻接，所述源极区域通过所述体区域而与所述漂移区隔离。特定层配置在所述沟槽的底部上，并且它具有在所述特定层与所述漂移区之间的接合部分处形成耗尽层的特性。绝缘层覆盖所述特定层的上表面和所述沟槽的侧壁。导电部形成在所述沟槽的所述侧壁的一部分上。所述导电部被接合至所述特定层，且到达所述半导体衬底的所述表面。
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公开(公告)号：CN102844867B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201280001099.6
申请日：2012-02-06
IPC: H01L29/10 , H01L29/78 , H01L29/739 , H01L29/16 , H01L21/336 , H01L29/66
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/0634 , H01L29/0878 , H01L29/1095 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/66348 , H01L29/7397
Abstract: 一种SiC器件包括反型MOSFET，其具有：按照顺序叠置的衬底（1）、漂移层（2）以及基底区域（3）；基底区域（3）的上部中的源极和接触区域（4、5）；穿透源极和基底区域（4、3）的沟槽（6）；沟槽（6）中的栅极绝缘膜（8）上的栅电极（9）；与源极和基底区域（4、3）耦合的源电极（11）；衬底（1）的背面上的漏电极（13）；以及多个深层（10），所述深层位于漂移层（2）的上部中、比沟槽（6）更深、并且在与沟槽的纵向方向交叉的方向上延伸。每个深层（10）在深度方向上具有杂质浓度分布，并且在施加栅电压时，在沟槽侧上的深层（10）的一部分中提供反型层。
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公开(公告)号：CN102403338B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201110281178.4
申请日：2011-09-14
IPC: H01L29/36 , H01L29/78 , H01L21/265 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/086 , H01L29/1608 , H01L29/41766 , H01L29/45 , H01L29/66068
Abstract: 一种SiC半导体器件，包括：按下述顺序堆叠的衬底(1)、漂移层(2)和基极区(3)；第一和第二源极区(4a，4b)和基极区中的接触层(5)；穿透所述源极和基极区的沟槽(6)；沟槽中的栅电极(8)；覆盖栅电极，具有接触孔的层间绝缘膜(10)；经由所述接触孔与所述源极区和所述接触层耦合的源电极(9)；衬底上的漏电极(11)；以及金属硅化物膜(30)。高浓度的第二源极区比低浓度的第一源极区更浅，且高浓度的第二源极区具有被层间绝缘膜覆盖的部分，该部分包括表面附近的低浓度的第一部以及比第一部深的高浓度的第二部。第二部上的金属硅化物膜的厚度大于第一部上的金属硅化物膜的厚度。
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公开(公告)号：CN102163627B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201110045710.2
申请日：2011-02-23
IPC: H01L29/872 , H01L29/16 , H01L21/329 , H01L21/02
CPC classification number: H01L29/47 , H01L21/0495 , H01L29/0619 , H01L29/063 , H01L29/1608 , H01L29/402 , H01L29/6606 , H01L29/872
Abstract: 一种具有肖特基势垒二极管的碳化硅半导体装置，其包括：基板(1)，其由碳化硅制成且具有第一导电类型，其中所述基板包括主表面和背表面；漂移层(2)，其由碳化硅制成且具有第一导电类型，其中漂移层设置在基板的主表面上且具有比基板低的杂质浓度；肖特基电极(4)，其设置在漂移层上且与漂移层的表面肖特基接触；以及欧姆电极(5)，其设置在基板的背表面上。肖特基电极与漂移层直接接触，以使得肖特基电极的晶格与漂移层的晶格匹配。本发明还涉及一种具有肖特基势垒二极管的碳化硅半导体装置的制造方法。
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公开(公告)号：CN102856382A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210226273.9
申请日：2012-06-29
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/045 , H01L29/0865 , H01L29/1095 , H01L29/1608 , H01L29/4236 , H01L29/66068 , H01L29/7825 , H01L29/7827
Abstract: 本发明涉及一种碳化硅半导体器件。在碳化硅半导体器件中，多个沟槽（7）具有一个方向上的纵向方向并且以条纹图案布置。每个所述沟槽（7）均具有在所述纵向方向上延伸的第一侧壁和第二侧壁。所述第一侧壁与（11-20）平面和（1-100）平面中的一个平面成第一锐角，所述第二侧壁与（11-20）平面和（1-100）平面的所述一个平面成第二锐角，并且所述第一锐角小于所述第二锐角。第一导电类型区（5）仅与每个所述沟槽（7）的所述第一侧壁和所述第二侧壁中的所述第一侧壁接触，并且电流通路仅形成在所述第一侧壁和所述第二侧壁中的所述第一侧壁上。
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公开(公告)号：CN102163627A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110045710.2
申请日：2011-02-23
IPC: H01L29/872 , H01L29/16 , H01L21/329 , H01L21/02
CPC classification number: H01L29/47 , H01L21/0495 , H01L29/0619 , H01L29/063 , H01L29/1608 , H01L29/402 , H01L29/6606 , H01L29/872
Abstract: 一种具有肖特基势垒二极管的碳化硅半导体装置，其包括：基板(1)，其由碳化硅制成且具有第一导电类型，其中所述基板包括主表面和背表面；漂移层(2)，其由碳化硅制成且具有第一导电类型，其中漂移层设置在基板的主表面上且具有比基板低的杂质浓度；肖特基电极(4)，其设置在漂移层上且与漂移层的表面肖特基接触；以及欧姆电极(5)，其设置在基板的背表面上。肖特基电极与漂移层直接接触，以使得肖特基电极的晶格与漂移层的晶格匹配。本发明还涉及一种具有肖特基势垒二极管的碳化硅半导体装置的制造方法。
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公开(公告)号：CN102760768B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201210128717.5
申请日：2012-04-27
IPC: H01L29/78 , H01L29/423 , H01L29/06 , H01L21/04
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/045 , H01L29/0634 , H01L29/1095 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/7397
Abstract: 一种SiC半导体器件包括：SiC衬底(1，2)，其包括第一或第二导电类型层(1)和第一导电类型漂移层(2)，并且包括具有偏移方向的主表面；沟槽(6)，其设置在所述漂移层上并且具有纵向方向；以及栅极电极(9)，其经由栅极绝缘膜(8)设置在所述沟槽中。所述沟槽的侧壁提供沟道形成表面。所述垂直半导体器件根据施加至所述栅极电极的栅极电压而使电流沿所述沟槽的所述沟道形成表面流动。所述SiC衬底的所述偏移方向垂直于所述沟槽的所述纵向方向。
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公开(公告)号：CN102569367B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110435840.7
申请日：2011-12-22
IPC: H01L29/423 , H01L29/78 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/045 , H01L29/1608 , H01L29/4236 , H01L29/42368 , H01L29/66068 , H01L29/7397
Abstract: 一种SiC半导体器件包括衬底(1)、漂移层(2)、基极区(3)、源极区(4)、沟槽(6)、栅极氧化物膜(7)、栅电极(8)、源电极(9)和漏电极(11)。衬底(1)以Si面作为主表面。源极区(4)具有Si面。从所述源极区(4)的表面到比所述基极区(3)更深的部分提供沟槽(6)，所述沟槽(6)在一个方向上沿纵向延伸并具有Si面底部。所述沟槽(6)至少在与所述基极区(3)接触的部分具有倒锥形形状，该倒锥形形状在入口部分的宽度比底部更小。
