-
公开(公告)号：CN110621230A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201880024793.7
申请日：2018-12-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司 , 荷兰应用科学研究会(TNO)
IPC: A61B6/00
Abstract: 本发明涉及一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备，所述设备(10)包括：至少两个平面X射线光栅段(11-19)；至少一个对准单元(31-39)，其用于对准至少两个平面X射线光栅段之一；其中，至少两个平面X射线光栅段(11-19)并排布置并形成X射线光栅(20)；其中，至少两个平面X射线光栅段(11-19)均包括用于X射线辐射的光栅表面(41-49)，每个光栅表面(41-49)包括几何中心；其中，光栅表面(41-49)的中每个的法线(21-29)定义公共平面(73)，其中，法线(21-29)与光栅表面(41-49)的几何中心相交；其中，至少两个平面X射线光栅段(11-19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面(73)的轴(131-139)旋转；并且其中，至少两个平面X射线光栅段(11-19)中能绕轴(131-139)旋转的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元(31-39)中的第一对准单元。本发明提供了提供改进的X射线光栅(20)的设备(10)和方法(100)。
-
公开(公告)号：CN112513687A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980042491.7
申请日：2019-11-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司 , 荷兰应用科学研究会(TNO)
Abstract: 本发明涉及一种制造结构化光栅的方法、对应的结构化光栅部件(1)和成像系统。所述方法包括以下步骤：在衬底(20)上提供(110、120、130)催化剂(30)，所述催化剂(20)具有光栅图案；在所述催化剂(30)上生长(140)纳米结构(50)以便基于所述光栅图案来形成壁(52)和沟槽(54)；并且使用X射线吸收材料(70)来填充(160)纳米结构(50)的所述壁(52)之间的所述沟槽(54)。本发明提供一种用于制造结构化光栅的改进的方法和这样的结构化光栅部件(1)，其特别地适合于暗场X射线成像或相衬成像。
-
公开(公告)号：CN110621230B
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN201880024793.7
申请日：2018-12-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司 , 荷兰应用科学研究会(TNO)
IPC: A61B6/00
Abstract: 本发明涉及一种用于将X射线光栅对准到X射线辐射源的设备，所述设备(10)包括：至少两个平面X射线光栅段(11‑19)；至少一个对准单元(31‑39)，其用于对准至少两个平面X射线光栅段之一；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)并排布置并形成X射线光栅(20)；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)均包括用于X射线辐射的光栅表面(41‑49)，每个光栅表面(41‑49)包括几何中心；其中，光栅表面(41‑49)的中每个的法线(21‑29)定义公共平面(73)，其中，法线(21‑29)与光栅表面(41‑49)的几何中心相交；其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中的至少第一平面X射线光栅段能绕垂直于公共平面(73)的轴(131‑139)旋转；并且其中，至少两个平面X射线光栅段(11‑19)中能绕轴(131‑139)旋转的第一平面X射线光栅段连接到至少一个对准单元(31‑39)中的第一对准单元。本发明提供了提供改进的X射线光栅(20)的设备(10)和方法(100)。
-
公开(公告)号：CN111601915A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201880080567.0
申请日：2018-12-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司 , 荷兰国家应用科学研究院
Abstract: 本发明涉及一种用于对用于弧形X射线光栅的阳极元件的阳极氧化的设备，所述设备(10)包括：阳极元件(12)；阴极元件(14)；电解介质(16)；导体元件(18)；以及载体元件(20)；其中，所述阳极元件(12)包括第一侧面(11)和第二侧面(13)，其中，所述第二侧面(13)背对着所述第一侧面(11)；其中，所述载体元件(20)包括沿着围绕曲率中心(30)的圆弧延伸的弧形表面截面(21)；其中，所述载体元件(20)被配置为接收所述阳极元件(12)的所述第二侧面(13)以用于将所述导体元件(18)附接到所述阳极元件(12)的所述第一侧面(11)；其中，所述弧形表面截面(21)被配置为在从所述载体元件(20)卸下所述阳极元件(12)的所述第二侧面(13)之后接收所述导体元件(18)；其中，所述电解介质(16)被配置为连接所述阳极元件(12)与所述阴极元件(14)；其中，所述阴极元件(14)连同所述阳极元件(12)和所述电解介质(16)一起被配置为生成定义平面(31、33、35、37、39)的至少一组电场线(26)，其中，所述组电场线的至少笔直外延(32)与所述曲率中心相交，其中，对所述至少一组电场线(26)的所述生成导致对所述弧形表面截面(21)上的所述阳极元件(12)的阳极氧化。本发明提供了一种避免损坏光栅结构和得到低良率的风险的设备(10)。
-
公开(公告)号：CN112513687B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN201980042491.7
申请日：2019-11-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及一种制造结构化光栅的方法、对应的结构化光栅部件(1)和成像系统。所述方法包括以下步骤：在衬底(20)上提供(110、120、130)催化剂(30)，所述催化剂(20)具有光栅图案；在所述催化剂(30)上生长(140)纳米结构(50)以便基于所述光栅图案来形成壁(52)和沟槽(54)；并且使用X射线吸收材料(70)来填充(160)纳米结构(50)的所述壁(52)之间的所述沟槽(54)。本发明提供一种用于制造结构化光栅的改进的方法和这样的结构化光栅部件(1)，其特别地适合于暗场X射线成像或相衬成像。
