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公开(公告)号：CN106206261A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510210383.X
申请日：2015-04-29
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027
CPC classification number: C09D153/00 , C08F293/00 , C08L53/005 , G03F7/0002 , G03F7/002 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/165 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0276 , H01L21/0337 , H01L21/31058 , H01L21/31144 , H01L21/32139
Abstract: 一种形成图案的方法包括：在下面层上形成引导图案，在引导图案和下面层上形成自组装嵌段共聚物(BCP)层，将自组装BCP层退火以形成被交替地且重复地排列的第一聚合物嵌段域和第二聚合物嵌段域，以及选择性地去除第一聚合物嵌段域。引导图案由可显影抗反射材料形成。另外，引导图案彼此间隔开，使得引导图案中的每个的宽度小于引导图案之间的距离。
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公开(公告)号：CN106057651B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201510812017.1
申请日：2015-11-20
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027
Abstract: 一种方法包括：形成模板部来提供围绕第一隔离图案的第一开放沟槽部，以及在基底层上形成柱体阵列；形成包括围绕柱体侧壁的第一隔墙部的隔墙层，以及形成覆盖第一开放沟槽部的侧壁的第二隔墙部；在隔墙层上形成嵌段共聚物层；通过退火嵌段共聚物层来在柱体之间的间隙中形成第一域，以及形成围绕第一域且将第一域分隔开的第二域；通过选择性地去除第一域来形成第二开口；通过选择性地去除柱体和模板部，形成第二开口之间的第三开口，以及形成邻近于第一隔离图案的第四开口；以及形成从第二开口和第三开口延伸并且穿透基底层的第五开口，以及形成从第四开口延伸并且穿透基底层的第六开口。
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公开(公告)号：CN107221492A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201610829332.X
申请日：2016-09-18
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/311
Abstract: 一种形成精细图案的方法包括：在底层之上形成以行和列排列的柱体，并且在底层之上形成间隔件以覆盖柱体。分别覆盖排列在每个行或者每个列中的柱体的间隔件层的部分彼此接触，以提供设置在沿着行方向和列方向之间的对角线方向排列的柱体之间的第一间隙空间，并且以在平面图中第一间隙空间的每个的拐角处设置裂隙。愈合层形成在间隔件层上,以填充第一间隙空间的裂隙。愈合层形成为提供分别位于第一间隙空间中的第二间隙空间，并且包括聚合物材料。
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公开(公告)号：CN106057652A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510821645.6
申请日：2015-11-24
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , B81C1/00
Abstract: 一种形成图案的方法，包括：在层叠在刻蚀目标层上的底层上形成柱的阵列；在柱上形成分隔壁层以提供覆盖柱的侧壁的分隔壁；在分隔壁层上形成嵌段共聚物层；对嵌段共聚物层退火以形成位于柱之间的第一域以及围绕并隔离第一域的第二域；选择性地去除第一域以形成第二开口；选择性地去除柱以形成第四开口；形成从第二开口和第四开口延伸的第五开口以穿透底层；形成密封图案，密封图案覆盖并密封第五开口之中的虚设开口；以及形成第七开口以穿透刻蚀目标层，第七开口从通过密封图案暴露的第五开口延伸。
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公开(公告)号：CN106057651A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510812017.1
申请日：2015-11-20
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027
Abstract: 一种方法包括：形成模板部来提供围绕第一隔离图案的第一开放沟槽部，以及在基底层上形成柱体阵列；形成包括围绕柱体侧壁的第一隔墙部的隔墙层，以及形成覆盖第一开放沟槽部的侧壁的第二隔墙部；在隔墙层上形成嵌段共聚物层；通过退火嵌段共聚物层来在柱体之间的间隙中形成第一域，以及形成围绕第一域且将第一域分隔开的第二域；通过选择性地去除第一域来形成第二开口；通过选择性地去除柱体和模板部，形成第二开口之间的第三开口，以及形成邻近于第一隔离图案的第四开口；以及形成从第二开口和第三开口延伸并且穿透基底层的第五开口，以及形成从第四开口延伸并且穿透基底层的第六开口。
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公开(公告)号：CN106206261B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201510210383.X
申请日：2015-04-29
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027
CPC classification number: C09D153/00 , C08F293/00 , C08L53/005 , G03F7/0002 , G03F7/002 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/165 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0276 , H01L21/0337 , H01L21/31058 , H01L21/31144 , H01L21/32139
Abstract: 一种形成图案的方法包括：在下面层上形成引导图案，在引导图案和下面层上形成自组装嵌段共聚物(BCP)层，将自组装BCP层退火以形成被交替地且重复地排列的第一聚合物嵌段域和第二聚合物嵌段域，以及选择性地去除第一聚合物嵌段域。引导图案由可显影抗反射材料形成。另外，引导图案彼此间隔开，使得引导图案中的每个的宽度小于引导图案之间的距离。
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公开(公告)号：CN106057652B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201510821645.6
申请日：2015-11-24
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , B81C1/00
Abstract: 一种形成图案的方法，包括：在层叠在刻蚀目标层上的底层上形成柱的阵列；在柱上形成分隔壁层以提供覆盖柱的侧壁的分隔壁；在分隔壁层上形成嵌段共聚物层；对嵌段共聚物层退火以形成位于柱之间的第一域以及围绕并隔离第一域的第二域；选择性地去除第一域以形成第二开口；选择性地去除柱以形成第四开口；形成从第二开口和第四开口延伸的第五开口以穿透底层；形成密封图案，密封图案覆盖并密封第五开口之中的虚设开口；以及形成第七开口以穿透刻蚀目标层，第七开口从通过密封图案暴露的第五开口延伸。
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公开(公告)号：CN107221492B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201610829332.X
申请日：2016-09-18
Applicant: 爱思开海力士有限公司
IPC: H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/311
Abstract: 一种形成精细图案的方法包括：在底层之上形成以行和列排列的柱体，并且在底层之上形成间隔件以覆盖柱体。分别覆盖排列在每个行或者每个列中的柱体的间隔件层的部分彼此接触，以提供设置在沿着行方向和列方向之间的对角线方向排列的柱体之间的第一间隙空间，并且以在平面图中第一间隙空间的每个的拐角处设置裂隙。愈合层形成在间隔件层上,以填充第一间隙空间的裂隙。愈合层形成为提供分别位于第一间隙空间中的第二间隙空间，并且包括聚合物材料。
