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公开(公告)号:CN104245623B
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201380019399.1
申请日:2013-04-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/447 , C04B35/645 , C23C14/34 , H01M10/0562
CPC classification number: H01J37/3429 , C01D15/00 , C04B35/447 , C04B35/62605 , C04B35/645 , C04B2235/3203 , C04B2235/5436 , C04B2235/658 , C04B2235/72 , C04B2235/76 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C04B2235/81 , C23C14/3414 , H01J2237/332 , H01M10/052 , H01M10/0562
Abstract: 本发明提供一种不会发生靶的裂纹和异常放电,能够稳定地并以高的成膜速度成膜为作为二次电池等的固体电解质有用的含Li磷酸化合物薄膜,兼备高相对密度和微细的晶粒直径,并且抑制了气孔等缺陷(空隙)的含Li磷酸化合物烧结体。本发明的含Li磷酸化合物烧结体具有以下要旨:在烧结体内部的截面1mm2的区域中不存在50μm以上的缺陷,平均晶粒直径在15μm以下,相对密度在85%以上。
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公开(公告)号:CN107636194A
公开(公告)日:2018-01-26
申请号:CN201680031260.2
申请日:2016-05-02
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C23C14/34 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/34 , H01L21/203
Abstract: 本发明为一种溅射靶材组装体,其含有多个载置部,所述多个载置部是配置于底板上,且彼此空开间隔而配置,在各载置部上经由接合材料而配置有一个以上的溅射靶材构件,并且在相邻的所述载置部之间的间隙部中具有Ni基材料的涂层。
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公开(公告)号:CN104619674B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201380047358.3
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34 , H01L21/363
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/64 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/6562 , C04B2235/658 , C04B2235/66 , C04B2235/763 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3491 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,在所述氧化物烧结体的表面观察到的晶粒的平均晶粒直径小于10μm。对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相为主相,InGaZn2O5相为3体积%以下。
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公开(公告)号:CN103298767A
公开(公告)日:2013-09-11
申请号:CN201280005106.X
申请日:2012-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/457 , C23C14/08 , C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3414 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C23C14/086
Abstract: 提供一种氧化物烧结体,其适合用于显示装置用氧化物半导体膜的制造,并兼备高的导电性和相对密度,具有高的载流子迁移率,且能够成膜具有非常优越的面内均匀性的氧化物半导体膜。本发明的氧化物烧结体是将氧化锌、氧化锡、氧化铟的各粉末混合以及烧结而得到的氧化物烧结体,对所述氧化物烧结体进行X线衍射,设2θ=34°附近的XRD峰值的强度由A表示,设2θ=31°附近的XRD峰值的强度由B表示,设2θ=35°附近的XRD峰值的强度由C表示,设2θ=26.5°附近的XRD峰值的强度由D表示时,满足下述式(1):[A/(A+B+C+D)]×100≥70 (1)。
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公开(公告)号:CN104619674A
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201380047358.3
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34 , H01L21/363
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/64 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/6562 , C04B2235/658 , C04B2235/66 , C04B2235/763 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3491 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,在所述氧化物烧结体的表面观察到的晶粒的平均晶粒直径小于10μm。对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相为主相,InGaZn2O5相为3体积%以下。
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公开(公告)号:CN104245623A
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201380019399.1
申请日:2013-04-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/447 , C04B35/645 , C23C14/34 , H01M10/0562
CPC classification number: H01J37/3429 , C01D15/00 , C04B35/447 , C04B35/62605 , C04B35/645 , C04B2235/3203 , C04B2235/5436 , C04B2235/658 , C04B2235/72 , C04B2235/76 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C04B2235/81 , C23C14/3414 , H01J2237/332 , H01M10/052 , H01M10/0562
Abstract: 本发明提供一种不会发生靶的裂纹和异常放电,能够稳定地并以高的成膜速度成膜为作为二次电池等的固体电解质有用的含Li磷酸化合物薄膜,兼备高相对密度和微细的晶粒直径,并且抑制了气孔等缺陷(空隙)的含Li磷酸化合物烧结体。本发明的含Li磷酸化合物烧结体具有以下要旨:在烧结体内部的截面1mm2的区域中不存在50μm以上的缺陷,平均晶粒直径在15μm以下,相对密度在85%以上。
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公开(公告)号:CN104204283A
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201380015355.1
申请日:2013-03-19
CPC classification number: H01J37/3426 , B28B3/025 , C04B35/01 , C04B35/016 , C04B35/26 , C04B35/62695 , C04B35/645 , C04B2235/3203 , C04B2235/3275 , C04B2235/3279 , C04B2235/652 , C04B2235/6567 , C04B2235/663 , C04B2235/72 , C04B2235/77 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01J2237/332 , H01M4/1391 , H01M4/485 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M6/40
Abstract: 本发明提供一种含Li过渡金属氧化物烧结体,其作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内,并且满足相对密度为95%以上以及电阻率小于2×107Ωcm。根据本发明,能够不产生异常放电地、稳定地以高成膜速度成膜为作为二次电池等的正极薄膜来说有用的含Li过渡金属氧化物薄膜。
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公开(公告)号:CN104619673B
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201380047313.6
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: H01L21/363 , C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J2237/3322 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相以规定的比例包含。
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公开(公告)号:CN104619673A
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201380047313.6
申请日:2013-09-10
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/34 , H01L21/363
CPC classification number: H01J37/3429 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3414 , H01J37/3426 , H01J2237/3322 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 一种将氧化锌、氧化铟、氧化镓和氧化锡混合并烧结而得到的氧化物烧结体。所述氧化物烧结体的相对密度为85%以上,对所述氧化物烧结体进行X射线衍射时,Zn2SnO4相和InGaZnO4相以规定的比例包含。
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公开(公告)号:CN103298767B
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201280005106.X
申请日:2012-02-09
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C23C14/08 , C23C14/34 , C04B35/453 , C04B35/457
CPC classification number: C23C14/3414 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C23C14/086
Abstract: 提供一种氧化物烧结体,其适合用于显示装置用氧化物半导体膜的制造,并兼备高的导电性和相对密度,具有高的载流子迁移率,且能够成膜具有非常优越的面内均匀性的氧化物半导体膜。本发明的氧化物烧结体是将氧化锌、氧化锡、氧化铟的各粉末混合以及烧结而得到的氧化物烧结体,对所述氧化物烧结体进行X线衍射,设2θ=34°附近的XRD峰值的强度由A表示,设2θ=31°附近的XRD峰值的强度由B表示,设2θ=35°附近的XRD峰值的强度由C表示,设2θ=26.5°附近的XRD峰值的强度由D表示时,满足下述式(1)[A/(A+B+C+D)]×100≥70···(1)。